粒子入射条件对28 nm SRAM单元单粒子电荷共享效应影响的TCAD仿真研究

粒子入射条件对28 nm SRAM单元单粒子电荷共享效应影响的TCAD仿真研究

论文摘要

利用器件仿真工具TCAD,建立28 nm体硅工艺器件的三维模型,研究了粒子入射条件和器件间距等因素对28 nm体硅工艺器件单粒子效应电荷共享的影响规律。结果表明,粒子LET值增大、入射角度的增大、器件间距的减小和浅槽隔离(STI)深度的减少都会增加相邻器件的电荷收集,增强电荷共享效应,影响器件敏感节点产生的瞬态电流大小;SRAM单元内不同敏感节点的翻转阈值不同,粒子LET值和入射角度的改变会对SRAM单元的单粒子翻转造成影响;LET值和粒子入射位置变化时,多个SRAM单元发生的单粒子多位翻转的位数和位置也会变化。

论文目录

  • 1 引言
  • 2 仿真设置
  • 3 仿真结果与分析
  •   3.1 粒子入射条件和工艺条件对器件电荷共享的影响
  •     3.1.1 不同LET值的影响
  •     3.1.2 不同入射角度的影响
  •     3.1.3 不同器件间距影响
  •     3.1.4 STI深度影响
  •   3.2 粒子入射条件对SRAM单元单粒子翻转的影响
  •     3.2.1 不同LET值的影响
  •     3.2.2 不同入射角度影响
  •     3.2.3 粒子入射条件对SRAM单元多位翻转的影响
  • 4 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 金鑫,唐民,于庆奎,张洪伟,梅博,孙毅,唐路平

    关键词: 器件仿真,单粒子效应,电荷共享,多位翻转

    来源: 电子与封装 2019年06期

    年度: 2019

    分类: 信息科技,工程科技Ⅱ辑

    专业: 航空航天科学与工程,无线电电子学

    单位: 中国空间技术研究院宇航物资保障事业部,国防科技大学

    分类号: V443;TN403

    DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2019.0609

    页码: 32-40

    总页数: 9

    文件大小: 3440K

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