基体偏压对高功率脉冲磁控溅射AlCrN涂层结构及其性能的影响

论文摘要

为了获得性能更加优异的刀具涂层,采用高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）在Ar/N2混合气氛下制备了AlCrN涂层,研究了不同基体偏压对于涂层的结构和力学性能的影响.XRD图谱表明:AlCrN涂层中存在立方CrN（200）,CrN（220）和六方AlN（110）的衍射峰,其中CrN（220）的衍射峰在偏压大于等于-60 V时才会出现,六方AlN（110）的衍射峰在偏压大于等于-100 V时才会出现;Al元素加入会使所有CrN的衍射峰都向更低的角度偏移.随着基体偏压的升高,涂层表面的大颗粒数量和尺寸都呈现逐渐减小趋势.AlCrN涂层的硬度及弹性模量随着偏压的上升先增加后减小,在偏压为-150 V时均达最大值32.5±2.0 GPa和490±111.0 GPa.随着基体偏压增加,涂层的临界载荷先上升后减小,在偏压为-100 V时有最大值约40 N.

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 唐鹏,王启民,林松盛,代明江

关键词: 涂层,高功率脉冲磁控溅射,基体偏压,力学性能

来源: 材料研究与应用 2019年04期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学

单位: 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室,广东工业大学机电工程学院

基金: 国家重点研发计划项目(2016YFB0300400),广东省科技项目计划(2017A07071027,2014B070705007),广东省科学院科技提升项目(2017GDASCX-0202,2017GDASCX-0111),广东省科学院平台项目(2019GDASYL-0402004)

分类号: TB306

页码: 257-262

总页数: 6

文件大小: 900K

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