真空阴极电弧离子源磁场分析与设计

论文摘要

真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 蒋钊,唐德礼,陈庆川,周晖,肖更竭,郑军,马占吉,杨拉毛草

关键词: 真空阴极电弧离子源,电弧放电,弧斑,磁场

来源: 真空与低温 2019年03期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,基础科学

专业: 物理学

单位: 兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室,核工业西南物理研究院

分类号: O53;O462

页码: 194-201

总页数: 8

文件大小: 5689K

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