导读:本文包含了离子注入与沉积论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:离子,摩擦,因数,可编程,磁控溅射,等离子体,触摸屏。
离子注入与沉积论文文献综述
舒伟权[1]（2017）在《基于PLC与触摸屏的离子注入沉积信号发生器的设计与实现》一文中研究指出为了使离子注入沉积信号发生器具有更好的抗干扰性和便捷性,利用PLC本身的高抗干扰性和触摸屏的操控便捷性,应用到信号发生器中,依靠PLC的脉冲输出功能和高速计数功能以及触摸屏的通讯功能进行脉冲的输出和参数的调控工作。研制出的信号发生器满足两路高速脉冲输出——主弧脉冲和偏压脉冲,实现主弧脉宽、偏压脉宽、周期及延迟时间4个参数微秒级的控制,最终设计的PLC与触摸屏可以正常工作且已经应用至信号发生器中作为信号的输出源。(本文来源于《浙江国际海运职业技术学院学报》期刊2017年01期）
金杰,王月[2]（2015）在《[例38]离子注入与离子束复合沉积技术在机械产品中的应用》一文中研究指出离子注入是一种可在较低温度下对高精度产品进行原位表面强化的近净加工技术,能显着提升产品的抗磨减摩、抗疲劳和耐腐蚀等性能。离子束复合沉积技术可实现基体与膜层、膜层与膜层之间的成分、应力等物理化学及机械性能的调制,进而获取界面结合力强、机械性能优异的复合膜。其应用于超低温、超高真空的固体润滑膜,风沙、海洋环境的抗冲蚀耐腐蚀硬质薄膜中表现出优异的综合性能。离子注入与离(本文来源于《中国表面工程》期刊2015年01期）
孙刚,马国佳,刘星,武洪臣,巩水利[3]（2013）在《氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响(英文)》一文中研究指出采用浸没式离子注入及沉积方法制备了3组不同的TaN薄膜,研究了制备过程中氧含量对薄膜性能的影响。研究表明,O含量对TaN薄膜的结构和力学性能有较大的影响。制备过程中进入薄膜及基体的O原子将与Ta结合生成Ta2O5,降低Ta2N薄膜中各相的择优取向性。随着氧含量的提高,晶粒逐渐趋向不规则生长而导致非晶相的形成。薄膜中氧含量的增加会导致薄膜表面结构变得更加不规则并引起表面缺陷的形成,从而使表面粗糙度变大。这些变化会导致薄膜结合强度和摩擦学性能下降。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2013年S2期）
赵江涛[4]（2013）在《利用强流氘离子注入及离子束分析方法研究氘在面向等离子体候选壁材料中的沉积行为》一文中研究指出能源是人类文明的物质基础,当今煤炭、石油等化石燃料已经日益稀缺,而人类对能源的需求量却在不断增加。太阳能、风能、水能等可再生能源易受地理位置和气候条件的影响,不可能成为能源供给的主要力量,开发和利用核能已经成为人类解决能源问题的必然选择。近年来,裂变能的使用得到了迅速发展,然而随之产生的高放射性核废料的处置又成为新的难题。相比之下,聚变能资源丰富、产能量高且更为清洁,必将成为解决能源问题的最佳途径。开发和利用聚变能必须首先解决材料问题。聚变堆使用氘、氚作为燃料,其在面向等离子体材料中的沉积和循环直接关系到反应堆燃料的利用率、器壁材料的性能以及反应堆的安全问题。因此,研究氢同位素在候选壁材料中的沉积和扩散行为直接影响到壁材料的研发和评价。目前,这项工作国内开展的比较少,国外的研究大多侧重于利用离线方法分析静态浓度,即氘(氚)在材料中的引入过程和氘沉积量的分析过程是分开的。这样,在注入过程结束到测量实验开始的一段时间内,由于扩散等因素的影响,材料中的氘浓度已经发生了变化。因此,传统的离线分析方法无法准确再现强等离子体辐照时器壁材料中氘的动态沉积行为。基于聚变堆材料研究的这一需求,考虑到D(d,p)T核反应中氘既是注入束,又是分析束的特点,本工作建立了候选器壁材料(铍、钼和钨)中氘动态沉积行为的实时分析方法,并利用日本东北大学的低能强流离子加速器实验平台完成了氘离子的注入和动态平衡浓度的分析实验,研究了叁种材料中氘的动态饱和浓度及其临界注量,离子注入时材料中氘的沉积形态(自由氘或者束缚氘)及其比例,以及表面层平衡氘浓度与离子能量和材料辐照损伤的关系。为了对比动态平衡氘浓度和束缚态氘浓度的差异,从而进一步研究离子束注入条件下氘沉积行为的物理机制,本工作利用新加坡国立大学离子束应用中心的分析平台测量了靶材料在长期放置后氘的残留浓度。通过动态平衡氘浓度及静态残留浓度的对比,本论文对氘在材料中的沉积机制做了分析和讨论。研究结果表明：(1).能量为20keV/D、束流强度为3.0x1014D/cm2s的D+3离子注入铍、钼和钨靶时,铍靶注量达到8x1018D/cm2时,其表面层动态饱和浓度nD/nBe为(20±2) at.%,钼靶在注量9.4×1017D/cm2时表面层动态饱和浓度(32±2)at.%,钨靶注量达到1.5×1018D/cm2时表面层动态饱和浓度为(42±3)at.%；(2).室温下存放一年之后,材料中的残留氘浓度均有大幅度降低,其中除铍靶在20keV/D的氘离子射程处仍维持最大氘浓度22at.%外,钼靶和钨靶的残留氘浓度均降为动态饱和浓度的1/10左右；(3).不同能量的氘离子注入到饱和的靶材料中,其平衡氘浓度与注入离子的能量无关而只与靶材料的损伤程度相关,辐照损伤之后,铍靶表面层平衡态氘浓度下降(29±3)%,钼靶表面层平衡态氘浓度下降(23±1)%,钨靶表面层平衡态氘浓度下降(11±1)%,表面层氘浓度不同程度的下降说明离子诱发的辐照损伤,尤其是材料表面层的辐照损伤可加剧表面层氘原子的释放率；(4).辐照损伤水平和缺陷的产生并非简单的线性关系,缺陷数目存在饱和值：钼靶缺陷数目在2dpa时达到饱和,钨靶中饱和缺陷对应的辐照损伤水平则低于1dpa；(5).离子注入时,材料中除了稳定束缚在靶材料陷阱中的氘原子以外,还存在其它不稳定的成分,如未被陷阱束缚的氘原子以及不稳定的氘-金属复合物,对于钼靶和钨靶,这部分的比例可以达到90%。本工作将D+D核反应实时在线分析方法与静态弹性反冲核分析方法结合起来研究氘面向等离子壁材料中的沉积行为,国内外尚属首次。(本文来源于《兰州大学》期刊2013-05-01）
潘辰林,刁云华,温静,李忠文,林文松[5]（2013）在《304不锈钢表面Ta沉积膜N离子注入后的摩擦学性能》一文中研究指出利用磁控溅射方法在304不锈钢表面沉积厚约100nm的钽膜,并对其进行氮等离子体基离子注入,注入能量为50keV,用掠射X线衍射(GXRD)分析了改性层的组成相结构,选取6mm的GCr15钢球作为对磨件,测试了处理后试样的磨损性能.研究结果表明:改性层含有钽的氮化物,注入剂量较低时,化合物为TaN0.1;随着注入剂量的增加,形成TaN.经过该处理后的304不锈钢磨损性能提高,磨损率降低幅度达到66.3%;摩擦因数有所降低,表面摩擦因数由未处理前的1.0～1.2下降至处理后的0.2～0.4.(本文来源于《上海工程技术大学学报》期刊2013年01期）
游代乔[6]（2013）在《PIII氮离子注入增强沉积实验分析》一文中研究指出等离子体浸没式离子注入(Plasma Immersion Ion Implantation—PIII)是一种新型的材料表面改性技术。它克服了传统离子注入的溅射效应,改善了注入的均匀性,消除了视线注入的限制,可处理形状复杂的工件,装置简单,并可批量生产。PIII技术存在的问题是注入能量低,注入层较浅。为克服这一缺点,本文采用将PIII技术与离子束增强沉积(IBED)相结合的复合处理方法,即等离子体浸没式离子束增强沉积(PIII-IBED)。(本文来源于《化学工程与装备》期刊2013年03期）
解志文,王浪平,王小峰,黄磊,陆洋[7]（2011）在《多元等离子体浸没离子注入与沉积和磁控溅射技术制备TiAlSiN/WS_2多层薄膜的力学性能和腐蚀行为(英文)》一文中研究指出为了降低超硬TiAlSiN复合涂层的摩擦因数,采用多元等离子体浸没离子注入与沉积和射频(RF)磁控溅射技术制备TiAlSiN/WS2多层薄膜,利用XRD、SEM、Raman光谱、纳米探针、摩擦和电化学试验对薄膜的微结构、力学性能和腐蚀行为进行测试与分析。SEM结果表明:TiAlSiN/WS2多层薄膜具有清晰的调制周期。纳米硬度结果表明,TiAlSiN/WS2多层薄膜硬度介于TiAlSiN和WS2涂层硬度之间。摩擦实验结果证实TiAlSiN/WS2多层薄膜的摩擦因数低于TiAlSiN涂层的,且摩擦过程平稳。此外,TiAlSiN/WS2多层薄膜表现出良好的抗腐蚀能力,在相对较小的调制周期内,其腐蚀电流密度显着降低。(本文来源于《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》期刊2011年S2期）
解志文,王小峰,黄磊,陆洋,闫久春[8]（2011）在《Si含量对多元等离子体浸没离子注入与沉积技术制备TiAlSiN涂层微结构和机械性能的影响(英文)》一文中研究指出采用多元等离子体浸没离子注入与沉积制备TiAlSiN纳米复合涂层,利用EDX,XRD,SEM,XPS,纳米探针和划痕试验对涂层成分组成、微结构和机械性能进行测试分析。XRD测试表明,TiAlSiN涂层具有较强的TiN(200)择优取向。XPS测试表明,TiAlSiN涂层中也含有AlN、Si3N4、Al2O3和Ti2O3。与制备的TiN涂层相比,当涂层中的Si含量为0.9%时,TiAlSiN涂层表现出较高的硬度,达32GPa,但涂层的断裂韧性和结合强度较低;当涂层中的Si含量增加至6.0%时,TiAlSiN涂层具有超高的硬度57GPa,并表现出较好的断裂韧性和结合强度。(本文来源于《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》期刊2011年S2期）
吴忠振[9]（2011）在《第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知》一文中研究指出第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(The 11th International Workshop on Plasma-Based ion implantation & deposition,PBII&D 2011)将于2011年9月8～12日在我国哈尔滨举行,同时举行产品展览。欢迎大家积极投稿,同时欢迎各参展单位联系展览。(本文来源于《真空》期刊2011年04期）
吴忠振[10]（2011）在《第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知》一文中研究指出第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(The 11th International Workshop on Plasma-Based ion implantation & deposition,PBII&D 2011)将于2011年9月8～12日在我国哈尔滨(本文来源于《真空》期刊2011年03期）
离子注入与沉积论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
离子注入是一种可在较低温度下对高精度产品进行原位表面强化的近净加工技术,能显着提升产品的抗磨减摩、抗疲劳和耐腐蚀等性能。离子束复合沉积技术可实现基体与膜层、膜层与膜层之间的成分、应力等物理化学及机械性能的调制,进而获取界面结合力强、机械性能优异的复合膜。其应用于超低温、超高真空的固体润滑膜,风沙、海洋环境的抗冲蚀耐腐蚀硬质薄膜中表现出优异的综合性能。离子注入与离
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
离子注入与沉积论文参考文献
[1].舒伟权.基于PLC与触摸屏的离子注入沉积信号发生器的设计与实现[J].浙江国际海运职业技术学院学报.2017
[2].金杰,王月.[例38]离子注入与离子束复合沉积技术在机械产品中的应用[J].中国表面工程.2015
[3].孙刚,马国佳,刘星,武洪臣,巩水利.氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响(英文)[J].稀有金属材料与工程.2013
[4].赵江涛.利用强流氘离子注入及离子束分析方法研究氘在面向等离子体候选壁材料中的沉积行为[D].兰州大学.2013
[5].潘辰林,刁云华,温静,李忠文,林文松.304不锈钢表面Ta沉积膜N离子注入后的摩擦学性能[J].上海工程技术大学学报.2013
[6].游代乔.PIII氮离子注入增强沉积实验分析[J].化学工程与装备.2013
[7].解志文,王浪平,王小峰,黄磊,陆洋.多元等离子体浸没离子注入与沉积和磁控溅射技术制备TiAlSiN/WS_2多层薄膜的力学性能和腐蚀行为(英文)[J].TransactionsofNonferrousMetalsSocietyofChina.2011
[8].解志文,王小峰,黄磊,陆洋,闫久春.Si含量对多元等离子体浸没离子注入与沉积技术制备TiAlSiN涂层微结构和机械性能的影响(英文)[J].TransactionsofNonferrousMetalsSocietyofChina.2011
[9].吴忠振.第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知[J].真空.2011
[10].吴忠振.第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知[J].真空.2011
论文知识图
