基于原子层沉积技术的石英管表面减反射膜的制备

基于原子层沉积技术的石英管表面减反射膜的制备

论文摘要

采用原子层沉积(ALD)技术在石英管表面制备了薄膜,研究了该薄膜的均匀性,以及石英管的内径、外径、长度对沉积薄膜均匀性的影响。以单波长减反射膜为研究对象,实验测试的反射光谱与仿真结果一致,石英管表面最低反射率可降至0.17%。忽略夹具影响,石英管外壁与内壁的减反射薄膜的非均匀性基本一致,在±1.69%范围内,内外壁表面减反射薄膜的厚度和中心波长相同,且石英管尺寸对内外壁薄膜均匀性无明显影响。利用ALD技术可在大曲率元件的内外表面沉积厚度偏差小且均匀性分布相似的减反射薄膜。

论文目录

  • 1 引 言
  • 2 实验方法
  • 3 结果及分析
  •   3.1 单波长550 nm减反射膜
  •   3.2 石英管内外壁的均匀性研究
  • 4 结 论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 沐雯,沈伟东,杨陈楹,郑晓雯,王震,袁华新,袁文佳,章岳光

    关键词: 表面光学,原子层沉积,石英管,减反射膜,均匀性

    来源: 光学学报 2019年03期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅱ辑

    专业: 物理学,工业通用技术及设备

    单位: 浙江大学光电科学与工程学院现代光学仪器国家重点实验室

    基金: 装备预先研究项目(41423060201),国家自然科学基金(61705194)

    分类号: O484

    页码: 372-379

    总页数: 8

    文件大小: 381K

    下载量: 121

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