化学镀Ni-P-纳米SiO2复合镀层稳定剂的研究

化学镀Ni-P-纳米SiO2复合镀层稳定剂的研究

论文摘要

以沉积速率、镀液的稳定性、复合镀层的孔隙率和显微硬度为评价指标,研究了碘酸钾和硫酸铜对化学镀Ni-P-纳米SiO2复合镀层的影响。结果表明:单独使用碘酸钾作稳定剂时,碘酸钾适宜的质量浓度为60~80 mg/L;单独使用硫酸铜作稳定剂时,硫酸铜适宜的质量浓度为20~40 mg/L;当80 mg/L碘酸钾与20 mg/L硫酸铜复配时,沉积速率最快,孔隙率较低,显微硬度最高。

论文目录

  • 0 前言
  • 1 实验
  •   1.1 实验材料
  •   1.2 工艺流程
  •   1.3 镀液配方及工艺条件
  •   1.4 性能测试
  •     1.4.1 镀液的稳定性
  •     1.4.2 沉积速率
  •     1.4.3 耐蚀性
  •     1.4.4 显微硬度
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 碘酸钾的影响
  •   2.2 硫酸铜的影响
  •   2.3 碘酸钾与硫酸铜的复配实验
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 安远飞,沈岳军,徐丽,聂梦,张黎,吴兴韦,刘定富

    关键词: 复合镀层,化学镀纳米复合镀层,稳定剂,碘酸钾,硫酸铜

    来源: 电镀与环保 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 金属学及金属工艺

    单位: 贵州大学化学与化工学院,中国航天科工集团第十研究院贵州航天电器股份有限公司

    基金: 贵大(国)创字2017(014),贵州省科技计划(黔科合GZ字[2015]3010)

    分类号: TG174.41

    页码: 41-44

    总页数: 4

    文件大小: 285K

    下载量: 74

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