论文摘要
高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用。采用固体样品直接分析的辉光放电质谱法(GDMS),在高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析中有着非常广泛的应用。综述了GDMS法对高纯金属、高纯半导体材料进行的元素分析,并对分析过程中工作参数、溅射时间、干扰峰等因素的影响进行了阐述。同时,也详述了应用GDMS法对高纯金属钛、镉,高纯半导体硅,分别进行的痕量杂质元素分析,结果显示放电稳定性良好,典型元素含量的相对标准偏差均在较为理想范围内。GDMS应用前景广泛,未来,GDMS将在除固体样品之外的其他样品类型的分析领域中发挥重要作用。
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类型: 期刊论文
作者: 王爽,白杉,徐平,王树英,郭雅尘,左文家,张腾月,周渊名,梁雪松,洪梅
关键词: 辉光放电质谱法,高纯金属,高纯半导体,应用
来源: 中国无机分析化学 2019年02期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 化学,材料科学
单位: 锦州市产品质量监督检验所国家光伏材料质量监督检验中心,北京大学化学生物学与生物技术学院
基金: 国家自然科学基金(21671010),深圳市孔雀技术创新项目(KQCX2015032709315529)
分类号: O657.63;TB302
页码: 24-34
总页数: 11
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