液相法在Si基底上沉积非晶碳膜

液相法在Si基底上沉积非晶碳膜

论文摘要

液相法以成本低、制备工艺简单等特点成为制备非晶碳膜的热点。然而适合工业化生产的制备工艺参数尚不明确。以Si单晶为基底,通过液相沉积法在Si表面制备非晶碳膜,并研究了沉积电压与其摩擦学性能之间的关系。研究结果表明,在1 800V下所制备的非晶碳膜表面光滑平整、硬度最高。此时非晶碳膜的干摩擦系数最小,耐磨性最强,具有良好的摩擦学性能。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 实验
  •   1.1 基底清洗
  •   1.2 非晶碳膜的液相沉积
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 非晶碳膜的硬度
  •   2.2 非晶碳膜表面粗糙度
  •   2.3 非晶碳膜的摩擦学性能
  •   2.4 非晶碳膜的表面形貌
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 罗清威,焦菲,邹祥宇,王玉梅

    关键词: 非晶碳膜,液相法,摩擦学性能,沉积电压

    来源: 功能材料 2019年01期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 陕西理工大学材料科学与工程学院

    基金: 国家自然科学基金资助项目(51504147),汉中市科技攻关资助项目(2013hzzx-53),陕西理工大学人才引进资助项目(SLGQD13(2)-16)

    分类号: TB383.2

    页码: 1174-1177

    总页数: 4

    文件大小: 928K

    下载量: 76

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