多弧离子镀的工艺参数对TiAlN膜层性能的影响

多弧离子镀的工艺参数对TiAlN膜层性能的影响

论文摘要

研究了直流偏压、脉冲偏压、占空比、弧电流和氮气流量对多弧离子镀制备TiAlN涂层结合力和硬度的影响。结果表明,影响TiAlN涂层结合力的因素按重要性排序依次为脉冲偏压、占空比、弧电流、氮气流量、直流偏压。影响TiAlN涂层显微硬度的因素按重要性排序依次为占空比、脉冲偏压、弧电流、氮气流量和直流偏压。

论文目录

  • 1 涂层制备与性能测试方法
  • 2 正交实验结果与分析
  •   2.1 各参数对TiAlN涂层结合力的影响分析
  •     2.1.1 直流偏压
  •     2.1.2 脉冲偏压
  •     2.1.3 占空比
  •     2.1.4 弧电流
  •     2.1.5 氮气流量
  •   2.2 各工艺参数对涂层硬度的影响
  •     2.2.1 直流偏压
  •     2.2.2 脉冲偏压
  •     2.2.3 占空比
  •     2.2.4 弧电流
  •     2.2.5 氮气流量
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 陈扬枝,万玉林,吕月玲

    关键词: 工艺参数,多弧离子镀,正交实验

    来源: 热加工工艺 2019年12期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 金属学及金属工艺

    单位: 华南理工大学机械与汽车工程学院,清华大学摩擦学国家重点实验室

    基金: 国家自然科学基金资助项目(51575191),清华大学摩擦学国家重点基金项目(SKLTKF17BB04),中央高校项目(2017B0071,2018PY12)

    分类号: TG174.4

    DOI: 10.14158/j.cnki.1001-3814.2019.12.024

    页码: 103-107

    总页数: 5

    文件大小: 420K

    下载量: 254

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