论文摘要
我们采用反应磁控溅射的方法在p-Si（100）衬底上制备了Hf O2薄膜。我们对制备的工艺进行了摸索。设计了不同的实验条件。分别在不同的工艺条件下制备得到Hf O2薄膜。在不同氧分压条件下制备了一组Hf O2薄膜,在不同的溅射功率条件下制备了一组Hf O2薄膜,在不同的溅射时间条件下制备了一组Hf O2薄膜,不同的衬底温度下制备了一组Hf O2薄膜。最后,将不同条件下制备的Hf O2薄膜在不同温度下退火,并对这些样品进行了性能的测试和表征。根据测试结果分析了其性能,制备的Hf O2薄膜是高质量的。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 李霞,姚建可,邓伟,肖祥,贺鑫,张盛东
关键词: 反应磁控溅射,薄膜,工艺,性能
来源: 功能材料与器件学报 2019年02期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑,信息科技
专业: 材料科学,工业通用技术及设备,无线电电子学
单位: 北京大学深圳研究生院,北华航天工业学院
基金: 02国家重大专项
分类号: TB383.2;TN386.1
页码: 99-106
总页数: 8
文件大小: 2112K
下载量: 111
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