导读:本文包含了刻蚀加工论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:加工,激光,离子束,纳米,技术,微结构,复眼。
刻蚀加工论文文献综述
于磊[1]（2019）在《干法刻蚀辅助飞秒激光加工制备K9玻璃人造复眼》一文中研究指出生物复眼由于其具有宽视场、低像差、高灵敏度和快速运动检测等优势吸引了越来越多的科研人员的关注。人工仿生复眼的制备由于其在军事、工业和临床医学等领域的潜在应用而受到广泛的关注。科研人员研究出各种人工仿生复眼的制备方法,包括平面光刻技术和热回流技术相结合、飞秒激光双光子聚合技术、湿法刻蚀辅助飞秒激光加工技术和热压印技术相结合等微纳结构制备技术。但是这些微纳结构制备技术有着一些缺点,例如,平面光刻技术和热回流技术相结合难以制造叁维弯曲复眼,平面光刻技术在弯曲界面上面临曝光角度无法精准控制,对于下一步热回流技术所需要的光刻胶圆柱体结构无法进行有效制备;飞秒激光双光子聚合技术无法大批量快速制备人工仿生复眼,由于其加工方式为逐点扫描加工,因而对于数量较多的人工仿生复眼结构来说所需时间太长;这些加工技术往往只能制备聚合物人工复眼,由于聚合物本身机械抗力较差、热稳定性较差和化学稳定性差等缺点,因而在一些复杂环境下,聚合物人工仿生复眼的光学性能会受到严重影响,甚至无法发挥应有的作用。这些缺点限制着人造仿生复眼的向前发展。由于硬质材料具有硬度大、高稳定性和化学稳定性强等特点,所以研究硬质材料人工仿生复眼就显得非常重要。本论文提出了干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术和浇铸转写技术相结合的制备方法,实现了表面形貌良好和光学性能好的K9玻璃人工复眼的高效制备。本论文主要研究了干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术制备具有高硬度、高热稳定性和化学稳定性强的蓝宝石凹面复眼模板,利用蓝宝石凹面复眼模板在K9玻璃上转写K9玻璃人工复眼。转写成功后的K9玻璃人工复眼直径为1 cm,高度为2.3 mm。具有超过190000个密集小透镜,每个小透镜的直径为20μm,高度为1.5μm。K9玻璃人工复眼具有良好的成像和聚焦效果,视场角度达到90°。干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术和浇铸转写技术相结合的制备方法将为硬质材料的微纳加工提供新的思路。(本文来源于《吉林大学》期刊2019-06-01）
刘钊成[2]（2019）在《基于微桌面加工系统的深硅刻蚀工艺研究》一文中研究指出反应离子刻蚀(RIE)作为微加工技术中的核心工艺环节,对半导体器件制造有着重要影响。其外延的深反应离子刻蚀(DRIE)结合了物理和化学反应从晶圆表面去除材料的过程,实现对深窄结构的高速蚀刻,成为构筑微机电系统(MEMS)必不可少的工艺环节。当前,基于微桌面的微加工设备作为一个新兴的应用技术正逐渐活跃起来。其中进一步配合微桌面加工系统刻蚀设备,研究开发灵活简单的刻蚀工艺就显得十分重要。本文结合对微桌面加工系统中的刻蚀设备试制,对DRIE工艺进行了研究与探索。具体研究内容如下:(1)对微桌面加工系统中的深硅刻蚀设备进行了结构优化和试制。不同于大型商业化设备,该设备为保持腔室内部结构的灵活性,蚀刻系统被设计成具有改变气体分配喷头,ICP线圈和衬底卡盘组件的间距的能力。设计并研究了多元混合气体对硅刻蚀的影响。(2)研究了 SF6/O2、SF6/C4F8、SF6/Ar叁种二元混合气体对Si刻蚀的影响。研究表明,将02加入SF6中会增加氟自由基的密度进而增大刻蚀速率,同时生成的SixOyFz会钝化基底表面得到各向异性的刻蚀轮廓。最佳的氧气含量是33.3%,刻蚀速率为2.4 μm/min。将适量的C4F8加入SF6中会使刻蚀与钝化形成化学平衡进而得到良好的各向异性轮廓。将Ar加入SF6中可以有效提高刻蚀速率(2.8 μm/min),同时会降低沟槽底部的粗糙度。(3)在二元混合气体刻蚀研究的基础上,研究了 C4F8/SF6/O2叁元混合气体对Si刻蚀的影响。研究表明,将少量的C4F8加入SF6/02混合气体中不仅提高了刻蚀速率(3.5 μm/min),还得到了垂直度较高的侧壁,同时选择比和沟槽底部的光滑度也得到了提高。将Ar加入SF6/C4F8混合气体中仅略微提高了刻蚀速率,但是却降低了各向异性。将Ar加入SF6/02混合气体中提高了刻蚀速率,在Ar含量为30%时,刻蚀速率达到最大3.3 μm/min。Ar的加入也会改善SF6/02刻蚀中出现的“黑硅”现象。(本文来源于《北京有色金属研究总院》期刊2019-04-30）
郭剑,郑雪飞,袁锋伟[3]（2019）在《金属玻璃表面机械刻蚀纳米加工的实验方法》一文中研究指出本文针对金属玻璃,提出一种基于探针机械刻蚀作用的表面纳米加工实验方法 ,应用于金属玻璃纳米加工的探索性与延伸性实验教学,使学生在实践中把握金属玻璃和微纳制造学术前沿,培养创新思维。(本文来源于《课程教育研究》期刊2019年03期）
于磊,杨双宁,刘学青,李德辉[4]（2018）在《离子束刻蚀辅助飞秒激光加工制备碳化硅微光学元件》一文中研究指出为了解决飞秒激光加工硬质材料所带来的表面质量差的问题,提出了离子束刻蚀与飞秒激光复合加工技术.利用飞秒激光加工技术在碳化硅表面制备微纳结构图形,然后通过离子束刻蚀技术对碳化硅微纳结构进行刻蚀,以调控结构的线宽和深度,使结构表面粗糙度由约106nm降低到11.8nm.研究表明,利用该技术制备的碳化硅菲涅尔波带片展现出良好的聚焦和成像效果.(本文来源于《光子学报》期刊2018年12期）
董朝庆[5]（2018）在《可控液滴催化微纳刻蚀加工方法的研究》一文中研究指出在第20届中国科协年会闭幕式上,中国科协发布了12个领域中的60个重大科学问题和重大工程技术难题,其中在先进材料领域中的纳米纤维备受关注。单晶硅纳米线作为一维纳米材料,其优越的机械特性、电光学特性、生化传感特性及热电特性,使其在光学设备、电子设备和生物传感器等方面具有巨大的潜在应用。因此低成本、高效率地制备指定形貌特征的纳米线阵列成为重要的研究热点,本文以国家自然基金“可控液滴催化生长与刻蚀纳米加工方法的研究”(编号:51675141)为基础,主要研究可控液滴催化刻蚀法制备纳米线阵列及加工带有纳米绒毛的微型培养皿和微流道。首先,探究分析银催化刻蚀法制备纳米线阵列中一步法和两步法的刻蚀机理,分别对硅的二、四价溶解模型进行理论分析;同时在对刻蚀溶液的操控中,选择气控微管液滴操控法,基于Young-Laplace方程,建立微管末端、刻蚀液滴和硅基底之间考虑接触角滞后的移动液桥力学模型,理论计算分析出微管末端与硅基底之间液桥力的大小和作用方向。其次,在气控微管液滴操控法的理论研究基础上,结合银催化刻蚀过程的特点和要求,搭建包括气控液滴操控单元、显微视觉成像单元、运动定位单元和并联转角单元在内的可控液滴催化微纳刻蚀加工系统。此外,对基于显微视觉反馈的加工策略及控制方法进行分析,编写轨迹规划界面、检测调控界面和双视成像界面共存的计算机软件,并加入“空载检测”指令来检测微管末端和硅基底之间的距离变化。再次,利用银纳米颗粒作为催化剂对单晶硅进行催化刻蚀实验,制备不同长径比的硅纳米线阵列和改变硅片表面形貌特点。通过实验改变刻蚀条件中的硝酸银浓度、双氧水浓度、刻蚀时间、刻蚀温度及光照等参数,总结分析出各参数对硅纳米线长径比及微纳结构的影响,进而实现形貌控制,最后对刻蚀后的硅片表面进行了反射率测试,实验表明刻蚀后的硅片的表面微纳结构对波长为400~2000nm的光具有显着的减反射效果。最后,利用已搭建的微纳刻蚀加工系统,进行可控液滴催化刻蚀的实验研究。分析可控液滴催化刻蚀的实验机理,通过直写式催化刻蚀和水下催化刻蚀进行加工刻蚀;通过改变应用压强、微管停留时间和微管运动速度参数,总结分析其对点型和线型刻蚀形貌特征的影响;最后根据点型和直线型刻蚀特征制备带有纳米绒毛的微型培养皿和微流道,分析不同刻蚀图案在医学和生物学中的应用。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2018-06-01）
王晓乐[6]（2018）在《基于刀具电极电位调节的GaAs约束刻蚀加工实验研究》一文中研究指出随着光学元件、高速集成电路的发展,改善半导体的制造工艺对未来其应用有着重要的意义。约束刻蚀层技术(Confined Etchant Layer Technique,CELT)作为一种加工GaAs的有效手段,具有无残余应力、无表面二次损伤等多种优点。自提出以来,人们对CELT技术静态加工过程中的溶液浓度、配比、工作距离等方面都有了较深入的研究,但在基于刀具电极电位调节的加工方法的研究方面还需进一步探索。本文首先应用有限元分析软件对基于刀具电极电位调节的加工原理进行了仿真与分析,在现有的电化学理论的基础上建立了刀具电极电位、刀具电极电流、刻蚀深度等几种参数间的关系。在此基础上,进行基于刀具电极电位调节的静态与动态刻蚀实验,得出刀具电极电位与刻蚀深度间呈波尔兹曼关系的具体方程,并得出刀具电极电流的积分值与刻蚀深度呈正比的结论。同时利用刀具电极电位与刻蚀深度间的函数关系,进行正弦曲面加工。在分析加工结果后对加工参数进行了优化,得到了优化加工距离及刻蚀时间后的加工结果。提出基于电流调节的加工方式,在不降低分辨率的前提下解决了理论公式及参数优化过程中存在的由于钝化现象导致的刻蚀深度误差。并利用优化的参数通过基于电流调节的方法进行复杂曲面的加工,得到了较好的复杂曲面。但加工结果中存在失真、分辨率低等缺陷,还需对该方法进行进一步探索与研究。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2018-06-01）
孟新奇[7]（2018）在《一种面向激光刻蚀加工的图案分割系统的研究与实现》一文中研究指出随着激光刻蚀加工技术的逐步发展,大尺寸复杂曲面图案高精高效的加工技术已成为非常重要的技术需求。由于我国激光制造技术起步较晚,同时国外对相关技术进行严密封锁、对相关设备的出口进行严格限制,导致了我国在该领域的技术和装备都相对落后。叁维激光刻蚀加工系统对大尺寸复杂曲面图案的精细制造需要借助于图案分割系统的分割功能——将较大尺寸的图案分割成满足扫描振镜加工需求的小图案,而目前国内所使用的此类图案分割系统仍然依靠从国外进口。因此,自主研发一款面向激光刻蚀加工的图案分割系统,对实现大尺寸叁维复杂曲面图案的完整性加工制造具有重要意义,有利于提升我国高端激光制造技术和装备在国际市场上的竞争力。论文主要围绕着面向激光刻蚀加工的图案分割系统进行研究和实现,对其所需功能、关键技术和实现方法展开了深入的研究。论文首先对课题的相关信息及国内外学者在叁维模型曲面图案加工方面的研究情况进行了总结。其次,分析了系统的主要功能和需求,并对相关的文件格式进行了研究。接着,依据贴图点位的两个搜索条件设计了贴图点位搜索算法,根据图案变换的需要研究了旋转矩阵的相关理论知识,设计了基于区域扩张的分割算法且提出了整体优化的方法,依据图元种类及特点对图案分割算法进行了设计,并给出了高效的反投影方法。然后,根据系统的功能和需求对其做了模块划分且给出了总体功能设计,并对七个核心模块进行了详细设计,最终完成了整个图案分割系统的实现过程。最后,对系统的功能和性能进行了测试,给出了误差分析模型和误差计算过程,并进行了误差分析实验。实验结果表明,论文所实现的图案分割系统完成了预设的所有功能,性能高效,精度达到了误差控制要求,并且叁维图形显示效果良好,参数设置方便,功能操作交互方式友好。实际的现场测试也证明了本系统功能稳定、性能高效且加工效果良好,因此可以用于大尺寸模型曲面图案的处理与加工。(本文来源于《西安电子科技大学》期刊2018-06-01）
吴争光[8]（2017）在《钛合金TC11的“电解—约束刻蚀”复合电化学加工研究》一文中研究指出钛合金具有比强度高,耐蚀性强等良好的综合性能,被广泛应用到航空航天、化工、汽车等领域。但由于其切削性能差,对刀具磨损严重,因此,如何解决钛合金加工问题便成为我们研究的重点。通过电化学加工方法解决上述问题是一种理想的选择,电解加工具有较高的加工效率,但是加工精度较差。约束刻蚀剂层技术是一种新型的微纳米结构加工技术,能够加工出高精度的复杂叁维微结构。本文提出将电解加工技术与约束刻蚀剂层技术相结合,形成一种精密的复合加工技术,即“电解—约束刻蚀”复合电化学加工技术,以实现既有高精度,又有高速度的精密加工技术。论文论述与分析了当前几种复合电解加工技术、电化学微加工技术的原理与发展现状,着重探讨了电解加工技术与约束刻蚀剂层技术的特点,讨论了两种加工技术复合的可能性及必要性。根据二者的原理,论文设计了电解加工技术与约束刻蚀剂层技术的复合方式。当模板电极处于阴极,工件处于阳极时,进行电解加工;当模板电极处于阳极,工件处于阴极时,进行约束刻蚀加工。本文通过双极性电源实现电解加工与约束刻蚀加工的交替进行。论文通过腐蚀失重法,塔菲尔曲线法,循环伏安法确定了钛合金的刻蚀体系。通过循环伏安法研究了F-对NaNO2氧化还原的影响,分析了OH-对H+的捕捉效果。实验首先对钛合金进行了约束刻蚀加工,验证了刻蚀体系的合理性,在刻蚀加工下得到了加工深度为12.659μm的刻蚀孔,加工速率为22.68μm/h。通过正交及单因素实验对复合电解液体系进行了优化,确定了适合复合加工的电解液体系:0.3mol/L NaCl+0.3mol/L NaNO3+0.6 mol/L NaNO2+0.3 mol/L NaF+0.4 mol/L NaOH+0.4g/L苹果酸+0.2g/L十六烷基叁甲基溴化铵。在复合加工条件下下,试样的加工精度为1μm,加工深度为45.396μm,加工速率为81.71μm/h。相比约束刻蚀加工,“电解—约束刻蚀”复合加工技术的加工速率有了很大的提高。论文通过响应曲面研究了电解液温度,加工电压,加工间隙对加工精度的影响,分析了各因素之间的交互作用,确定了较优的参数组合,最佳工艺参数为:电压为1.7v,进给速度为0.17μm/100s,温度为22?C。在该参数组合下加工出精度为0.46μm的刻蚀凹坑,加工深度为55.475μm,加工速率为99.876μm/h。显示了“电解—约束刻蚀”复合加工技术精度高,速率快的特点。论文最后采用约束刻蚀剂层技术对钛合金进行了叁维微结构加工,在钛合金上加工出与模板高度互补的微结构,在高度上的加工精度为0.383μm,相对误差为3.59%;在直径方向上的加工精度为0.912μm,相对误差为0.88%,加工精度达到了亚微米,验证了约束刻蚀剂层技术高分辨率的优点。本文初步对“电解—约束刻蚀”复合加工技术进行了研究,相信经过后期的完善,“电解—约束刻蚀”复合加工技术能够在微结构加工领域得到广泛应用。(本文来源于《南昌航空大学》期刊2017-11-01）
刘学青[9]（2017）在《干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术研究》一文中研究指出近年来,硅、蓝宝石、金刚石等硬质材料的复杂叁维微纳结构在微电子、微光学、微机电系统、生物传感等领域获得越来越广泛的关注。目前常用的制备微纳结构的方法包括平面光刻技术、聚焦电子束、纳米压印、聚焦离子束等微纳米加工技术。利用这些微纳加工技术可以实现复杂结构和器件的高精度制备,加工分辨率已经可以达到几个纳米的量级。这些传统加工方法通常只能加工二维或二维半结构,对于叁维结构的制备较为困难。并且,硬质材料硬度大、稳定性强等特点也使得对其进行微纳加工较为困难,尤其是进行光学级复杂叁维结构的制备更为困难。利用飞秒激光烧蚀技术能够实现对金刚石、蓝宝石和碳化硅等硬质材料进行微纳米结构的制备。然而对于硬质材料的加工,通常需要采用高能量密度激光对材料进行烧蚀,无法实现高速扫描加工。另外,采用高强度激光制备的硬质材料结构表面粗糙度较大,难以满足光学器件对高表面平滑度的要求。针对飞秒激光加工硬质材料面临的加工效率低、表面质量差等问题,本论文提出了利用干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术实现硬质材料叁维微纳结构的高效率、高精度制备。具体提出了叁种方案。一是干法刻蚀辅助飞秒激光多光子聚合图形转移技术实现蓝宝石微凸透镜及螺旋相位板的制备,二是利用干法刻蚀辅助激光改性技术实现硅以及蓝宝石材料微凹透镜阵列的可控制备,叁是利用干法刻蚀辅助灰度激光加工技术实现连续面型硅基叁维微结构的制备。本论文的具体研究工作如下:(1)利用干法刻蚀辅助飞秒激光多光子聚合图形转移技术实现了蓝宝石微结构的制备。探索了飞秒激光加工参数以及ICP刻蚀参数对制备的蓝宝石结构形貌的影响,实现了微圆锥、台阶状结构以及斜面结构等叁维结构的制备,并优化了激光加工以及刻蚀的工艺参数,实现了较好表面质量蓝宝石微凸透镜以及螺旋相位板的制备。验证了干法刻蚀转移飞秒激光多光子聚合制备的光刻胶叁维结构的可行性。(2)利用干法刻蚀辅助飞秒激光改性技术实现硅基微凹透镜阵列的可控制备。提出利用飞秒激光对硬质材料进行改性,形成改性区域与未改性区域的刻蚀速率差,随后利用干法刻蚀实现改性区域的快速刻蚀形成设计的结构制备。通过调节激光脉冲能量、脉冲数、刻蚀时间等参数可以实现对微凹透镜直径以及深度的调控。以硅基微凹透镜阵列为模板实现了蜂窝状密排布PDMS微凸透镜阵列的转写制备。探讨了干法刻蚀辅助飞秒激光改性技术与半导体工艺的兼容性方案,并得到了初步的可行性验证。(3)利用干法刻蚀辅助飞秒激光改性技术实现蓝宝石微凹透镜阵列的可控制备。利用飞秒激光振镜、场镜快速扫描加工实现了厘米级大面积蓝宝石微凹透镜阵列的制备,并利用制备的大面积蓝宝石微凹透镜阵列实现了紫外光束的匀化。最后,利用蓝宝石微凹透镜阵列为模板实现了密排布玻璃微凸透镜阵列的浇铸转写制备,为硬质材料微纳结构的浇铸转写制备提供了新思路。(4)利用飞秒激光加工技术实现了硅表面的可控氧化改性。并结合干法刻蚀实现了微齿轮、微型梳妆驱动器、微米级菲涅尔波带片以及微悬臂梁的制备。在此基础上,通过改变激光脉冲功率、扫描点间距可以调控硅表面氧的含量,实现氧含量的灰度调控。利用干法刻蚀辅助激光灰度直写技术实现了叁阶台阶结构、台阶上立体文字“LASER”、四棱锥、变焦距微透镜阵列结构以及连续面型菲涅耳波带片的制备。验证了干法刻蚀辅助激光灰度直写技术具有加工任意梯度高度叁维结构的能力。综上所述,本论文以解决飞秒激光加工硬质材料加工效率低与表面质量差的问题为出发点,提出了干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术。实现了硅与蓝宝石材料表面微光学元件、微机械结构的可控制备。探索了干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术与半导体工艺相兼容的可行性方案,为飞秒激光微纳加工技术向工业实际应用的发展提供新的思路。(本文来源于《吉林大学》期刊2017-06-01）
姚文港[10]（2017）在《离子束刻蚀辅助飞秒激光加工技术研究》一文中研究指出近二十年以来,飞秒激光直写加工技术在聚合物中的应用受到了科研工作者广泛的关注。相较于车削加工等传统制作工艺,该技术无论在加工精度还是加工复杂度上都有着巨大的优势。其加工精度已经远超光学衍射极限,并且可以在聚合物材料中制作出任意的叁维复杂结构。这是由聚合物的双光子吸收特性决定的,然而对于硬质材料(例如蓝宝石,硅等),飞秒激光直写技术却很难进行叁维结构的加工。本文中提出了一种新的方法,利用离子束刻蚀(IBE)结合飞秒激光加工技术,完成在硬质材料中叁维结构的加工转写。这种方法的核心思想是利用飞秒激光加工技术在聚合物中高超的加工工艺,结合离子束刻蚀对加工材料几乎无局限的特性,从而将聚合物叁维结构转写到硬质材料中。理论上是可以实现的。为了验证该方法的可行性,试验中使用紫外光刻的方法在聚合物材料中制作出掩模图案,离子束刻蚀之后完成了图案往硬质材料内的转写。在实验上证明了其可行性。随后系统详细的探究了离子束刻蚀的参数影响,包括离子能量、束流密度等,并解决了一系列的实验问题,包括光刻胶碳化、表面粗糙和陡直度等问题。之后根据实验结果,设计并用飞秒激光器加工出叁维掩模结构,结合最优参数进行离子束刻蚀。试验最终均在在硅和蓝宝石中转写出预先设计好的叁维结构,转写后的结构轮廓维持良好,形貌光滑清晰,达到了预期效果。该转写方法为材料的加工修饰提供了一种新的手段,无论在理论上还是实验上都有效且可行。希望本文中提出的转写方法能够为更多的科研工作者提供新的灵感,并改进和完善这一方法,同时由此产生更多的研究成果。(本文来源于《吉林大学》期刊2017-06-01）
刻蚀加工论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
反应离子刻蚀(RIE)作为微加工技术中的核心工艺环节,对半导体器件制造有着重要影响。其外延的深反应离子刻蚀(DRIE)结合了物理和化学反应从晶圆表面去除材料的过程,实现对深窄结构的高速蚀刻,成为构筑微机电系统(MEMS)必不可少的工艺环节。当前,基于微桌面的微加工设备作为一个新兴的应用技术正逐渐活跃起来。其中进一步配合微桌面加工系统刻蚀设备,研究开发灵活简单的刻蚀工艺就显得十分重要。本文结合对微桌面加工系统中的刻蚀设备试制,对DRIE工艺进行了研究与探索。具体研究内容如下:(1)对微桌面加工系统中的深硅刻蚀设备进行了结构优化和试制。不同于大型商业化设备,该设备为保持腔室内部结构的灵活性,蚀刻系统被设计成具有改变气体分配喷头,ICP线圈和衬底卡盘组件的间距的能力。设计并研究了多元混合气体对硅刻蚀的影响。(2)研究了 SF6/O2、SF6/C4F8、SF6/Ar叁种二元混合气体对Si刻蚀的影响。研究表明,将02加入SF6中会增加氟自由基的密度进而增大刻蚀速率,同时生成的SixOyFz会钝化基底表面得到各向异性的刻蚀轮廓。最佳的氧气含量是33.3%,刻蚀速率为2.4 μm/min。将适量的C4F8加入SF6中会使刻蚀与钝化形成化学平衡进而得到良好的各向异性轮廓。将Ar加入SF6中可以有效提高刻蚀速率(2.8 μm/min),同时会降低沟槽底部的粗糙度。(3)在二元混合气体刻蚀研究的基础上,研究了 C4F8/SF6/O2叁元混合气体对Si刻蚀的影响。研究表明,将少量的C4F8加入SF6/02混合气体中不仅提高了刻蚀速率(3.5 μm/min),还得到了垂直度较高的侧壁,同时选择比和沟槽底部的光滑度也得到了提高。将Ar加入SF6/C4F8混合气体中仅略微提高了刻蚀速率,但是却降低了各向异性。将Ar加入SF6/02混合气体中提高了刻蚀速率,在Ar含量为30%时,刻蚀速率达到最大3.3 μm/min。Ar的加入也会改善SF6/02刻蚀中出现的“黑硅”现象。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
刻蚀加工论文参考文献
[1].于磊.干法刻蚀辅助飞秒激光加工制备K9玻璃人造复眼[D].吉林大学.2019
[2].刘钊成.基于微桌面加工系统的深硅刻蚀工艺研究[D].北京有色金属研究总院.2019
[3].郭剑,郑雪飞,袁锋伟.金属玻璃表面机械刻蚀纳米加工的实验方法[J].课程教育研究.2019
[4].于磊,杨双宁,刘学青,李德辉.离子束刻蚀辅助飞秒激光加工制备碳化硅微光学元件[J].光子学报.2018
[5].董朝庆.可控液滴催化微纳刻蚀加工方法的研究[D].哈尔滨工业大学.2018
[6].王晓乐.基于刀具电极电位调节的GaAs约束刻蚀加工实验研究[D].哈尔滨工业大学.2018
[7].孟新奇.一种面向激光刻蚀加工的图案分割系统的研究与实现[D].西安电子科技大学.2018
[8].吴争光.钛合金TC11的“电解—约束刻蚀”复合电化学加工研究[D].南昌航空大学.2017
[9].刘学青.干法刻蚀辅助飞秒激光加工技术研究[D].吉林大学.2017
[10].姚文港.离子束刻蚀辅助飞秒激光加工技术研究[D].吉林大学.2017
论文知识图
