论文摘要
化学气相沉积法(chemical vapor deposition,CVD)是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术,具有制备温度低、所得材料均匀致密、可实现近尺寸成型等优点,是制备功能材料的常用方法之一。本文综述了几种常见的CVD方法,如常压化学气相沉积(atmospheric pressure chemical vapor deposition,APCVD)、低压化学气相沉积(low pressurechemicalvapordeposition, LPCVD)、等离子体增强化学气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapor deposition,PECVD)以及激光辅助化学气相沉积(laser assisted chemical vapor deposition,LACVD);重点阐述了采用LPCVD在较低温度下制备SiCN陶瓷吸波剂的工艺参数,提出了LPCVD是制备新型吸波陶瓷的主要方法。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 穆阳阳,涂建勇,薛继梅,叶昉,成来飞
关键词: 陶瓷,吸波剂,吸波性能
来源: 航空材料学报 2019年03期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑
专业: 材料科学
单位: 西北工业大学超高温结构复合材料国防科技重点实验室
基金: 国家杰出青年科学基金(51725205)
分类号: TB34
页码: 1-9
总页数: 9
文件大小: 2494K
下载量: 308
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