导读:本文包含了脉冲高能量密度等离子体论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:等离子体,脉冲,密度,薄膜,刀具,残余,表面。
脉冲高能量密度等离子体论文文献综述
杨义勇,彭志坚,苗赫濯,王成彪,付志强[1]（2009）在《脉冲高能量密度等离子体陶瓷刀具表面改性研究进展》一文中研究指出对刀具涂层技术的发展现状与趋势进行了综述,提出了提高涂层刀具性能的"五化"措施:沉积工艺复合化、薄膜组成多元化、薄膜结构多层化、薄膜组成和显微结构梯度化、薄膜晶粒纳米化。基于这个思想,提出了用高能量密度脉冲等离子体技术进行陶瓷刀具表面改性,并在最近几年用高能量密度脉冲等离子体同轴枪对硬质合金和氮化硅陶瓷刀具进行了镀膜改性尝试。使用该复合表面改性技术,所制备涂层刀具结构独特,很好地满足了"五化"思想,材料性能得到显着提高。在优化的工艺条件下,所得TiN、TiCN和TiAlN涂层刀具硬度高,纳米硬度分别为26～28GPa、50～53GPa和38～40GPa;膜基结合力强,纳米划痕临界载荷达80～110mN。所得TiN、TiCN和(Ti,Al)N涂层硬质合金刀具能够在工业条件下对硬度高达HRC58～62的淬硬CrWMn钢进行干切削,实用切削速度可提高2～10倍,且刀具磨损较小;涂层氮化硅陶瓷刀具加工淬硬钢和灰铸铁(HB2200～2300MPa)工件时,比未涂层刀具后面磨损降低6～10倍。预示该技术是一种非常有前途的陶瓷刀具改性技术。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2009年S2期）
杨义勇,彭志坚,苗赫濯,王成彪,付志强[2]（2008）在《脉冲高能量密度等离子体陶瓷刀具表面改性研究进展》一文中研究指出对刀具涂层技术的发展现状与趋势进行了综述,提出了提高涂层刀具性能的"五化"措施:沉积工艺复合化、薄膜组成多元化、薄膜结构多层化、薄膜组成和显微结构梯度化、薄膜晶粒纳米化。基于这个思(本文来源于《第十五届全国高技术陶瓷学术年会摘要集》期刊2008-09-21）
冯文然,陈光良,顾伟超,张谷令,范松华[3]（2005）在《脉冲高能量密度等离子体材料表面改性及其应用》一文中研究指出脉冲高能量密度等离子体(pu lsed h igh energy density p lasm a,PHEDP)是一项新的材料表面改性技术.它集高电子温度、高能量密度、高定向速度于一身,在制备薄膜时具有沉积薄膜的温度低、沉积效率高、能量利用率高的优点,并兼具表面溅射、离子注入、冲击波和强淬火效应等综合效应;它可以制备纳米晶或非晶硬质薄膜,提高基底材料的表面硬度和耐磨、耐蚀性能;能够实现非金属材料表面金属化,所制备薄膜与基底之间存在很宽的混合过渡区,因此膜/基结合良好.文章主要介绍了作者近年来在该领域的部分研究成果,简要介绍了脉冲高能量密度等离子体的原理、特点及应用.分析了脉冲等离子体与材料相互作用的基本物理现象.(本文来源于《物理》期刊2005年12期）
刘元富,韩建民,张谷令,王久丽,陈光良[4]（2005）在《脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究》一文中研究指出利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在 4 5 #钢基材表面沉积了高硬度耐腐蚀 (Ti,Al)N薄膜 .利用扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、俄歇电子能谱分析了薄膜的显微组织 .利用纳米压痕仪测试了薄膜的纳米硬度 .测试了薄膜在 0 5mol LH2 SO4 水溶液中的耐蚀性 .测试结果表明 :薄膜主要组成相为 (Ti,Al)N ,同时含有少量的AlN ,薄膜的纳米硬度高达 2 6GPa ,薄膜具有良好的耐蚀性 ,与 1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢相比 ,耐蚀性提高了一个数量级 .(本文来源于《物理学报》期刊2005年03期）
柳国萍,刘元富,张谷令,杨思泽[5]（2004）在《脉冲高能量密度等离子体沉积新型TiAlN薄膜》一文中研究指出利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下 ,在 45钢基材上制备出了 Ti Al N薄膜。利用 XRD、SEM等手段分析了薄膜的相组成及显微组织 ,利用纳米压痕仪测试了薄膜的纳米硬度分布及薄膜与基材的结合力。结果表明 :薄膜主要组成相为 Ti Al N,薄膜组织致密、均匀 ,薄膜硬度高且与基材结合良好(本文来源于《新技术新工艺》期刊2004年05期）
刘元富,张谷令,王久丽,刘赤子,杨思泽[6]（2004）在《脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究》一文中研究指出利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在 4 5号钢基材上制备出了超硬耐磨TiN薄膜 .利用XRD ,XPS ,AES ,SEM等手段分析了薄膜的成分及显微组织结构 ,并测试了薄膜的硬度分布及摩擦磨损性能 .结果表明 :薄膜主要组成相为TiN ,薄膜组织致密、均匀 ,与基材之间存在较宽的混合界面 ;薄膜硬度高 ,在干滑动磨损实验条件下具有优异的耐磨性及较低的摩擦系数(本文来源于《物理学报》期刊2004年02期）
彭志坚,苗赫濯,杨思泽,刘赤子,齐龙浩[7]（2004）在《高能量密度脉冲等离子体同轴枪制备Ti(C,N)薄膜研究》一文中研究指出用高能量密度脉冲等离子体同轴枪分别在硬质合金和氮化硅陶瓷刀具基体上沉积了Ti(C,N)薄膜,研究了各种因素对薄膜相转化的影响,通过XRD分析,最后得到合适的Ti(C,N)薄膜沉积工艺条件是:枪压3.5kV,同轴枪与试样间距30～40mm,氮气进气压力0.2MPa,电磁阀电压1.5kV,脉冲等离子轰击次数5次以上。(本文来源于《机械工程材料》期刊2004年01期）
彭志坚,苗赫濯,杨思泽,刘赤子,齐龙浩[8]（2003）在《高能量密度脉冲等离子体枪TiCN涂覆WC刀具残余应力研究》一文中研究指出在薄膜沉积技术开发中,确定由此产生的残余应力状态非常重要,因为薄膜沉积产生的残余应力影响材料的强度、膜基结合力等力学性能。实验中用高能量密度脉冲等离子体于室温下在硬质合金刀具基体上成功淀积了高硬耐磨的碳氨化钛涂层,用X射线衍射残余应力测定方法研究了沉积工艺对涂层刀具残余应力的影响。研究表明,在X射线所探测的深度内,所测得的残余应力大约在-3.5～3.5GPa之间,这表明薄膜内部随沉积工艺不同,分别存在着残余压应力或者残余拉应力;(本文来源于《中国硅酸盐学会2003年学术年会论文摘要集》期刊2003-06-30）
杨武保,范松华,刘赤子,张谷令,王久丽[9]（2003）在《脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析》一文中研究指出利用脉冲高能量密度等离子体法在光学玻璃衬底上、在室温下成功的制备了光滑、致密、均匀的纳米类金刚石膜 .工艺研究表明 :放电电压和放电距离以及工作气体种类对纳米类金刚石膜的沉积起着关键作用 .利用拉曼光谱、扫描电镜以及电子能量损失谱分析薄膜的形态结构表明 :薄膜具有典型的类金刚石特征 ;纳米类金刚石膜的晶粒尺寸小于 2 0nm甚至为非晶态 ;类金刚石膜中含有一定量的氮原子 ,随着沉积能量的升高 ,氮的含量增大 .纳米类金刚石膜的薄膜电阻超过 10 9Ω cm2 .对放电溅射过程进行了理论分析 ,结果与工艺研究的结论吻合 .(本文来源于《物理学报》期刊2003年01期）
阎鹏勋,杨思泽[10]（2002）在《脉冲高能量密度等离子体薄膜制备与材料表面改性》一文中研究指出脉冲高能量密度等离子体是一项全新的等离子体材料表面处理和薄膜制备技术 .文章主要介绍了作者近几年来在这方面的研究成果 .从理论和试验上研究了脉冲高能量密度等离子体的产生机制及其物理性质 .研究了脉冲等离子体与材料相互作用的基本物理现象和物理机制 .诊断测量表明 ,脉冲等离子体具有电子温度高 (10—10 0eV)、等离子体密度高 (10 1 4— 10 1 6 cm- 3)、定向速度高 (～ 10 7cm s)、功率大 (10 4 W cm2 )等特点 .在制备薄膜时具有沉积速率高 ,薄膜与基底粘结力强 ,并兼有激光表面处理、电子束处理、冲击波轰击、离子注入、溅射、化学气相沉积等综合性特点 ,可以在室温下合成亚稳态相和其他化合物材料 .在此基础上 ,系统地进行了脉冲等离子体薄膜制备和材料表面改性及其机理的研究 .在室温下的不同材料衬底上成功地沉积了性能良好的较大颗粒立方氮化硼、碳氮化钛、氮化钛、类金刚石、氮化铝等薄膜材料 .沉积薄膜和基底之间存在一个很宽的过渡层 ,因此导致薄膜与基底有很强的粘结力 .经脉冲等离子体处理过的金属材料表面性能得到了极大改善(本文来源于《物理》期刊2002年08期）
脉冲高能量密度等离子体论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
对刀具涂层技术的发展现状与趋势进行了综述,提出了提高涂层刀具性能的"五化"措施:沉积工艺复合化、薄膜组成多元化、薄膜结构多层化、薄膜组成和显微结构梯度化、薄膜晶粒纳米化。基于这个思
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
脉冲高能量密度等离子体论文参考文献
[1].杨义勇,彭志坚,苗赫濯,王成彪,付志强.脉冲高能量密度等离子体陶瓷刀具表面改性研究进展[J].稀有金属材料与工程.2009
[2].杨义勇,彭志坚,苗赫濯,王成彪,付志强.脉冲高能量密度等离子体陶瓷刀具表面改性研究进展[C].第十五届全国高技术陶瓷学术年会摘要集.2008
[3].冯文然,陈光良,顾伟超,张谷令,范松华.脉冲高能量密度等离子体材料表面改性及其应用[J].物理.2005
[4].刘元富,韩建民,张谷令,王久丽,陈光良.脉冲高能量密度等离子体沉积(Ti,Al)N薄膜组织及其性能研究[J].物理学报.2005
[5].柳国萍,刘元富,张谷令,杨思泽.脉冲高能量密度等离子体沉积新型TiAlN薄膜[J].新技术新工艺.2004
[6].刘元富,张谷令,王久丽,刘赤子,杨思泽.脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究[J].物理学报.2004
[7].彭志坚,苗赫濯,杨思泽,刘赤子,齐龙浩.高能量密度脉冲等离子体同轴枪制备Ti(C,N)薄膜研究[J].机械工程材料.2004
[8].彭志坚,苗赫濯,杨思泽,刘赤子,齐龙浩.高能量密度脉冲等离子体枪TiCN涂覆WC刀具残余应力研究[C].中国硅酸盐学会2003年学术年会论文摘要集.2003
[9].杨武保,范松华,刘赤子,张谷令,王久丽.脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析[J].物理学报.2003
[10].阎鹏勋,杨思泽.脉冲高能量密度等离子体薄膜制备与材料表面改性[J].物理.2002
论文知识图
