导读:本文包含了四面体非晶碳膜论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:薄膜,阴极,电弧,真空,硬质合金,石墨,离子。
四面体非晶碳膜论文文献综述
李汉超,魏菁,李晓伟,柯培玲,汪爱英[1]（2019）在《镍催化四面体非晶碳转化石墨烯机理研究》一文中研究指出金属催化固体碳源作为一种新型石墨烯制备技术,由于具有大面积制备石墨烯的潜力,近些年来引起广泛关注。其中,非晶碳作为产业界广泛应用的薄膜材料,利用其制备石墨烯成为该领域研究热点,但目前转变机理尚不明确。本研究采用硅氧化片(Si/300 nm SiO_2)作为基片,制备了具有不同四面体非晶碳(ta-C)以及金属Ni层厚度的SiO_2/ta-C/Ni叁明治结构,并利用真空热退火的方法生成石墨烯。结果表明:对于40nm ta-C/80nm Ni组合,800℃退火1h生成的石墨烯质量最佳;低于800℃,非晶碳无法完全转化;高于800℃,石墨烯结构易被团聚的Ni颗粒破坏。石墨烯的层数取决于非晶碳厚度,40nm时,无法完全转化为石墨烯,而2nm时,可完全转化。此外,当退火时间长于1h,生成的石墨烯结构容易被破坏。在低温下(400℃,500℃),镍和非晶碳的层间交换无法完全发生;在800℃时,层间交换完全发生,非晶碳转化生成石墨烯。微结构表明,非晶碳转化石墨烯符合金属诱导-层间交换机制。(本文来源于《TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集》期刊2019-11-15）
连峰,马明明,杨忠振[2]（2019）在《无氢四面体非晶碳膜在海水中的摩擦学性能》一文中研究指出为了开发能直接应用于海洋环境的自润滑材料,在不锈钢表面制备无氢四面体非晶碳(ta-DLC)膜,分别测试和比较ta-DLC膜在海水、水和油中的摩擦学性能。结果表明:ta-DLC膜在海水中的摩擦系数小于0.1,磨痕最窄且浅,表现出最优异的摩擦学性能,其水中摩擦学性能略差于其海水中摩擦学性能,在油中摩擦学性能最差。ta-DLC膜在海水润滑领域具有广阔应用前景。(本文来源于《哈尔滨工程大学学报》期刊2019年06期）
李标章[3]（2018）在《四面体非晶碳(ta-C)膜的应用》一文中研究指出近年来随着在过滤阴极真空电弧(Filtered CathodicVacuumArc:FCVA)技术在设备和工艺方面不断取得突破和发展,其应用范围也正在向各个领域快速扩展。特别是用FCVA镀膜技术获得的四面体非晶碳膜(Tetrahedral Amorphous Carbon:ta-C),由于具有其它真空镀膜技术无法实现的优异性能:高硬度,高耐磨性,高化学稳定性等,正日益引起各个领域的关注。耐信镀膜科技有限公司正致力于FCVA镀膜技术,包括FCVA镀膜设备和镀膜工艺的革新和开发。本报告结合我们在FCVA镀膜技术的开发过程中取得的经验和成就,介绍ta-C膜的一些应用例子。(本文来源于《粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2018年广东省真空学会学术年会论文集》期刊2018-11-30）
魏菁,李汉超,柯培玲,汪爱英[4]（2018）在《不同厚度四面体非晶碳薄膜的高通量制备及表征》一文中研究指出材料基因组工程能大幅度提高材料研发速度,降低材料研发成本,近年来受到广泛关注。本研究采用高通量制备工艺,结合碳等离子体束流和基片位置的调控,利用自主设计研制的45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧设备,沉积了厚度为4.7～183 nm的系列四面体非晶碳(ta-C)薄膜,使用椭偏仪、原子力显微镜、拉曼光谱仪和X射线光电子能谱仪(XPS)表征了厚度对ta-C薄膜表面粗糙度、微结构和原子键态的影响。结果表明:通过碳等离子体束流和基片位置的调控,实现了不同厚度ta-C薄膜的高通量制备。尽管膜厚不同,所制备的ta-C薄膜均具有几乎不变的光滑表面(R_a=(0.38±0.02) nm)和色散值(Disp(G)),说明不同厚度ta-C薄膜的sp~3含量、sp~2团簇尺寸保持相对稳定。XPS结果进一步证实ta-C薄膜的sp3相对含量均维持在(55±5)%。此外,不同厚度ta-C薄膜的光学带隙E_(opt)均保持在(1.02±0.08)eV。相关结果为设计制备结构和光学性能可控的不同厚度ta-C薄膜提供了一种新思路。(本文来源于《无机材料学报》期刊2018年11期）
许世鹏,李晓伟,陈仁德,李玉宏,汪爱英[5]（2019）在《膜厚对超薄四面体非晶碳膜应力和结构的影响（英文）》一文中研究指出利用自主研制的45°双弯曲磁过滤阴极真空电弧技术制备超薄四面体非晶碳膜,研究了膜厚变化对超薄四面体非晶碳膜残余应力和微观结构的影响。结果表明:膜厚从7.6 nm增加到50 nm时,残余应力和sp3含量先减小后增加;当膜厚为29 nm时,可以得到最小的残余应力为3.9 GPa。制备的薄膜表面粗糙度都小于纯硅片表面粗糙度(0.412 nm),表明沉积的碳粒子可以减少基体表面的缺陷;基于磁过滤阴极真空电弧技术的优势,制备的超薄四面体非晶碳膜在较大区域内表面无大颗粒等物质。(本文来源于《硅酸盐学报》期刊2019年01期）
李玉婷,代明江,李洪,林松盛,石倩[6]（2018）在《真空阴极多弧离子镀不同厚度四面体非晶碳薄膜的结构和性能》一文中研究指出以真空阴极多弧离子镀技术在P(100)型单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备了四面体非晶碳(ta-C)薄膜。用扫描电镜(SEM)测量薄膜厚度,并观察其表面及断面形貌;用X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的相组成;用拉曼光谱标定薄膜中的sp3键和sp2键;用轮廓仪测量薄膜的表面粗糙度;用划痕法和压痕法测试了膜/基结合强度。在0.5~1.5μm的厚度范围内,随着ta-C薄膜厚度增加,薄膜的sp3键含量逐渐降低,表面碳颗粒数量及尺寸逐渐增加,与YG6基体的结合强度不断降低。0.5μm厚的ta-C薄膜具有最小的表面粗糙度(0.17μm),最高的结合强度(剥离时的临界载荷为61 N,压痕等级为HF2),表现出最优的综合力学性能。(本文来源于《电镀与涂饰》期刊2018年16期）
刘盼盼,李汉超,杨林,郭婷,柯培玲[7]（2018）在《退火温度对金属催化四面体非晶碳转变为石墨烯过程的影响》一文中研究指出设计了金属催化剂Ni/四面体非晶碳(ta-C)/基底叁层结构,使用磁过滤阴极真空电弧设备制备了ta-C薄膜,用电子束蒸镀技术制备Ni薄膜,并对其进行快速热处理调控非晶碳转变石墨烯的过程,重点研究了热处理温度对石墨烯生长的影响。结果表明,沉积态的ta-C和Ni层均表面平整、均匀致密,其中Ni薄膜呈(111)晶面择优取向生长,为石墨烯的高质量生长提供了条件。同时,退火温度显着影响了非晶碳的石墨烯转变,当退火温度高于400℃时Ni表面能生成多层石墨烯,在500℃保温15 min可制备出质量较高的多层石墨烯。(本文来源于《材料研究学报》期刊2018年05期）
李玉婷,代明江,李洪,林松盛,侯惠君[8]（2017）在《薄膜厚度对四面体非晶碳薄膜结构和性能的影响》一文中研究指出四面体非晶碳(ta-C)薄膜具有高硬度和弹性模量、优异的耐磨性和抗蚀性、高热导率和电阻率以及良好的化学惰性等优异性质,己成为刀具用硬质合金表面的理想涂层材料。本文采用多弧离子镀技术在P(100)单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备ta-C薄膜,研究沉积时间(19、27、35、47min)对ta-C薄膜结构和性能的影响。利用表面轮廓仪对薄膜粗糙度进行测量,利用扫描电镜对薄膜表面、截面形貌进行表征及对薄膜厚度进行测量,利用划痕试验仪对薄膜的膜/基结合力进行测试,利用洛氏硬度计对薄膜脆性及结合力进行测试表征,采用拉曼光谱和XPS对薄膜sp~3键含量进行标定。结果表明,随着薄膜厚度增加(0.5~1.4μm);表征sp~3键含量的I_D/I_G值增加,sp~3键的含量逐渐降低;硬质合金基体与ta-C薄膜之间的结合力降低,19min时,ta-C薄膜与基体具有最高的结合力60N;薄膜韧性逐渐降低(HF2~HF5);薄膜表面碳颗粒数量及尺寸逐渐增加,19min时薄膜具有最小的表面粗糙度0.13岬。随着ta-C薄膜厚度的增加,膜层内部应力逐渐增大,致薄膜与基体的结合力及韧性降低;sp~3键的含量降低可能是部分亚稳态sp~3键转变为稳态的sp~2键。(本文来源于《粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会论文集》期刊2017-12-28）
于振华,姜康[9]（2017）在《磁过滤真空阴极电弧技术弧电流对四面体非晶碳薄膜性能的影响》一文中研究指出研究了磁过滤阴极真空电弧技术中不同弧电流(20~100 A),制备的四面体非晶碳薄膜性能的影响。通过对薄膜厚度、薄膜硬度、表面形貌以及sp3键含量随弧电流的变化结果进行了测试。结果表明,当弧电流从20增大至100 A,表征薄膜sp杂化碳含量的ID/IG从0.212增加到1.18,显示制备薄膜的sp3键含量逐渐减少,同时sp2键在逐渐增加。随着弧电流值上升,薄膜硬度增加,表明其值与弧电流值呈正相关性,高的弧电流使通过磁过滤器的大颗粒等离子体数增加,从而薄膜表面形貌易于沉积大颗粒,导致薄膜表面质量下降。因此,选择合适的弧电流值可优化Ta-C薄膜制备工艺,本文研究内容为工业应用中通过弧电流调整优化膜层综合性能提供参考。(本文来源于《真空科学与技术学报》期刊2017年12期）
许世鹏,李玉宏,陈维铅,林莉,李江[10]（2016）在《超薄四面体非晶碳膜光学常数的精确测定》一文中研究指出目的联合使用光谱型椭偏仪(SE)和分光光度计,精确测定超薄四面体非晶碳薄膜(ta-C)的光学常数。方法由于该薄膜的厚度对折射率、消光系数有很大的影响,仅采用椭偏参数拟合,难以准确得到该薄膜的光学常数,椭偏法测定的未知参数数量大于方程数,椭偏方程无唯一解。因此,加入透过率与椭偏参数同时进行拟合(以下简称SE+T法),以简单、快速、准确地得到该薄膜的光学常数。结果薄膜具有典型的非晶碳膜特征,SE和SE+T两种拟合方法得到的光学常数具有明显的差异,消光系数k在可见以及红外区最大差值可达0.020,紫外区最大的偏差约为0.005;折射率n在500 nm波长以上最大差值为0.04,在紫外光区和可见光区两种方法得到的n趋于一致。联用时的拟合结果具有更好的唯一性,而且拟合得到的光学常数变得平滑。结论椭偏与分光光度计联用适合精确测定测量范围内的超薄四面体非晶薄膜的光学常数。(本文来源于《表面技术》期刊2016年02期）
四面体非晶碳膜论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为了开发能直接应用于海洋环境的自润滑材料,在不锈钢表面制备无氢四面体非晶碳(ta-DLC)膜,分别测试和比较ta-DLC膜在海水、水和油中的摩擦学性能。结果表明:ta-DLC膜在海水中的摩擦系数小于0.1,磨痕最窄且浅,表现出最优异的摩擦学性能,其水中摩擦学性能略差于其海水中摩擦学性能,在油中摩擦学性能最差。ta-DLC膜在海水润滑领域具有广阔应用前景。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
四面体非晶碳膜论文参考文献
[1].李汉超,魏菁,李晓伟,柯培玲,汪爱英.镍催化四面体非晶碳转化石墨烯机理研究[C].TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集.2019
[2].连峰,马明明,杨忠振.无氢四面体非晶碳膜在海水中的摩擦学性能[J].哈尔滨工程大学学报.2019
[3].李标章.四面体非晶碳(ta-C)膜的应用[C].粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2018年广东省真空学会学术年会论文集.2018
[4].魏菁,李汉超,柯培玲,汪爱英.不同厚度四面体非晶碳薄膜的高通量制备及表征[J].无机材料学报.2018
[5].许世鹏,李晓伟,陈仁德,李玉宏,汪爱英.膜厚对超薄四面体非晶碳膜应力和结构的影响（英文）[J].硅酸盐学报.2019
[6].李玉婷,代明江,李洪,林松盛,石倩.真空阴极多弧离子镀不同厚度四面体非晶碳薄膜的结构和性能[J].电镀与涂饰.2018
[7].刘盼盼,李汉超,杨林,郭婷,柯培玲.退火温度对金属催化四面体非晶碳转变为石墨烯过程的影响[J].材料研究学报.2018
[8].李玉婷,代明江,李洪,林松盛,侯惠君.薄膜厚度对四面体非晶碳薄膜结构和性能的影响[C].粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会论文集.2017
[9].于振华,姜康.磁过滤真空阴极电弧技术弧电流对四面体非晶碳薄膜性能的影响[J].真空科学与技术学报.2017
[10].许世鹏,李玉宏,陈维铅,林莉,李江.超薄四面体非晶碳膜光学常数的精确测定[J].表面技术.2016
论文知识图
