脉冲激光沉积法制备红外光学SiC薄膜特性研究

论文摘要

采用脉冲激光沉积法在锗基底制备无氢SiC薄膜,研究了激光能量对SiC薄膜显微结构、成分和红外光学性能的影响规律。利用傅里叶红外光谱仪测量了锗基底SiC薄膜样品的红外透射光谱,其在785 cm-1附近有一个强烈Si-C键特征吸收峰,并在红外波数4 000～1 300 cm-1之间具有良好的透过性。通过对透射光谱拟合计算可知:在红外波段2.5～7.7μm之间,SiC薄膜的折射率和消光系数均随着激光能量的增加而增大,折射率大约从2.15上升到2.33,激光能量从400 mJ增加到600 mJ,且当激光能量为400、500 mJ时,消光系数均在10-3量级以内,光学吸收很小。研究表明,SiC薄膜在红外2.5～7.7μm波段是一种优异的光学薄膜材料。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 黄国俊,陆益敏,程勇,田方涛,米朝伟,万强

关键词: 脉冲激光沉积,薄膜,红外光谱,光学性能

来源: 红外与激光工程 2019年07期

年度: 2019

分类: 信息科技,基础科学,工程科技Ⅱ辑

专业: 物理学,工业通用技术及设备,无线电电子学

单位: 陆军工程大学光电技术研究所

基金: 国家自然科学基金(61705268)

分类号: TN249;O484

页码: 144-148

总页数: 5

文件大小: 692K

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