金薄膜退火处理制备表面增强拉曼活性基底

金薄膜退火处理制备表面增强拉曼活性基底

论文摘要

为了制备表面增强拉曼活性基底,提出一种对金薄膜进行退火处理的实验方法。选取4片厚度为60nm的金薄膜,一片作为对照组,不进行退火处理;3片依次设置加热温度为300℃、400℃、500℃,退火时间均为2 h,得到不同尺寸的金纳米粒子。对样品进行检测,发现随着退火温度的升高,金薄膜的表面粗糙度由0.45 nm增加至28.92 nm;粗糙金属表面存在大量的自由电子,当入射光照射时,金属表面的电磁场有所增强,拉曼信号强度随之增强。实验表明:通过退火处理所得的金纳米粒子可以有效地作为表面增强拉曼活性基底。

论文目录

  • 引言
  • 1 实验条件和准备
  •   1.1 样品制备
  •   1.2 样品检测
  • 2 图谱分析研究
  •   2.1 XRD图谱
  •   2.2 紫外可见吸收图谱
  •   2.3 表面粗糙度
  •   2.4 拉曼光谱
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 姬佳林

    关键词: 金薄膜,表面增强拉曼活性基底,退火,金纳米粒子,表面粗糙度

    来源: 工业技术创新 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

    专业: 化学

    单位: 南京邮电大学通达学院

    基金: 南京邮电大学通达学院项目ITO缓冲层对Sn薄膜表面等离子体共振特性的调控(XK202XZ19005)和(XK202XZ19006)支持

    分类号: O657.37

    DOI: 10.14103/j.issn.2095-8412.2019.05.009

    页码: 50-54

    总页数: 5

    文件大小: 1985K

    下载量: 58

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