基体负偏压及占空比对电弧离子镀CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响

论文摘要

采用电弧离子镀技术在Si基体上沉积了CrN薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面和截面形貌,通过Image-Pro Plus图像处理软件统计扫描电镜图像中大颗粒所占比例及密度。研究了基体负偏压和脉冲占空比对CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响。结果表明,基体负偏压从零升高至500 V时,薄膜表面大颗粒的占比和密度均不断下降,沉积速率降低;脉冲占空比从15%升高至75%时,薄膜表面大颗粒的占比先增加,而后在一定范围内波动,大颗粒密度则先增加后下降。脉冲占空比为15%时,大颗粒占比和密度均较低;脉冲占空比为75%时,大颗粒在薄膜表面的占比最高,但密度最低,表明此时大颗粒的尺寸较大。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 郭朝乾,林松盛,石倩,韦春贝,李洪,苏一凡,唐鹏,汪唯,代明江

关键词: 氮化铬,薄膜,电弧离子镀,基体负偏压,占空比,表面形貌,沉积速率

来源: 电镀与涂饰 2019年13期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室

基金: 广东省科学院创新人才引进资助项目(2018GDASCX-0948),广东省科学院科技提升项目(2017GDASCX-0111)),广东省自然科学基金(2018A030313660),广州市科技计划项目(201904010261),广东省科技计划项目(2017A070701027,2014B070705007)

分类号: TG174.4

DOI: 10.19289/j.1004-227x.2019.13.007

页码: 668-673

总页数: 6

文件大小: 2807K

下载量: 110

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