论文摘要
使用射频磁控溅射,以高纯度碳靶材和高纯度甲烷为碳源,在不同射频功率下制备了类金刚石(DLC)薄膜。利用扫描电镜、傅里叶变换红外光谱仪和显微硬度计测试了薄膜的结构与性能。研究结果表明:制备的薄膜致密均匀,随着射频功率的增大薄膜生长速度增大,C原子含量增大;在200W功率制备的薄膜sp~3含量高,其分子结构与性能也就更偏向于金刚石,薄膜维氏硬度达到1038.26 MPa。同时发现,随制备功率的增加,DLC薄膜硬度呈先增大再减小的趋势,薄膜石墨化程度增大。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 伍醒,蒋爱华,程勇
关键词: 薄膜,射频磁控溅射,射频功率,键合结构,硬度
来源: 真空 2019年04期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑
专业: 材料科学,工业通用技术及设备
单位: 桂林理工大学理学院
分类号: TB383.2
DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2019.04.08
页码: 34-36
总页数: 3
文件大小: 1943K
下载量: 71
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