论文摘要
由于离子掺杂可有效改善ZnS薄膜的特性,故本研究以溶胶-凝胶法制备NixZn1-xS薄膜（x=0.00, 0.05, 0.10, 0.15）,并利用XRD、PL光谱及磁性测试仪分析Ni掺杂对其磁性的影响.研究结果表明Ni掺杂量x为0.00、0.05、0.10及0.15时薄膜的饱和磁化强度随分别为6.59×10-6emu/cm3、4.61×10-6emu/cm3、3.88×10-6emu/cm3及3.52×10-6emu/cm3,即饱和磁化强度随x增加而减小. PL分析表明缺陷发光强度随x增加而减弱,能隙发光强度则随之增强,结合束缚极化子理论便知饱和磁化强度会随x增加而减小. XRD分析表示结晶品质随x增加而变好,说明薄膜中的缺陷数量会随x增加而减少,使得磁信号无法通过缺陷方式传导而导致其磁性减弱.
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 薛红艳
关键词: 薄膜,掺杂,溶胶凝胶法,磁性,缺陷
来源: 原子与分子物理学报 2019年01期
年度: 2019
分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 材料科学,工业通用技术及设备
单位: 永城职业学院机电工程系
基金: 国家自然科学基金(No.61504029)
分类号: TB383.2
页码: 134-137
总页数: 4
文件大小: 768K
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