导读:本文包含了碳氮膜论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:薄膜,金刚石,离子束,磁控溅射,等离子体,偏压,细胞。
碳氮膜论文文献综述
唐晓龙[1]（2016）在《非晶碳氮膜的制备及其摩擦磨损性能的研究》一文中研究指出非晶碳氮薄膜具有许多优异的性能,如高硬度、极低的摩擦系数、化学惰性及可控的电导性等,在许多领域具有巨大应用前景,因此,开展非晶碳氮薄膜的研究具有重要的实际意义。本文主要开展了两个方面的研究,一是不同粒子在薄膜表面的吸附性能的研究,二是利用射频磁控溅射法制备非晶碳氮薄膜并对薄膜结构成分和各项性能进行研究,本文主要研究结论如下:(1)利用Material Studio软件对N、N2和CN团簇在硅表面及石墨表面进行化学吸附仿真研究。结果表明N2分子在硅表面及石墨表面都不产生化学吸附,N原子和CN基团在硅表面及石墨表面均能产生化学吸附,而N原子在两个表面均具有非常大的吸附能力。说明在制备非晶碳氮薄膜时,仅仅提高氮气分压可能对增加薄膜的含氮量作用有限,提高氮气的离化率以产生更多活性N原子是提高薄膜中氮的含量有效手段。(2)采用射频磁控溅射法制备非晶碳氮薄膜,研究氮气分压、基底偏压和基底温度对碳氮薄膜的结构成分及力学性能的影响。发现氮气分压的增加,薄膜的表面粗糙度增加,薄膜发生sp3键向sp2键的石墨化转变,薄膜中的氮含量在氮气分压达到25%后增长缓慢,薄膜的硬度、弹性模量及内应力均减小。随着基底偏压的增加,薄膜表面变的平整致密,拉曼光谱表明薄膜中的sp3键的含量先增大后减小,薄膜的硬度和弹性模量变化趋势和sp3键的含量变化趋势一致。基底温度升高,薄膜表面粗糙度降低,高的基底温度会使薄膜的sp3键含量减小,力学性能恶化,本节优化后的基底偏压和温度分别为-50V和150℃。(3)对制备的非晶碳氮膜开展摩擦磨损性能的研究,发现随着氮气分压的增大,薄膜的摩擦系数和磨损率均增大;随着基底温度增加,薄膜的摩擦系数和磨损率均减小;随着施加载荷的增加,制备薄膜的摩擦系数减低,磨损率下降,但载荷过大,薄膜的磨损寿命降低,对磨速度增加时薄膜的摩擦系数和磨损率减小。(本文来源于《南京航空航天大学》期刊2016-03-01）
姜宏伟,黄海亮,彭鸿雁,李聪,张辉霞[2]（2015）在《直流热阴极PCVD法间歇生长模式制备碳氮膜》一文中研究指出采用直流热阴极等离子体化学气相沉积(PCVD)法间歇生长模式,在(100)硅片上、CH_4+N_2+H_2气氛下生长了氮化碳薄膜。薄膜样品用XRD、SEM和Raman光谱仪进行了表征,其中XRD图谱显示,碳氮膜主要由β-C_3N_4晶相组成。实验表明,采用直流热阴极PCVD间歇生长工艺,并提供类似晶格结构作为生成C-N键的诱导,可以制备出具有β-C_3N_4晶相的纳米碳氮膜。(本文来源于《材料导报》期刊2015年S2期）
赵梦鲤,李德军,董磊,刘小绮,曹叶[3]（2014）在《N/C对碳氮膜修饰的多壁碳纳米管细胞相容性的影响》一文中研究指出为改善碳纳米管的细胞相容性,通过离子束辅助沉积方法在由化学气相沉淀法制备的多壁碳纳米管表面沉积纳米厚度的碳氮膜以进行表面修饰.通过观察L929小鼠肺部成纤维细胞、EAHY926人内皮细胞和兔血红细胞在修饰前后的碳纳米管表面的黏附和生长状态可知,沉积CNx膜的多壁碳纳米管的细胞相容性优于沉积前,表现出良好的生命活性和增殖状态,同时,较高的N/C比有利于细胞在沉积CNx膜碳纳米管表面的增殖和生长以及细胞形态的伸展.(本文来源于《天津师范大学学报(自然科学版)》期刊2014年03期）
赵梦鲤,李德军,董磊,刘小绮,曹叶[4]（2014）在《不同N/C比纳米碳氮膜对多壁碳纳米管抗凝血性能的影响》一文中研究指出为改善多壁碳纳米管(multi-walled carbon nanotubes,MWCNTs)材料的抗凝血性能,采用离子束辅助沉积(ion beam assisted deposition,IBAD)技术,在MWCNTs表面沉积不同N/C比的纳米碳氮(CNx)薄膜.利用扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)、X线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy analysis,XPS)、接触角测试、血小板黏附测试和动态凝血时间测试等方法研究了该材料结构特征、生物相容性与制备工艺参数之间的关系.SEM结果显示覆盖CNx薄膜的MWCNTs的表面形貌更加平整.XPS结果表明:沉积CNx薄膜的MWCNTs中,N/C比分别为0.20、0.21和0.27,其中N和C两元素之间以sp2和sp3两种杂化方式结合.血液实验结果表明:随着亲水性的增强和N/C比率的增高,沉积CNx薄膜的MWCNTs显示出较好的抗凝血性,其血小板黏附率低,在材料表面团聚少,凝血时间长.(本文来源于《天津师范大学学报(自然科学版)》期刊2014年02期）
赵梦鲤,李德军,郭美仙,张艺腾,邓湘云[5]（2012）在《类金刚石膜和不同氮含量碳氮膜的血液相容性比较》一文中研究指出室温条件下,采用直流磁控溅射方法在单晶Si表面沉积碳氮(CNx)和类金刚石(DLC)薄膜,并通过改变氮气分压合成出不同氮含量的CNx薄膜.俄歇电子能谱(AES)结果显示,两种CNx膜中氮和碳含量的原子百分比分别为0.12和0.22.原子力显微镜(AFM)观察发现,CNx薄膜表面粗糙度小于DLC薄膜,且含氮量越高,CNx膜表面越光滑.3种材料的体外血液接触实验表明,CNx膜的血液相容性整体优于DLC薄膜,并且氮和碳含量的原子百分比为0.22的CNx膜的血液相容性最好,它比含氮量低的CNx膜表现出更长的动态凝血时间(42min)、静态凝血时间(23.6min)、覆钙时间(45.6s)和更低的血小板黏附量(102细胞/μm2).结果表明,加入N元素有利于提高碳薄膜的血液相容性.(本文来源于《中国科学:生命科学》期刊2012年04期）
唐见波[6]（2008）在《化学气相沉积碳氮膜及金刚石膜的研究》一文中研究指出超硬材料是材料科学研究的热门课题之一。氮化碳作为一种理论推算出的新型超硬材料已成为近几年研究的焦点,金刚石是超硬材料中研究比较成熟的一类。本工作主要有两个部分:(1)利用自行研制的直流等离子体化学气相沉积设备在Si(111)面上沉积氮化碳薄膜;(2)以碳纳米管(CNT)为形核剂,利用自行研制的热丝化学气相沉积设备在Si(111)面上沉积金刚石薄膜。对试验制得的膜层运用扫描电镜(SEM)、X射线能谱仪(EDX)和X射线衍射仪(XRD)、红外光谱仪(FRIT)、拉曼光谱仪(RAMAN)等测试手段进行检测。氮化碳薄膜的测试结果表明:本实验条件下可以得到致密均匀的膜层,膜层中含有β-C_3N_4、α-C_3N_4及其它的碳氮化合物,在此基础上研究了各项工艺参数,包括气体流量比、放电功率、反应压强等对膜层性能的影响。发现在一定范围内随着N2在反应气体中百分含量的增加,得到的膜层N元素的含量也增大;提高放电功率有助于增大膜层沉积速率;一定范围内较高的沉积压强得到的膜层比较致密均匀。本文还研究了利用热丝化学气相沉积法在Si(111)上沉积金刚石膜的工艺规律和特点。研究结果表明,碳纳米管在促进金刚石形核过程中,形核密度比在普通研磨硅片上的高,沉积得到的金刚石膜致密均匀。在此基础上讨论了各项工艺参数对膜层生长的影响。并对CNT形核生长金刚石和金刚石纳米管的过程进行了探讨。(本文来源于《青岛科技大学》期刊2008-06-02）
张连军[7]（2007）在《碳氮膜涂层刀具干式切削硅铝合金的试验研究》一文中研究指出用碳氮膜涂层刀具对硅铝合金棒进行了干式切削试验,通过对加工表面粗糙度和刀具耐用度的研究,探讨其切削性能。(本文来源于《机械管理开发》期刊2007年06期）
赵济美[8]（2007）在《热丝化学气相沉积金刚石膜及碳氮膜的研究》一文中研究指出本文主要以乙醇为碳源，在热丝化学气相沉积设备中制备金刚石薄膜。围绕金刚石薄膜的形核与生长，研究了乙醇用量、基体温度、反应压强对金刚石薄膜的形核密度、沉积速率和表面形貌的影响。本文运用正交实验研究了在乙醇用量为3.0-5.1 cm~3(形核)，16.9—29.5 cm~3(生长)、氢气流量为200 sccm、基体温度为710-860℃、沉积压强为2.0-5.0 KPa、沉积时间为0.25-6 h等一系列条件下金刚石薄膜的形核和生长。运用扫描电子显微镜和X-射线衍射谱仪对金刚石薄膜进行了分析。因为乙醇的分解温度要低于甲烷的分解温度，以乙醇为碳源所制备的金刚石薄膜的形核时间要比甲烷为碳源所需要的形核时间短。在氢气流量为200 sccm、基体温度810℃、反应压强4.0 KPa，无基体偏压的条件下，以乙醇为碳源时，形核15 min，其形核密度达到10~(12)cm~(-2)；而以甲烷为碳源时，形核30 min，其形核密度仅达到10~8cm~(-2)。在生长阶段，以乙醇为碳源所制备的金刚石薄膜的沉积速率要高于甲烷为碳源所制备的金刚石薄膜的沉积速率。本实验得到以下结果：用乙醇制备金刚石薄膜的最佳形核条件为：乙醇用量为3.8 cm~3(0.5h)、氢气流量为200 sccm、基体温度为810℃、沉积压强为3.0KPa；乙醇制备金刚石薄膜的最佳工艺条件为：乙醇用量为25.3 cm~3(4h)、氢气流量为200 sccm、基体温度为860℃、沉积压强为3.0 KPa。另外，我们利用化学气相沉积方法，对碳氮膜的制备进行了初步的探讨。我们通过等离子化学气相沉积方法制备碳氮薄膜，通过能量分散谱仪分析了实验样品，确定了在沉积薄膜中含有氮元素。(本文来源于《青岛科技大学》期刊2007-06-11）
蔡长龙,弥谦,马卫红,梁海锋,严一心[9]（2006）在《偏压对MCECR溅射碳氮膜特性的影响》一文中研究指出用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了碳氮膜(CNx),膜层厚度约80 nm.采用Ar/N2等离子体溅射纯石墨靶,研究了基片偏压对CNx膜机械特性和微观结构的影响,详细分析了基片偏压对CNx膜性能影响的机理.实验结果表明,当基片偏压为+30 V时,CNx膜层性能良好,硬度约为31.48 Gpa,摩擦系数约为0.14,磨损率为6.75×10-15m3/m,系数x接近于4/3.(本文来源于《西安工业大学学报》期刊2006年03期）
李建,刘艳红,俞世吉,马腾才[10]（2004）在《等离子体技术在碳氮膜制备中的应用》一文中研究指出β-C3N4是Cohen等人从理论上预言的一种可能比金刚石更硬的物质,含有β-C3N4的碳氮膜具有优异的电学、光学和机械特性,在很多领域有应用前景。人们已经应用多种方法进行碳氮膜的制备。本文将对等离子体技术在碳氮膜制备中的应用进行综述,并在成膜速率、成膜质量等方面,对以往工作成果进行论述;最后将讨论沉积过程中几个参量对碳氮膜沉积速率、膜结构等的影响。(本文来源于《真空》期刊2004年02期）
碳氮膜论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
采用直流热阴极等离子体化学气相沉积(PCVD)法间歇生长模式,在(100)硅片上、CH_4+N_2+H_2气氛下生长了氮化碳薄膜。薄膜样品用XRD、SEM和Raman光谱仪进行了表征,其中XRD图谱显示,碳氮膜主要由β-C_3N_4晶相组成。实验表明,采用直流热阴极PCVD间歇生长工艺,并提供类似晶格结构作为生成C-N键的诱导,可以制备出具有β-C_3N_4晶相的纳米碳氮膜。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
碳氮膜论文参考文献
[1].唐晓龙.非晶碳氮膜的制备及其摩擦磨损性能的研究[D].南京航空航天大学.2016
[2].姜宏伟,黄海亮,彭鸿雁,李聪,张辉霞.直流热阴极PCVD法间歇生长模式制备碳氮膜[J].材料导报.2015
[3].赵梦鲤,李德军,董磊,刘小绮,曹叶.N/C对碳氮膜修饰的多壁碳纳米管细胞相容性的影响[J].天津师范大学学报(自然科学版).2014
[4].赵梦鲤,李德军,董磊,刘小绮,曹叶.不同N/C比纳米碳氮膜对多壁碳纳米管抗凝血性能的影响[J].天津师范大学学报(自然科学版).2014
[5].赵梦鲤,李德军,郭美仙,张艺腾,邓湘云.类金刚石膜和不同氮含量碳氮膜的血液相容性比较[J].中国科学:生命科学.2012
[6].唐见波.化学气相沉积碳氮膜及金刚石膜的研究[D].青岛科技大学.2008
[7].张连军.碳氮膜涂层刀具干式切削硅铝合金的试验研究[J].机械管理开发.2007
[8].赵济美.热丝化学气相沉积金刚石膜及碳氮膜的研究[D].青岛科技大学.2007
[9].蔡长龙,弥谦,马卫红,梁海锋,严一心.偏压对MCECR溅射碳氮膜特性的影响[J].西安工业大学学报.2006
[10].李建,刘艳红,俞世吉,马腾才.等离子体技术在碳氮膜制备中的应用[J].真空.2004
论文知识图
