减反射层论文-白安琪,郭逦达,汤洋

减反射层论文-白安琪,郭逦达,汤洋

导读:本文包含了减反射层论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献,主要关键词:氧化锌纳米柱,减反射层,电化学沉积,短路电流

减反射层论文文献综述

白安琪,郭逦达,汤洋[1](2017)在《ZnO纳米结构减反射层特性优化及对太阳能电池性能的影响》一文中研究指出利用电化学沉积法在铜铟镓硒薄膜太阳能电池表面沉积一层ZnO纳米结构阵列减反射层。通过对沉积电位的操控,实现了对该纳米结构减反射层形貌、光学质量、反射率等特性的优化。在电池表面蒸镀电极后测试电池的电流电压曲线可知,相比于没有减反层的电池,沉积了纳米结构减反射层的电池利用氧化锌纳米结构的亚波长尺寸形成的蛾眼效应有效降低了表面光反射,增加光吸收,从而实现短路电流增加6.2%,电池效率提高了9.9%。(本文来源于《人工晶体学报》期刊2017年10期)

梁吉连,刘平,卢玉荣,张剑锋,王仕鹏[2](2016)在《SiN_x减反射层对组件抗PID能力影响》一文中研究指出利用管式PECVD工艺,通过调整气体流量比,得到减反射性能较佳的双层SiN_x:H膜电池片,再对电池片封装成的光伏组件进行96 h、300 h的PID实验,得出较佳的抗PID工艺。实验结果表明,当折射率<2.05时,电池片的抗PID效果较差,当折射率>2.16时,抗PID效果显着;即减反射层工艺为达到较高的光电转化效率并同时满足抗PID效果,控制SiN_x膜电池片的折射率为2.16±0.02;即淀积1的较佳流量比NH3/SiH4为4.83,淀积2的较佳流量比NH_3/SiH_4为13.33,在此配比下电池片外观正常,电性能稳定性较好,同时组件抗PID测试300 h后衰减<5%。(本文来源于《太阳能》期刊2016年04期)

赵峰,梁妍,赵旭[3](2015)在《稀土铕配合物减反射层对提高太阳能电池效率的研究进展》一文中研究指出限制太阳能电池光电转换效率的主要因素是其光谱敏感区域比较狭窄,照射在电池上的大部分太阳光没能有效地转换成电能。将稀土铕配合物掺杂入太阳能电池减反射层中以此来提高太阳能电池效率是近年来太阳能领域的研究热点。稀土铕配合物不仅使部分紫外及可见光转换为波长更适合太阳能电池吸收利用的612nm红光波段,还能有效屏蔽对太阳能电池不利的紫外光,如能将其合理有效地在太阳能电池中加以利用,势必会对太阳能电池的光电转换效率产生重要影响。本文主要介绍稀土铕元素及其配合物的转光机理和其在太阳能电池减反射层中的研究进展。(本文来源于《价值工程》期刊2015年33期)

杨帆[4](2013)在《不同纳米结构减反射层对单晶硅太阳能电池效率的影响》一文中研究指出近来,随着研究和生产技术的发展,太阳能电池将在传统能源领域发挥重大作用。硅系太阳能电池,特别是单晶硅太阳能电池的科研和生产已经相对成熟和稳定。调查发现,单晶硅太阳能电池在工业水平的转化效率可达18.8%,而其实验室转化效率为23.4%。可见,二者之间还存在着很大的差距,这就促使我们不断地研究和开发新的制造工艺来提高单晶硅电池的工业转化效率。根据光伏基础理论,光学和电学损失是决定太阳能电池的转化效率的重要因素。其中,光学损失包括表面反射,阻塞损失和材料本身的光谱响应。在光伏产业的发展进程中,人们探索了多种减少反射的方法,以便提高转化效率。减反射层作为减少光学损失的有效手段,一直是近年来的研究热点。常用的两种方法是在衬底上生长具有不同折射率的异质层或制备同质的绒面。相比于异质减反射层,绒面同质减反射层在制备方法和与衬底的键和方面表现出了更多的优势。近年来,在抛光单晶硅衬底上生长纳米线作为减反射层的众多方法引起了广泛的关注。这些方法包括气-液-固相外延,化学气相沉积,电化学沉积,激光烧蚀,干法刻蚀和湿法刻蚀等。其中,金属催化湿法刻蚀,由于更简单的工艺过程和低成本操作使得其在工业生产水平制备高性价比的减反射层成为可能。最近,有研究者制备了一种兼有金字塔和纳米线二重结构的绒面减反射层,这样可获得反射率低至0.9%的优质减反射层。制备减反射层的目的在于提高太阳能电池的转化效率,但是化学刻蚀法制备的减反射层是非理想的光生载流子传输层。由于高表面复合存在,低反射率的减反射层往往并不能有效提高转化效率。本文介绍的是分别采用HF/AgNO3溶液和HF/H2O2溶液两步相继刻蚀15.6×15.6cm2P型制绒单晶硅衬底制备硅纳米线的实验方法。通过控制硅纳米线的长度和分布情况,制备出了兼具金字塔和线形双重结构并呈现出不同反射率的减反射层。通过8组对比实验,获得了反射率在15.1%到5.5%之间变化的样品。得出的实验结论是密而长的纳米线具备更好的减反效果,但同时更高表面复合的存在也减低了电池的光电转化效率。鉴于此,我们在轴向长度为200nm的硅纳米线衬底上,制备出了效率为15.94%的单晶硅电池。(本文来源于《大连理工大学》期刊2013-04-30)

庞骏敏[5](2013)在《多孔硅减反射层的电化学制备研究》一文中研究指出从世界上第一例多孔硅诞生以及第一次将多孔硅用作太阳电池的减反射材料到现在,多孔硅的制备技术及其应用有了很大进展,但是如何进一步促使形成的孔洞更加均匀以及降低多孔硅的反射率、提高少数载流子寿命、增强与硅基太阳电池其它工艺的兼容性等问题还有待解决。用相同掺杂类型、相同掺杂浓度的单晶硅硅片作为衬底,以电化学方法制备的多孔硅的微结构特征(颗粒直径、高度、粗糙度等)及其光学性能(反射率、折射率、吸收率等)主要取决于制备方法及制备条件,所以对多孔硅制备方法及制备条件的研究是促进多孔硅广泛应用的根本。本文以石墨电极为阴极,采用电化学阳极腐蚀法进行多孔硅的制备,研究了腐蚀电流密度、腐蚀时间、腐蚀液浓度等电化学腐蚀条件对多孔硅的微结构及光学性能的影响。借助原子力显微镜(AFM)表征样品的表面微结构及参数,其光学性能则通过傅立叶红外光谱仪(FTIR)得到的吸光度值来表征。本文主要完成了以下工作:(1)研究了利用石墨电极作为阴极,通过电化学腐蚀的方法制备多孔硅层过程中避免电极表面碳原了剥离的问题;(2)在初步确定腐蚀电流和腐蚀溶液浓度的条件下,通过研究腐蚀时间对多孔硅形貌的影响,为后续试验的开展确定了多孔硅形成的时间区间;(3)将通过AFM得出的粗糙度和颗粒度参数用于表征多孔硅的微观形貌,研究了腐蚀电流和腐蚀溶液浓度的变化对多孔硅微观形貌的影响,将这两个腐蚀参数同多孔硅表面的颗粒数量联系起来;(4)通过傅立叶红外光谱仪测试了多孔硅层的减反射性能,确定了适合于太阳电池减反射的电化学腐蚀参数。由于多孔硅的形貌和光学性能受电化学制备条件和硅片自身的影响较大,本文得出的最佳实验参数对其它类型的单晶硅片而言,可能不是最优条件。(本文来源于《宁夏大学》期刊2013-03-01)

杨雪飞[6](2012)在《硅基太阳能电池减反射层的制备》一文中研究指出由于能源危机和环境污染等因素,人类需要开发新型能源。太阳能因取之不尽、无污染等优点成为了人们研究的热点。提高太阳能电池的光电转换效率和降低成本是太阳能电池开发的两个重点。减少受光面上入射阳光的反射率是提高太阳能光电转换效率的有效手段之一,用贵金属粒子辅助化学刻蚀硅制备减反射结构是一种降低表面反射率的重要方法。为制备高减反射的Si表面结构,本文采用化学镀和磁控溅射镀在单晶硅和硅薄膜表面沉积银粒子,在HF-H_2O_2-H_2O刻蚀液中制备减反射结构,采用场发射扫描电镜、原子力显微镜和紫外可见分光光度计对HF和H_2O_2含量以及二者比例对刻蚀结构、刻蚀速度和减反性能进行了系统的研究。实验得到以下结果:采用化学镀和磁控溅射镀两种方法在硅表面沉积了银粒子,沉积的银粒子密度随着沉积时间的增加而增大。不同银粒子密度对刻蚀形貌影响很大。银粒子密度低时,刻蚀硅表面易形成无序结构;银粒子密度适中时,刻蚀硅表面易形成垂直的多孔结构;银粒子密度较高时,刻蚀硅表面则形成类纳米线结构;但银粒子密度过高时,刻蚀硅表面会形成纳米线结构。可见,可调控改变硅表面银粒子密度来控制硅刻蚀后的结构。研究了刻蚀液中HF和H_2O_2含量及其浓度比对单晶硅刻蚀形貌的影响。实验发现,随着H_2O_2含量的增加,刻蚀结构孔径增大,刻蚀速率先升高后降低;H_2O_2的体积为3ml时刻蚀速率最快。随着HF含量的增加,刻蚀孔径减小,刻蚀速率先升高后降低;HF的体积为7ml时刻蚀速率最快。随着摩尔比ρ=[HF]/([HF]+[H_2O_2])的增加,刻蚀速率先增加而后下降,在ρ=74.74%时刻蚀速率最大。在优化条件下获得的刻蚀结构反射率可降至2.20%。研究了硅薄膜刻蚀过程中刻蚀时间和刻蚀液浓度对刻蚀形貌和反射率的影响。随刻蚀时间的增加,硅薄膜刻蚀深度增大,孔的数量减少,孔径增大,刻蚀60s的硅薄膜对200-800nm波段光谱平均反射率为2.22%。随刻蚀液中HF和H_2O_2含量的增加,硅薄膜的刻蚀速率增大,孔的数量减少,孔径增大,在HF:H_2O_2:H_2O=2.5:2.5:10中刻蚀后,硅薄膜的反射率最低,为1.73%,显示出优异的减反射性能。(本文来源于《沈阳大学》期刊2012-12-26)

李镇祥,任丽慧,赵剑曦[7](2011)在《减反射层对Ni-Al_2O_3太阳光谱选择性吸收薄膜光学性能的影响》一文中研究指出我们先前报道了Ni-Al_2O_3太阳光谱选择性吸收薄膜的水溶液化学法制备技术,该法制备的单层薄膜太阳能吸收率高达0.86。但就实际应用而言,吸收薄膜应具有吸收率大于0.90,发射率小于0.10的光学特性。因此,至少一层减反射层必须沉积在吸收层上,以减少太阳辐射最强区域处(~0.5μm)的反射。Al_2O_3和SiO_2具有低的折射率和稳定性,常用作减反射层材料。本文报道减反射层对吸收表面光学性能的影响。(本文来源于《中国化学会第十叁届胶体与界面化学会议论文摘要集》期刊2011-07-20)

汪礼胜,沈杨超,陈凤翔,王嘉赋[8](2011)在《SiO_2纳米柱阵列太阳电池减反射层设计》一文中研究指出采用严格耦合波理论和增强透射矩阵方法,对SiO2纳米柱阵列太阳电池减反射层进行了优化设计。设计的纳米柱阵列结构在300~1 200 nm波长范围内,可实现在太阳光0°~60°的入射范围内平均加权反射率接近1%。通过与以太阳光30°入射优化设计的新型纳米SiO2单层和SiO2/TiO2双层减反射膜相比,发现优化设计的SiO2纳米柱阵列减反射层结构在宽波段、宽入射角度范围内能更有效地减少光反射,从而提高太阳电池的转换效率、降低生产成本。(本文来源于《武汉理工大学学报》期刊2011年04期)

耿学文,李美成,尚春宇[9](2010)在《Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层》一文中研究指出制备高效硅太阳能电池,需要在整个太阳光谱范围内进行有效陷光和保持低反射率。基于贵金属粒子湿法辅助刻蚀方法,在P型(100)单晶硅表面溅射了一层厚度为1~5 nm的非连续分布Pt粒子层作为催化剂,浸入HF/H2O2的水溶液中进行湿法刻蚀,制备的减反射层在300~800 nm入射光波段范围的平均减反射率低于7%,减反射效果明显优于传统的热碱溶液刻蚀单晶硅所得的织构。通过进一步优化工艺参数,并增镀SiNx等减反射膜,陷光效果将会进一步提高。研究结果为高效太阳能电池的设计提供了新思路。(本文来源于《红外与激光工程》期刊2010年06期)

耿学文,李美成[10](2010)在《贵金属粒子催化刻蚀制备硅太阳能电池减反射层研究进展》一文中研究指出贵金属纳米粒子催化性能的研究已成为当前新材料及能源科学研究领域的热点之一。最近,在用贵金属粒子作为催化剂,辅助刻蚀硅衬底制作太阳能电池减反射层方面开展了大量的研究工作。综述了近年来贵金属粒子催化刻蚀硅制备减反射层的研究进展,分析了贵金属粒子的催化机理和减反射层制作的影响因素,展望了贵金属粒子催化刻蚀薄膜太阳能电池硅衬底研究的发展趋势。(本文来源于《功能材料》期刊2010年S1期)

减反射层论文开题报告

(1)论文研究背景及目的

此处内容要求:

首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。

写法范例:

利用管式PECVD工艺,通过调整气体流量比,得到减反射性能较佳的双层SiN_x:H膜电池片,再对电池片封装成的光伏组件进行96 h、300 h的PID实验,得出较佳的抗PID工艺。实验结果表明,当折射率<2.05时,电池片的抗PID效果较差,当折射率>2.16时,抗PID效果显着;即减反射层工艺为达到较高的光电转化效率并同时满足抗PID效果,控制SiN_x膜电池片的折射率为2.16±0.02;即淀积1的较佳流量比NH3/SiH4为4.83,淀积2的较佳流量比NH_3/SiH_4为13.33,在此配比下电池片外观正常,电性能稳定性较好,同时组件抗PID测试300 h后衰减<5%。

(2)本文研究方法

调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。

观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。

实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。

文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。

实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。

定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。

定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。

跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。

功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。

模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。

减反射层论文参考文献

[1].白安琪,郭逦达,汤洋.ZnO纳米结构减反射层特性优化及对太阳能电池性能的影响[J].人工晶体学报.2017

[2].梁吉连,刘平,卢玉荣,张剑锋,王仕鹏.SiN_x减反射层对组件抗PID能力影响[J].太阳能.2016

[3].赵峰,梁妍,赵旭.稀土铕配合物减反射层对提高太阳能电池效率的研究进展[J].价值工程.2015

[4].杨帆.不同纳米结构减反射层对单晶硅太阳能电池效率的影响[D].大连理工大学.2013

[5].庞骏敏.多孔硅减反射层的电化学制备研究[D].宁夏大学.2013

[6].杨雪飞.硅基太阳能电池减反射层的制备[D].沈阳大学.2012

[7].李镇祥,任丽慧,赵剑曦.减反射层对Ni-Al_2O_3太阳光谱选择性吸收薄膜光学性能的影响[C].中国化学会第十叁届胶体与界面化学会议论文摘要集.2011

[8].汪礼胜,沈杨超,陈凤翔,王嘉赋.SiO_2纳米柱阵列太阳电池减反射层设计[J].武汉理工大学学报.2011

[9].耿学文,李美成,尚春宇.Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层[J].红外与激光工程.2010

[10].耿学文,李美成.贵金属粒子催化刻蚀制备硅太阳能电池减反射层研究进展[J].功能材料.2010

标签:;  ;  ;  ;  

减反射层论文-白安琪,郭逦达,汤洋
下载Doc文档

猜你喜欢