石墨靶溅射时间对Ta-C涂层性能的影响

论文摘要

采用脉冲磁控溅射在YG10硬质合金基体上制备Ta-C（Tetrahedral amorphous carbon）涂层,通过控制石墨靶溅射时间制备得到不同性能的Ta-C涂层,采用扫描显微镜、纳米压痕仪以及拉曼光谱仪分析了Ta-C涂层的表面形貌、硬度以及sp3与sp2比例,并选取三个典型参数制备Ta-C涂层铣刀进行干式铣削2A50铝合金实验,验证所选石墨靶溅射时间制备的Ta-C涂层的优劣。结果表明:随着石墨靶溅射时间从40 min到80 min逐渐增加,Ta-C涂层的表面形貌质量、硬度、sp3含量以及切削性能呈现先上升后下降的趋势,石墨靶溅射时间55 min制备的Ta-C涂层综合性能最好,硬度达到86.9 GPa,sp3含量较高。石墨靶不同溅射时间制备的Ta-C涂层表面形貌、硬度以及sp3与sp2比例有较大差别,选择合适的溅射时间制备Ta-C涂层工件至关重要,本项研究中石墨靶溅射55 min制备的Ta-C涂层综合性能最优,使用寿命最长,切削性能最好。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 黄彪,张而耕,周琼,陈永康

关键词: 涂层,类金刚石涂层,表面形貌,硬度,摩擦磨损,切削性能

来源: 陶瓷学报 2019年03期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 上海应用技术大学上海物理气相沉积(PVD)超硬涂层及装备工程技术研究中心

基金: 上海市科委重点支撑计划(170905038000)

分类号: TG174.4

DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2019.03.008

页码: 318-324

总页数: 7

文件大小: 1525K

下载量: 95

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