TiAl合金表面阴极微弧沉积Al2O3陶瓷涂层的生长过程与相组成

论文摘要

利用阴极微弧沉积技术在预处理后的TiAl合金表面制备了Al2O3陶瓷涂层,研究了涂层的生长过程和相组成。采用扫描电子电镜（SEM、EDS）、透射电子电镜（TEM）、X射线衍射（XRD）等方法,对Al2O3涂层的生长过程中的微观形貌、组织成分以及晶体结构的演变进行了研究与分析。结果表明,TiAl合金表面阴极微弧沉积过程中,在阴极表面发生非晶态Al（OH）3的吸附、脱水烧结形成Al2O3陶瓷涂层的沉积。Al2O3涂层生长分前期I、中期II和后期III 3个阶段,前期起弧阻挡层被击穿,涂层生长较慢、组织致密且与基体结合良好;反应中期涂层生长较快,Al（OH）3不断吸附和脱水烧结,涂层结晶度提高;反应后期涂层生长速度变缓,表层组织疏松、多孔,相组成为87.5%的α-Al2O3和12.5%的γ-Al2O3。

论文目录

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 王少青,谢发勤,吴向清,陈连阳,周恺

关键词: 阴极微弧沉积,合金,微观组织结构演化,结晶度

来源: 稀有金属材料与工程 2019年12期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 西北工业大学,西北有色金属研究院

基金: 陕西省科技计划发展项目（2018JZ5004）

分类号: TG174.453

页码: 3883-3888

总页数: 6

文件大小: 1842K

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