论文摘要
在微米尺度开展热扩散阴极热电子发射特征研究,对了解阴极电子发射过程和理解阴极发射机理有一定的参考价值。本文利用深紫外激光光发射/热发射电子显微镜系统,对浸渍钡钨阴极、覆膜浸渍扩散阴极、浸渍钪酸盐阴极以及新型浸渍钪型阴极,开展了光电子、热电子显微成像分析。结果显示,浸渍钡钨阴极的热电子发射区域主要位于表面局部孔隙中;覆膜浸渍扩散阴极的电子发射区域沿孔隙向覆膜的钨颗粒表面延伸,阴极发射面积明显增加;浸渍钪酸盐阴极与新型浸渍钪型阴极表面拥有一定数量的高发射点,浸渍钪酸盐阴极的高发射点几乎都分布在阴极表面的钨颗粒边缘,而新型浸渍钪型阴极的高发射点不仅存在于钨颗粒边缘,同时也出现在部分钨颗粒表面。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 任峰,阴生毅,卢志鹏,李阳,高向阳,金鹤
关键词: 热扩散阴极,光发射电子显微镜,热发射电子显微镜
来源: 真空电子技术 2019年03期
年度: 2019
分类: 信息科技,基础科学
专业: 物理学
单位: 中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室,中国科学院大学
基金: 国家重点研发计划(批准号:2018YFB1105200)
分类号: O462.1
DOI: 10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2019.03.08
页码: 33-37
总页数: 5
文件大小: 581K
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