导读:本文包含了激光化学论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:激光,化学,气相,薄膜,超导,卤化物,纳米材料。
激光化学论文文献综述
涂溶,章嵩,后藤孝,张联盟[1]（2019）在《激光化学气相沉积技术制备功能陶瓷薄膜与涂层》一文中研究指出碳化硅(SiC)因其独特的物理和化学性质,例如宽禁带、高热导、高硬度和抗氧化性,而得到广泛应用。化学气相沉积(CVD)是制备SiC膜最重要且有效的方法之一,为了提高其沉积速率,我们将高功率连续激光引入CVD工艺,开发了一种新型激光CVD。使用六甲基乙硅烷(HMDS)和四氯硅烷(SiC14)等作为前驱体,采用冷壁式激光CVD法,将激光光斑直接照射到基板上制备SiC膜。激光功率和总压力分别为0～500 W和0.4～40 kPa,研究了各沉积条件对SiC膜的沉积速率、微观结构、晶相、择优取向和维氏硬度等的影响,最高沉积速率达到3.6 mm/h。本研究团队还采用激光CVD法制备了高温超导涂层、硬质涂层、生物陶瓷涂层、铁电薄膜及离子导体薄膜等。(本文来源于《第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集》期刊2019-11-28）
张伟,陈小英,马永生,付婉霞,王磊[2]（2019）在《激光化学气相沉积法在TFT-LCD电路缺陷维修中的应用》一文中研究指出为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)_6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响,再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底损伤越大,但电阻率越小,且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤;激光辐射速度越大,基底损伤越小,但电阻率越大。通过平衡工艺参数,得到了电阻率为0.96Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜,成分分析表明此时W(CO)_6已经完全裂解。(本文来源于《液晶与显示》期刊2019年08期）
华佐豪,郭宁,毛成立,杨劲松[3]（2019）在《激光化学微推进技术研究进展》一文中研究指出为加快激光化学微推进技术在航天领域的应用,介绍了该项技术近10年的发展状况。讨论了激光化学微推进技术发展过程中衍生出的各种工作模式,并简略分析了不同工作模式的优缺点。着重介绍了靶材设计、推进工作模式和激光器选型3种关键技术对激光微推进性能的影响。该项技术的最终发展目标是研制微小卫星姿轨控的微推力器,介绍并分析了国内外团队在激光化学微推进技术中的研究进展。指出了激光化学微推进技术目前存在的一些问题,并展望了其发展前景。(本文来源于《上海航天》期刊2019年S1期）
丁瑞堂,孙树峰,刘庆玉,邵晶[4]（2019）在《激光化学复合抛光工艺参量对304不锈钢性能的影响》一文中研究指出为了提高304不锈钢表面抛光质量,采用激光化学复合抛光的方法分别在纯净水和抛光液中对304不锈钢进行抛光实验研究,并对1064nm激光的加工功率和扫描次数对加工区域表面形貌和表面质量的影响进行了分析。气泡对抛光液在不锈钢表面形成的钝化膜产生破坏作用,造成抛光效果不均匀,表面粗糙度增大。结果表明,在抛光液中的激光抛光在抑制表面氧化发黑的同时,能够显着改善表面形貌,表面粗糙度由0.845μm下降到0.181μm;激光化学复合抛光304不锈钢表面质量与抛光功率和扫描次数有密切关系;当抛光功率过高或者扫描次数过大时,304不锈钢表面会产生大量气泡。采用激光化学复合抛光,可以提高不锈钢抛光质量、减少环境污染,该方法具有极大的应用前景。(本文来源于《激光技术》期刊2019年03期）
丁瑞堂[5]（2018）在《工艺参数对激光化学复合抛光304不锈钢性能影响的研究》一文中研究指出激光化学复合抛光由于将激光抛光与化学抛光相结合,具有抛光效率高,抛光速率易控、抛光表面光滑等优点,得到较为广泛的研究和应用。本文采用激光化学复合抛光工艺对304不锈钢进行抛光,并与水辅助激光抛光304的抛光效果进行实验对比。本文主要使用钇铝石榴石1064nm远红外激光器对304不锈钢开展水辅助激光抛光实验。并对抛光后表面粗糙度和表面高度差进行了测量,通过对比实验过程中表面粗糙度的变化分析水层厚度和激光参量对该材料的抛光效果影响规律。经过水辅助激光抛光后,304不锈钢抛光区域表面粗糙度Ra降低,材料表面划痕和表面缺陷得到一定的去除,金属表面更加光滑。但是抛光完成后仍存在表面发黑现象,这与激光的热效应有关。实验结果发现,水层厚度为2mm,激光器功率为20W,扫描次数为100次,激光扫描速度为800mm/s,激光重复频率为200kHz时可得到最优抛光效果,表面粗糙度Ra最小为0.151μm。同时,本文对304不锈钢进行了激光化学复合抛光实验,通过对比实验过程中表面粗糙度和表面形貌的变化分析了激光参量对抛光效果的影响规律。在进行激光化学复合抛光时,由于激光与化学腐蚀的耦合作用,当激光照射金属材料表面时,光能被吸收后转化为热能使抛光液温度迅速升高,从而可以加速抛光液的化学反应。抛光液离材料界面越近,温度梯度越大。这种温度平衡的打破产生强烈的对流,把更多的反应离子带到反应区域,而反应产物则被带离反应区域,使抛光区域的溶液不断得到更新,因此大大提高了化学反应速度。实验结果发现,当激光器功率为20W,扫描次数为140次,激光扫描速度为800mm/s,激光重复频率为200kHz时的抛光效果最好,表面粗糙度为0.139μm。相比于水辅助激光抛光,激光化学复合抛光在抑制表面氧化的同时,能够显着降低表面粗糙度。经过激光化学复合抛光后304不锈钢表面光滑,表面粗糙度降低明显。利用激光化学复合抛光技术可以实现对304不锈钢更加高效率、高质量的表面抛光。(本文来源于《青岛理工大学》期刊2018-12-01）
吴慰,张琼,苏轼,赵培[6]（2018）在《激光化学气相沉积法制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜》一文中研究指出采用激光化学气相沉积法在(100)取向Al_2O_3衬底上制备了第二代高温超导YBa_2Cu_3O_(7-δ)(YBCO)薄膜,研究了前驱体Y(DPM)3、Ba(DPM)2、Cu(DPM)2的蒸发温度对YBCO薄膜成分的影响规律。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、背散射电子显微镜对薄膜进行了表征。结果表明:制备的YBCO薄膜样品成分中含有以下化合物:YBCO、CuYO_2、Cu_2O、Cu_4O_3、Y_2O_3、CuO、CuBaO_2、BaY2O_4、Ba_2Cu_3O_x。在激光功率为130 W,沉积温度为1 123 K,腔体压强为1 kPa,前驱体蒸发温度分别为TY=453 K、TBa=603 K和TCu=453 K的条件下制得成分较单一的c-轴取向YBCO薄膜。同时结果表明载流气Ar气的流速对薄膜成分存在一定影响。(本文来源于《武汉工程大学学报》期刊2018年05期）
程洪[7]（2018）在《卤化物激光化学气相沉积法快速制备3C-SiC厚膜》一文中研究指出3C-SiC因具有低的密度和热膨胀系数,高的热导率和熔点,耐热冲击、腐蚀和氧化等优异性能而成为一种非常有应用前景的功能材料。化学气相沉积法(CVD)通常被用于制备SiC薄膜材料,但传统CVD如热壁式或冷壁式CVD(HWCVD/CWCVD)、低压CVD(LPCVD)和等离子体CVD(PECVD)较低的沉积速率增加了制备SiC厚膜的成本。红外激光CVD因具有高的沉积速率而被广泛用于快速制备厚膜材料。在CVD沉积3C-SiC所用的多种前驱体中,卤化物前驱体SiCl_4由于具有低的成本和高的沉积速率而受到人们青睐。因此本文结合红外激光CVD和卤化物前驱体SiCl_4的优势开发出卤化物激光CVD(HLCVD)技术来快速制备3C-SiC厚膜。相对于晶粒尺寸较大的3C-SiC块体材料,微晶3C-SiC具有更为优异的力学、电学和光学性能。微晶3C-SiC薄膜通常由热丝CVD、PECVD和光解CVD等方法在低温下制备。由于这些方法的沉积速率较低,难以得到3C-SiC厚膜,从而限制了微晶3C-SiC的应用。卤化物红外激光CVD可以快速制备3C-SiC厚膜,但随着3C-SiC膜厚度的增加,平均晶粒尺寸也增长到数十或数百微米。在光解CVD中,紫外脉冲激光通常被用于在低温下沉积3C-SiC薄膜。此外紫外脉冲激光还可用于3C-SiC的表面处理。当用紫外脉冲激光照射3C-SiC基板时,3C-SiC表面会形成细小结构。为了快速制备微晶3C-SiC厚膜,本文将红外连续激光CVD和紫外脉冲激光CVD组合成混合激光CVD。本论文的研究内容和主要结论如下:在沉积温度为1673 K,沉积压力10 kPa时,以SiCl_4-CH_4-H_2为前驱体,采用卤化物激光CVD在不同碳硅比下(R_(C/Si))制备3C-SiC厚膜。在R_(C/Si)≤0.75时得到连续3C-SiC厚膜,R_(C/Si)=1.0时得到岛状的不连续3C-SiC厚膜。在R_(C/Si)≤0.5时,得到单相的3C-SiC厚膜,当R_(C/Si)≥0.75时,得到含游离碳的3C-SiC厚膜,在R_(C/Si)=1.0时,3C-SiC厚膜密度明显下降。采用卤化物激光CVD在不同沉积压力(P_(tot))和温度(T_(dep))下制备了高择优取向3C-SiC厚膜。沉积压力和温度对3C-SiC厚膜择优取向影响较大。在较高沉积温度(T_(dep)>1473 K)和低沉积压力(P_(tot)≤4 kPa)下得到<110>取向的3C-SiC厚膜,在高沉积压力时(10-40kPa)时得到<111>取向的3C-SiC厚膜,在中等沉积温度和压力条件下得到随机取向的3C-SiC厚膜。<111>和<110>取向3C-SiC厚膜的最大沉积速率分别为3600和1300μm/h。在沉积温度为1623 K时,采用卤化物红外激光CVD在不同沉积压力下快速制备了透明3C-SiC厚膜。随沉积压力的升高,3C-SiC厚膜的透过率先升高后降低。沉积压力为10 kPa时,得到高<111>取向和低缺陷密度的3C-SiC厚膜,此时3C-SiC厚膜透过率达到最大,在800-1100 nm的波长范围内透过率超过55%。3C-SiC厚膜的透过率主要受弱择优取向和缺陷的影响。沉积压力为4和20 kPa时,由于3C-SiC厚膜中含有大量弱择优取向的晶粒和缺陷,所以透过率较低。在沉积压力为4 kPa,沉积温度分别为1523和1623 K时将紫外脉冲激光CVD和红外连续激光CVD组成混合激光CVD快速制备了微晶3C-SiC厚膜。红外连续激光CVD沉积的3C-SiC厚膜的晶粒尺寸范围为4-100μm,而混合激光沉积的3C-SiC厚膜的晶粒尺寸范围为0.5-5.5μm。由于混合激光沉积的微晶3C-SiC厚膜晶粒尺寸较小,所以混合激光沉积的微晶3C-SiC厚膜的硬度高于红外激光沉积的3C-SiC厚膜的硬度。(本文来源于《武汉理工大学》期刊2018-05-01）
岳巧慧[8]（2018）在《激光化学法制备Ag/Cu_2O纳米结构及其物性研究》一文中研究指出氧化亚铜(Cu_2O)是一种重要的p型直接带隙半导体,禁带宽度为2.17 eV,在可见光区域具有较高的吸收系数,在光催化、光伏太阳能电池、光电传感等方面具有重要的应用前景,近年来受到越来越多的关注。如果将具有局域表面等离子体共振(LSPR)特性的金属纳米结构与Cu_2O相结合,不仅能利用肖特基势垒促进电子的快速转移、抑制载流子的复合,而且还表现出新奇的协同作用,从而获得更好的光电化学性能,已成为该领域研究的热点。传统方法制备金属与氧化物复合纳米材料存在操作复杂、耗时长、污染环境等问题。与之相比,激光化学法具有操作简单、实验周期短、环境友好等优点,具有良好的发展潜力。本文采用紫外激光化学法制备了多种形貌和尺寸的Cu_2O纳米结构和Ag纳米线/Cu_2O核壳结构,阐述了Cu_2O纳米结构的形貌结构随光化学反应速率变化的演变过程,探讨了Ag纳米线的LSPR的局域场增强效应对光化学反应的促进作用。主要研究内容如下:1.利用紫外脉冲激光辐照醋酸铜溶液,通过改变辐照能量密度,实现了对Cu_2O纳米颗粒尺寸的调控。根据红外光谱对比分析结果,证明了激光辐照后醋酸铜分子内电子从配体到金属离子的转移是醋酸铜还原成Cu_2O的原因。2.在醋酸铜溶液中加入乙二醇后,随着辐照能量密度增大,Cu_2O纳米结构的形貌从颗粒状变成菊花状后,又逐渐变成六脚状,最终又回到颗粒状。通过观察Cu_2O纳米结构的形貌随辐照时间增加的演化过程,探究了Cu_2O纳米结构的形貌生长过程,发现Cu_2O纳米结构的形貌变化与乙二醇的分子结构和晶面选择性吸附有关。3.采用紫外激光化学法,利用Ag纳米线的LSPR的局域场增强效应促进光化学反应,实现了Cu_2O颗粒在Ag纳米线表面的快速、致密沉积,制备了Ag纳米线/Cu_2O核壳结构。通过SEM表征证明了表面活性剂(PVP)对Cu_2O颗粒团聚的抑制作用,实现了Cu_2O沿着Ag纳米线的层状生长,从而获得致密、均匀的Ag纳米线/Cu_2O核壳结构。随着激光辐照时间延长,Ag纳米线/Cu_2O核壳结构的壳层厚度呈递增趋势。在此基础上加入乙二醇,进一步获得了Ag纳米线/Cu_2O核壳花状结构。最后初步验证了Ag纳米线/Cu_2O核壳结构的光催化性能。(本文来源于《东北师范大学》期刊2018-05-01）
梁瑶,张翅腾飞,章嵩,涂溶,张联盟[9]（2017）在《激光化学气相沉积法在镍箔上高速制备少层石墨烯》一文中研究指出采用激光化学气相沉积法(LCVD),将光斑直径为15mm、功率密度为70W/cm2的激光直接照射在多晶镍箔上高速制备了高质量且层数可控的石墨烯。研究了沉积时间、激光功率、冷却速率以及甲烷流量对石墨烯层数和质量的影响。结果表明:激光功率低于67 W/cm~2时,无石墨烯生成;当沉积时间为7 min时,可制备得到3-6层的石墨烯,随着沉积时间的减少,石墨烯层数降低;甲烷流量增加,石墨烯层数随之增加;石墨烯的质量随着冷却速率降低而增加。(本文来源于《第一届全国功能薄膜与涂层学术研讨会暨国际论坛摘要集》期刊2017-07-23）
汪婷,涂溶,章嵩,杨梅君,后滕孝[10]（2017）在《厚度对激光化学气相沉积法制备SmBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜结构及超导性能影响的研究》一文中研究指出采用激光化学沉积法在LaAlO_3单晶基板快速制备SmBa_2Cu_3O_(7-δ)(SmBCO)超导薄膜,研究了薄膜厚度对其取向、微观结构及超导性能的影响。结果表明,当厚度由0.47μm增加至2.72μm时,SmBCO薄膜的生长取向由完全的c取向逐渐转变为a轴和c轴共存。当厚度为1.06μm时,SmBCO薄膜具有最优c轴取向,其φ扫的半高宽(FWHM)仅为1.07°,薄膜与基板之间的面内取向关系为SmBCO[100]//LAO[100]和SmBCO[010]∥LAO[010]。所制备的SmBCO薄膜的转变温度可达89.5 K,77 K自电场下的临界电流密为1.25 MA/cm~2,沉积速率为7.6μm·h~(-1),该研究结果对于制备第二代高温超导薄膜具有重要意义。(本文来源于《第一届全国功能薄膜与涂层学术研讨会暨国际论坛摘要集》期刊2017-07-23）
激光化学论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)_6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响,再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底损伤越大,但电阻率越小,且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤;激光辐射速度越大,基底损伤越小,但电阻率越大。通过平衡工艺参数,得到了电阻率为0.96Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜,成分分析表明此时W(CO)_6已经完全裂解。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
激光化学论文参考文献
[1].涂溶,章嵩,后藤孝,张联盟.激光化学气相沉积技术制备功能陶瓷薄膜与涂层[C].第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集.2019
[2].张伟,陈小英,马永生,付婉霞,王磊.激光化学气相沉积法在TFT-LCD电路缺陷维修中的应用[J].液晶与显示.2019
[3].华佐豪,郭宁,毛成立,杨劲松.激光化学微推进技术研究进展[J].上海航天.2019
[4].丁瑞堂,孙树峰,刘庆玉,邵晶.激光化学复合抛光工艺参量对304不锈钢性能的影响[J].激光技术.2019
[5].丁瑞堂.工艺参数对激光化学复合抛光304不锈钢性能影响的研究[D].青岛理工大学.2018
[6].吴慰,张琼,苏轼,赵培.激光化学气相沉积法制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜[J].武汉工程大学学报.2018
[7].程洪.卤化物激光化学气相沉积法快速制备3C-SiC厚膜[D].武汉理工大学.2018
[8].岳巧慧.激光化学法制备Ag/Cu_2O纳米结构及其物性研究[D].东北师范大学.2018
[9].梁瑶,张翅腾飞,章嵩,涂溶,张联盟.激光化学气相沉积法在镍箔上高速制备少层石墨烯[C].第一届全国功能薄膜与涂层学术研讨会暨国际论坛摘要集.2017
[10].汪婷,涂溶,章嵩,杨梅君,后滕孝.厚度对激光化学气相沉积法制备SmBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜结构及超导性能影响的研究[C].第一届全国功能薄膜与涂层学术研讨会暨国际论坛摘要集.2017
论文知识图
