三种不同沉积工艺制备CrAlN涂层的性能

三种不同沉积工艺制备CrAlN涂层的性能

论文摘要

采用阴极多弧离子镀膜技术,制备了3种不同沉积工艺的CrAlN涂层。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、工具显微镜、球痕仪、洛式硬度计、HV显微硬度计、电化学工作站等研究了涂层的显微形貌、力学性能和耐腐蚀性。结果表明:采用氩离子刻蚀工艺沉积Cr N打底层的CrAlN涂层表面质量改善明显,厚度均匀波动小,硬度高,膜基结合力强,摩擦系数小,排屑能力强,以及具有较高的耐腐蚀性。

论文目录

  • 1 实验材料及方法
  •   1.1 实验工艺流程及参数
  •   1.2 检测仪器与方法
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 涂层显微形貌分析及成分分析
  •   2.2 涂层厚度和硬度
  •   2.3 涂层结合力
  •   2.4 涂层的摩擦学性能
  •   2.5 涂层的耐腐蚀性能
  •   2.6 涂层的产品使用效果
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 王新太,王进,金烨堂,顾宁,孙树峰

    关键词: 涂层,阴极多弧离子镀,沉积工艺,涂层性能

    来源: 材料热处理学报 2019年10期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 金属学及金属工艺

    单位: 青岛理工大学机械与汽车工程学院

    基金: 山东省重点研发计划项目(2019GGX102023),国家自然科学基金(51205217,51775289)

    分类号: TG174.4

    DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2019-0175

    页码: 110-116

    总页数: 7

    文件大小: 524K

    下载量: 90

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