导读:本文包含了多层膜设计论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:多层,薄膜,量子,算法,光学,隔离器,光谱。
多层膜设计论文文献综述
周青春,李可芯,嵇群,王颖[1]（2019）在《Ce:YIG/SiO_2多层膜光隔离器的设计》一文中研究指出应用4×4传输矩阵法计算了由Ce:YIG磁性层、SiO_2电介质层构成的多缺陷多层膜对称磁光子晶体的Faraday旋转和透射响应谱。结果表明,通过光子晶体几何结构的设计和外加静磁场方向的转动,可以实现理想或近理想的磁光隔离器,这样的磁光隔离器长度不超过30μm。本文设计的平顶磁光隔离器工作波长为1 550 nm,无需转动外磁场,其带宽达7.2 nm,透射率超过99.99%,Faraday旋转角为45.09°。(本文来源于《安庆师范大学学报(自然科学版)》期刊2019年02期）
王鑫,卢刚,康海涛,张治,杨勇洲[2]（2019）在《晶硅太阳电池多层减反射膜设计与分析》一文中研究指出采用等效界面概念,通过导纳矩阵法,建立晶硅太阳电池多层膜模型,利用PC1D进行仿真设计研究,优化多层膜各层的厚度、折射率等参数,给出了多层膜的设计方法,得出优化后的多层膜参数。通过对一、二、叁层膜优化设计及仿真对比,表明叁层膜在单层膜的基础上使电池功率提高1.81%,为实际电池的工艺改进和性能提升提供了一种方法。(本文来源于《电源技术》期刊2019年03期）
郑晓猛,张永振,杜叁明,刘建,杨正海[3]（2019）在《减摩耐磨多层膜设计及研究进展》一文中研究指出涂层作为一种有效的表面改性技术,具有材料选择范围广、性能可调节性好的优点,适用于多种工况和结构要求,在零部件的减摩耐磨中得到了广泛的应用。传统的单一涂层分为减摩涂层和耐磨涂层两类。前者采用类石墨层状结构润滑材料制备,用于减小摩擦副的摩擦系数,但磨损率较高;后者则采用陶瓷等高硬材料制备,用于抵抗磨损、保护基体材料,但摩擦系数较大。这两种涂层在使用中都不能同时发挥减摩、耐磨的作用。随着机械、航天等领域的不断发展,在不能采用传统油润滑的特殊环境中,传统涂层无法同时满足零部件之间较小的摩擦系数和较低的磨损率的要求。而多层膜结合选材和层状结构设计,兼具减摩、耐磨作用,其相关研究为解决材料摩擦学性能不足这一关键问题提供了可能。构筑多层膜的基本原理是采用磁控溅射等手段,在基体材料上制备软硬交替分布的层状结构涂层,单层厚度在微米和纳米级之间。其摩擦学性能取决于自身的结构参数和制备工艺参数,二者通过改变多层膜的结晶状态、力学性能进而影响其摩擦学性能。如何优化结构、工艺参数以获得最佳的减摩耐磨性能是目前亟待解决的主要问题,相关研究集中在叁个方面:一是控制多层膜的晶粒生长和晶体择优取向;二是提高多层膜的韧性;叁是降低多层膜的残余应力。通过优化结构、工艺参数,控制制备过程中的不良因素,强化有利因素,多层膜的摩擦学性能得到了进一步提升。研究表明,调整多层膜中的单层膜厚度可以实现内部材料结晶状态的演变及抑制晶体取向的转变。另外,多层膜层状结构产生的大量界面可以在涂层受载产生裂纹时吸收能量,抑制或偏转裂纹扩展,因此可以通过引入高质量层间界面优化其韧性。多层膜制备过程中产生的残余应力随溅射过程逐渐累积,降低基片偏压是控制残余应力的有效手段;多层膜的层状结构可以打断残余应力的累积,也能从时间效应上控制残余应力。从研究成果来看,影响多层膜摩擦学性能的因素存在最佳值。从实验数据来看,大气环境中干摩擦磨损率可以降至3×10-10mm3/(N·m),并且摩擦系数始终稳定在0.1左右。本文归纳了多层膜的研究现状,主要从设计原则(包括影响因素和控制方法)、性能表征和检测手段、近期研究成果叁个方面进行阐述和分析。指出目前多层膜研究中面临的问题,并对未来的研究方向进行展望,以期为相关学者提供参考。(本文来源于《材料导报》期刊2019年03期）
匡尚奇,张超,王一名,周祥燕,谢耀[4]（2017）在《改进型量子进化算法在宽带EUV多层膜设计中的应用》一文中研究指出为提高基于量子进化算法(QEA)在宽带极紫外(EUV)多层膜设计中的求解效率和精度,本文利用宽带多层膜的光学性能评价函数的梯度信息改进QEA,建立具有明确进化方向的适用于宽带EUV多层膜设计的改进型量子进化算法(IQEA)。对比分析了基于IQEA和QEA的宽带Mo/Si多层膜的膜系设计过程和结果,结果表明,基于IQEA的多层膜膜系设计理论方法具有更优越的求解效率和精度;同时,IQEA同样可以小种群规模进行多参数优化。基于IQEA的宽带Mo/Si多层膜的设计理论实现了包括入射角为0°~18°,反射率达50%的宽角度多层膜,以及反射光谱带宽为13~15nm,反射率达25%的宽光谱多层膜的设计。基于IQEA的宽带高反射率EUV多层膜的理论膜系设计方法为复杂多层膜的理论设计提供了一种可供选择的高效膜系设计方法。(本文来源于《光学精密工程》期刊2017年08期）
张超,张杰瑞,王一名,匡尚奇,谢耀[5]（2017）在《基于量子进化算法的宽角度极紫外多层膜设计》一文中研究指出提出了一种基于实数编码量子进化算法(RQEA)的宽角度极紫外(EUV)多层膜理论膜系的设计方法。采用基于实数编码的遗传算法(RGA)和RQEA对宽角度Mo/Si多层膜进行了理论设计和分析,发现RQEA具有种群规模小、搜索效率高和求解精度高的明显优势,体现出RQEA在光学薄膜设计领域的潜在应用价值。同时,设计出入射光波长为13.5nm、在入射角0°~18°范围内反射率可达50%的宽反射带Mo/Si多层膜。(本文来源于《光学学报》期刊2017年06期）
梅雪峰,匡尚奇,谢耀[6]（2016）在《量子进化算法在极紫外多层膜表征和设计中的应用》一文中研究指出针对EUV多层膜的表征和设计过程中普遍采用的遗传算法(GA)存在的大种群和求解效率低的问题,本文将实数编码量子进化算法(QEA)应用于EUV多层膜的表征和宽光谱EUV多层膜的设计过程中。分别采用实数编码GA和QEA对理论仿真的EUV多层膜的X射线掠入射反射谱进行反演拟合和宽光谱EUV多层膜的反射谱进行设计,进而将QEA在EUV多层膜表征和设计方面的性能进行对比分析。分析结果表明,QEA在多层膜的表征方面具有小种群和反演求解效率高的优点,多层膜的膜厚拟合精度可达±0.1nm;在多层膜设计方面,量子进化算法同样具有小种群的优势,同时求解效率较GA算法接近,设计的多层膜反射率带宽为13~15nm,反射率可达25%。相关工作展现出QEA算法在多层膜研发方面的应用价值,为进一步工作打下基础。(本文来源于《长春理工大学学报(自然科学版)》期刊2016年04期）
喻波,李春,金春水,王春忠[7]（2016）在《极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si多层膜设计与制备》一文中研究指出针对极紫外光刻照明系统中一块小尺寸反射镜大入射角带宽的需求,采用Si层有效厚度与公转速度关系式和多层膜周期厚度与公转速度关系式,完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作。在磁控溅射镀膜机上制备了一系列不同周期厚度和G值(Mo层厚度与多层膜周期厚度的比值)的Mo/Si多层膜规整膜系,并利用掠入射X射线反射谱表征,分别得到多层膜周期厚度、Mo层有效厚度和Si层有效厚度与公转速度的关系式以及多层膜界面粗糙度。采用Levenberg-Marquardt算法完成了宽带膜系设计,设计结果为在16.8°~24.8°范围内R=42%±1%。根据Mo/Si多层膜周期厚度和Si层有效厚度与公转速度的对应关系制备所设计的膜系,并对其极紫外波段反射率进行测量,实验结果为在16.8°~24.8°范围内R=41.2%~43.0%,实验结果与设计结果吻合得很好,进一步的制备误差反演分析表明实验结果与设计结果之间的细微偏差主要来自Mo/Si多层膜G值及界面粗糙度标定过程中的系统误差。(本文来源于《中国激光》期刊2016年04期）
祝文秀,金春水,匡尚奇,喻波[8]（2012）在《提高极紫外光谱纯度的多层膜设计及制备》一文中研究指出极紫外光刻是实现22nm技术节点的候选技术。极紫外光刻使用的是波长为13.5nm的极紫外光,但在160～240nm波段,极紫外光刻中的激光等离子体光源光谱强度、光刻胶敏感度以及多层膜的反射率均比较高,光刻胶在此波段的曝光会降低光刻系统的光刻质量。从理论和实验两方面验证了在传统Mo/Si多层膜上镀制SiC单层膜可对极紫外光刻中的带外波段进行有效抑制。通过使用X射线衍射仪、椭偏仪以及真空紫外(VUV)分光光度计来确定薄膜厚度、薄膜的光学常数以及多层膜的反射率,设计并制备了[Mo/Si]40SiC多层膜。结果表明,在极紫外波段的反射率减少5%的前提下,带外波段的反射率减少到原来的1/5。(本文来源于《光学学报》期刊2012年10期）
祝文秀[9]（2012）在《提高极紫外光谱纯度的多层膜设计及制备》一文中研究指出极紫外光亥(?)(Extreme Ultraviolet Lithography)是四种下一代光刻技术(极紫外光刻、X射线光刻、电子束光刻和离子束光刻)中最有希望实现22nm光刻技术节点的技术,同时也是批量生产线宽小于0.1μm集成电路的关键技术。极紫外光刻利用的是波长为13.5nm的极紫外光。但是,在160-240nm波段,由于极紫外光刻的光源光谱强度较强、光刻胶的敏感值较大以及多层膜的反射率较高,光刻胶也会在此带外波段曝光。从而导致进入曝光系统的光谱范围变宽,致使光刻系统的分辨率降低,进而影响光刻系统的光刻质量。鉴于此,本论文对提高极紫外光谱纯度的多层膜进行了深入的研究。第一,设计了提高极紫外光谱纯度的多层膜,从理论上实现了对极紫外光刻系统中带外波段的有效抑制。设计过程主要包括多层膜配对材料的选择、减反层材料的选择、结构参数的优化设计以及基片的选择。第二,制备了提高极紫外光谱纯度的多层膜,其依据为上述的设计参数。制备过程主要包括工艺参数的寻优、溅射速率的标定、光学常数的确定以及溅射时间的确定。第叁,检测了根据上述设计所制备的极紫外多层膜,得到了其实际反射率,并与理论拟合的反射率进行对比。本论文从理论和实验两方面验证了通过在[Mo/Si]∧40多层膜上镀制SiC单层膜可对极紫外光刻系统中的带外波段进行有效抑制的可行性,详述了设计并制备[Mo/Si]∧40SiC多层膜的方法和步骤。本论文运用理论模拟的方法设计极紫外多层膜,采用直流磁控溅射技术镀制[Mo/Si]∧40多层膜,采用射频磁控溅射技术镀制SiC单层膜。另外,薄膜厚度、薄膜的光学常数以及多层膜的反射率分别利用X射线衍射仪、椭偏仪以及UV/VUV分光光度计来确定。实验结果表明,在极紫外波段的反射率仅降低5%的前提下,通过在[Mo/Si]A40多层膜上镀制SiC单层膜,带外波段的反射率可减少5倍。(本文来源于《中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）》期刊2012-10-01）
陈锐,袁艳红,赵华[10]（2011）在《太阳成像用28.4nm多层膜反射镜的设计》一文中研究指出利用SiC/Si,Mo/Si,B4C/Si,SiC/Al,Co/Mg和SiC/Mg材料对,通过单纯形算法设计了太阳成像用28.4 nm周期多层膜反射镜,并采用遗传算法设计了具有强烈抑制30.4 nm光谱线功能的28.4 nm非周期多层膜反射镜。计算了两种反射镜在波长28.4 nm处的光谱纯度,结果表明:周期多层膜反射镜的光谱纯度SiC/Mg最高,Mo/Si最低;而所有非周期多层膜反射镜都有很高的光谱纯度。(本文来源于《上海电机学院学报》期刊2011年02期）
多层膜设计论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
采用等效界面概念,通过导纳矩阵法,建立晶硅太阳电池多层膜模型,利用PC1D进行仿真设计研究,优化多层膜各层的厚度、折射率等参数,给出了多层膜的设计方法,得出优化后的多层膜参数。通过对一、二、叁层膜优化设计及仿真对比,表明叁层膜在单层膜的基础上使电池功率提高1.81%,为实际电池的工艺改进和性能提升提供了一种方法。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
多层膜设计论文参考文献
[1].周青春,李可芯,嵇群,王颖.Ce:YIG/SiO_2多层膜光隔离器的设计[J].安庆师范大学学报(自然科学版).2019
[2].王鑫,卢刚,康海涛,张治,杨勇洲.晶硅太阳电池多层减反射膜设计与分析[J].电源技术.2019
[3].郑晓猛,张永振,杜叁明,刘建,杨正海.减摩耐磨多层膜设计及研究进展[J].材料导报.2019
[4].匡尚奇,张超,王一名,周祥燕,谢耀.改进型量子进化算法在宽带EUV多层膜设计中的应用[J].光学精密工程.2017
[5].张超,张杰瑞,王一名,匡尚奇,谢耀.基于量子进化算法的宽角度极紫外多层膜设计[J].光学学报.2017
[6].梅雪峰,匡尚奇,谢耀.量子进化算法在极紫外多层膜表征和设计中的应用[J].长春理工大学学报(自然科学版).2016
[7].喻波,李春,金春水,王春忠.极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si多层膜设计与制备[J].中国激光.2016
[8].祝文秀,金春水,匡尚奇,喻波.提高极紫外光谱纯度的多层膜设计及制备[J].光学学报.2012
[9].祝文秀.提高极紫外光谱纯度的多层膜设计及制备[D].中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）.2012
[10].陈锐,袁艳红,赵华.太阳成像用28.4nm多层膜反射镜的设计[J].上海电机学院学报.2011
论文知识图
