导读:本文包含了掩膜技术论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:数字微反射镜器件,微透镜阵列,连续无掩膜光刻,空间限制热回流
掩膜技术论文文献综述
邱金峰[1]（2019）在《连续无掩膜光刻与一种新型的热回流技术用于微透镜阵列成型》一文中研究指出随着微光学以及微机电等领域的蓬勃发展,拥有体积小、焦距短并且集成程度高等优点的微透镜阵列得到了广泛的应用。为了适应不同领域对于微透镜阵列的需求,各式各样的加工方法也层出不穷,如何简便、高效并且经济实惠地加工大面积的微透镜阵列一直受到相关从业者的广泛关注。本文将基于数字微镜器件(DMD)的连续无掩膜光刻技术与一种新型的空间限制热回流技术相结合,实现了形状可控的,不同形貌的微透镜阵列的制作。首先设计出无掩膜光刻系统,与不同的运动系统相结合,搭建了连续无掩膜光刻系统以及非接触式滚压系统,实现了硬质基底以及柔性基底上的连续微结构阵列的加工。然后提出了不同于传统热回流的PDMS辅助空间限制热回流,实现了形状可控的微透镜阵列的制作,并不断完善空间限制热回流相关理论。在此基础上,与无掩膜光刻技术相结合,实现了不同形貌的微透镜阵列的制作,并且这些微透镜阵列均在同一回流参数下完成,充分证明了空间限制热回流的普适性。首先,根据DMD的光学特点设计出相应的投影曝光光学系统,然后与自组装的叁维运动平台相结合,搭建了连续无掩膜光刻系统,可以实现不同硬质基底上的连续微结构的加工;接着设计出了运动更加稳定的滚动传送装置,利用无掩膜光刻系统代替传统滚压系统中压辊的作用,搭建了非接触式滚动压印系统,可以实现柔性基底上连续微结构的制作。这些系统的搭建,为后续的研究提供了必要的加工手段。在此基础上,我们提出了不同于传统热回流的PDMS辅助的空间限制热回流技术,与无掩膜光刻系统相结合,实现了形状可控的球面微透镜阵列以及高填充因子微透镜阵列的制作。首先是利用无掩膜光刻系统的特点,加工出不同间隙的微柱阵列,然后将PDMS倾倒在微柱阵列上,液体PDMS填满了微柱之间的间隙,在热回流的过程中,固化的PDMS限制了熔融光刻胶的底部形状,也限制了相邻光刻胶之间的融合,这是传统热回流无法完成的工作,再引入体积关系,就可以实现形状可控的球面微透镜阵列以及高填充因子微透镜阵列的制作。同样利用无掩膜光刻系统灵活的加工能力,以及空间限制热回流可以严格控制底面形状的特点,我们还对各种非球面微透镜阵列的制作进行了探索,最终实现了柱面,椭球以及锥面微透镜阵列的制作。接着,我们还尝试制作不同参数的倾斜微透镜阵列。考虑到倾斜微透镜复杂的叁维结构,我们提出了模型以及掩膜简化方法,将整个掩膜的设计过程数值化,而由于简化带来的轮廓误差则有后续的空间限制热回流来补偿,并且在回流过程中,微透镜的倾斜性也能在一定程度上得到保持,这样就可以实现不同参数倾斜微透镜的快捷制作了。最后,在相同的回流参数下,我们利用空间限制热回流在同一区域实现了不同形貌的微透镜阵列的加工,包括球面、非球面以倾斜微透镜,证明了我们提出的空间限制热回流是一种普适且稳定的微透镜阵列加工方法。(本文来源于《中国科学技术大学》期刊2019-05-01）
吴晨枫[2]（2018）在《基于DMD无掩膜光刻系统中的关键技术研究》一文中研究指出随着电子通信行业的飞速发展,集成电路产业的需求呈现出爆炸式增长的趋势,光刻技术已成为如今集成电路制造领域的核心技术。近年来,基于DMD(Digital Micromirror Device,DMD)的数字光处理(Digital Light Processing,DLP)投影仪因其拥有较高对比度、高亮度、高效率及可二次开发等优点而被广泛应用。目前,基于DMD的无掩膜光刻技术在实际生产应用中还存许多问题,本文主要针对DMD无掩膜光刻过程的镜头畸变校正、大面积图像光刻和图像拼接等问题展开研究。本文通过对整个无掩膜光刻系统投影原理的研究,明确了镜头畸变产生的原因,并探讨了如何实现投影图像畸变校正的问题。根据是否已获取到投影入射角和像素偏移量的测量数据,分别提出了两种不同的畸变校正方案。若未获得测量数据,可借助相机实现图像采集,并通过最大似然估计法对相机标定过程进行优化,减少中间误差,最后完成投影仪标定实现对投影图像畸变校正。若已获得测量数据,则可以通过插值法对畸变量与像素坐标关系的重建,在计算得到每个像素点对应投影后的畸变量值之后,进而对待曝光图片进行预畸变处理。为了提高大面积图像曝光的效率,通过与传统曝光方案的对比,在深入了解扫描式投影和步进式投影的不足之后,本文提出了一种大面积分布式步进投影方法。通过采用多DMD镜头,依据DMD的分布和DMD的尺寸大小,对图片进行预填充处理,并记录步进关键帧信息,借助辅助设备完成控制指令的读取和区域图像传输,从而提高曝光吞吐量。针对多DMD以及不同图像帧之间存在的图片拼接问题,本文提出了一种基于DMD灰度调制技术的图像拼接方法。通过在拼接过程中,对切割好的曝光子图的重迭拼接区域进行灰度渐变处理,保证曝光图形的重迭与非重迭区域刻蚀程度一致,从而实现平滑拼接。最后结合本文实验项目,以DLP6500作为实验平台,分别搭建了投影镜头畸变校正实验平台和大面积步进曝光实验平台。设计并编写了一款基于Qt和OpenCV的上位机控制软件,对本文所提的图像畸变校正和大面积曝光方案进行验证。通过实际测量畸变量和对实际待曝光图像进行投影验证进一步证实了方案的可行性。(本文来源于《西安电子科技大学》期刊2018-06-01）
赵晨昊[3]（2018）在《泡沫阴极掩膜电解加工微结构阵列技术研究》一文中研究指出金属表面微结构阵列具有减磨降阻、提高传质传热效率、改变表面润湿状态等功能。微结构阵列的制备方法有多种,其中,掩膜电解加工因具有不产生残余应力与再铸层、成形表面质量好、不受工件材料机械力学性能限制等优势,潜在技术优势突出,应用前景看好。旨在高效、低成本地制备尺寸一致性高的金属微结构阵列,本文提出一种基于柔性泡沫金属的阴极—掩膜—工件“叁明治”配置式活动掩膜电解加工技术,简称泡沫阴极掩膜电解加工技术。工作时,泡沫金属既是阴极,又是传质通道,还是传递压贴掩膜压力的媒介。兼具多重功能特殊性态阴极的采用、小至极限的极间间隙(等于掩膜厚度)等特质使得该技术充满探索空间。为此,本文在国家自然科学基金(No.51475149)、河南省科技创新人才支持计划(No.154100510008)、河南省高校科技创新团队支持计划(No.15IRTSTHN013)和河南理工大学科技创新团队项目(No.T2014-1)的共同资助下,从加工原理、实施方式、工艺条件、加工效果等方面对该技术进行研究。主要研究内容和结论如下:(1)阐明了泡沫阴极掩膜电解加工技术的原理,数值仿真分析了该技术极间间隙的电场分布特性,仿真结果表明:与常规掩膜电解加工相比,该技术的极间电流分布均匀性更高,不同位置微坑的电流分布特性几近相同,且随加工时间发生同步改变。(2)在试验验证了机械压膜泵驱供液式泡沫阴极掩膜电解加工技术可行性的基础上,系统研究分析了主要加工参数,如极间电压、掩膜厚度、掩膜孔径等,对阵列微坑廓形特征与尺寸大小的影响规律,并开展了平面与圆柱面微坑阵列群的加工试验研究。研究表明:该技术可制备出几何尺寸变化范围非常窄、廓形一致性好的微坑阵列;在优化试验条件下,微坑阵列的深度和直径分别为53.38~61.33μm和349.6~377.3μm,对应的变异系数分别小至5.6%和2.4%;在360°圆柱面上可一次性加工均匀性高的微坑阵列。机械压膜的方式可能在操作方面有些许不便,且在曲面工件上压贴掩膜往往难度更大。(3)开发出一种借助磁力来固定掩膜的新方法——磁吸固定掩膜法,实现了泡沫阴极掩膜电解加工用超薄柔性掩膜的均匀可靠且对极间传质无干扰化压贴;在此基础上,开发出了磁场辅助极间间隙传质无泵驱动技术,即仅利用“叁明治”型配置体相对于电解液作周期换向周向平动—微幅摆动的复合运动及磁流体力学效应(MHD)来驱动极间间隙的物质进行均衡化运输与交换,阐释了其工作原理,研制了其实现装置,并开展了实验研究。研究表明:基于复合运动的磁场辅助无泵驱传质技术有助于提升泡沫阴极掩膜电解加工微结构阵列的操作简便性和实用性,优化条件下的微坑阵列的深度和直径变异系数分别为6.8%和3.5%。但是,该传质驱动方法极间液流缓慢,加工效率偏低,且不太适合于大深度微坑阵列的制备。(4)为进一步提高磁场辅助无泵驱泡沫阴极掩膜电解加工速度和适用性,开发出一种基于往复冲击运动的磁场辅助无泵驱传质技术。阐释了该技术的工作原理,研发了相应的执行装置,实验探究和分析了基于该传质技术的磁场辅助泡沫阴极掩膜电解加工微坑阵列的工艺效果。研究表明:基于向下单程冲击运动的磁场辅助无泵驱传质技术有助于提升泡沫阴极掩膜电解加工微结构阵列的操作简便性和实用性;可更高速度制备廓形一致性极高的微坑阵列;优化条件下微坑阵列的深度和直径变异系数分别小至5.4%和1.9%。泡沫阴极掩膜电解加工技术在高效制备高廓形一致性的微结构阵列方面极具优势。本文特别开发的无泵驱动极间间隙传质技术,包括基于复合运动的磁场辅助无泵驱传质技术和基于往复冲击运动的磁场辅助无泵驱传质技术,有利于进一步改善泡沫阴极掩膜电解加工的可操作性、适用性和工艺效果。(本文来源于《河南理工大学》期刊2018-04-01）
薛贝贝[4]（2017）在《激光掩膜微细电解加工技术研究》一文中研究指出随着MEMS(微机电系统)的迅猛发展,对微小金属器件需求越来越多,尤其尺寸在100μm~1mm之间的微小型金属零件,如何实现微小零件的快速加工是国内外学者研究较多的技术难题之一。本文将激光掩膜与微细电解加工技术相结合,提出光纤激光掩膜微细电解复合加工工艺。首先利用光纤脉冲激光器的高能量密度激光束对不锈钢304工件表面进行激光制掩膜,所生成的掩膜具有耐腐蚀保护特性,随后再利用微细电解加工实现对带激光掩膜图案的304不锈钢工件表面进行定域蚀除,实现微小型腔加工。该工艺能够避免超窄脉冲微细电解加工中微细电极制作,无需利用光刻技术制掩膜就能解决电解加工定域性问题。研究了激光掩膜微细电解复合加工的机理。对激光掩膜不锈钢工件表面特性进行X射线光电子能谱、X射线衍射和极化曲线分析,研究激光掩膜层耐腐蚀性机理。通过激光制掩膜,在304不锈钢表面生成Cr、Fe等氧化物薄膜,该氧化物薄膜具有耐腐蚀性特性,在随后的微细电解中起到掩膜保护作用,实现微细电解定域加工。研发了一套激光掩膜微细电解加工装置。通过工艺对比试验,研究不同激光功率、加工电压、占空比及电解液浓度等电加工参数对加工效果的影响。优化加工条件和电加工参数,进行多次激光掩膜微细电解加工,加工深度约30μm的型腔零件,实现了微小零件高效、低成本加工。(本文来源于《佳木斯大学》期刊2017-06-01）
姜福义[5]（2017）在《基于DMD的无掩膜曝光系统关键技术研究》一文中研究指出在集成电路行业,曝光技术是PCB制板过程中的关键技术。随着电子产品发展的微型化、集成电路行业的高度集成化,对于曝光技术提出了更加苛刻的要求。线宽越来越细,线间距越来越小,传统的有掩膜曝光技术已经无法满足曝光行业的生产需求。针对这一问题,提出了基于数字微镜(DMD)的无掩膜曝光技术。DMD内有数十万的微镜,每个像素对应一个微镜,可以满足精细化曝光的需求。采用无掩膜曝光技术,节省了掩膜板、提高了生产效率,是曝光行业中的一大创新与改变。进行无掩膜曝光的时候,需要采用工业相机(CCD)进行对焦,采集曝光出来的图像判断清晰度从而正焦曝光;需要采用CCD进行定位孔的采集,从而实现曝光图像在一定范围内的畸变校正;需要对曝光后图像的线宽线距进行检测,这时也需要CCD对焦采集清晰的图像。由此可见,在进行无掩膜曝光的时候,CCD怎样实现自动对焦是急需解决的一个关键点。在进行曝光机平台研制时期,需要考虑到后期实现的成本,以及如何更简单的实现曝光平台的设计,怎样提出创新性的解决方案又是另外一个关键点。针对这两个关键点,本文主要做了以下研究。1.针对基于空域和基于频域的清晰度评价算法抗噪性能不理想,稳定性不强的问题,提出了基于人类视觉的小波包变换清晰度评价算法。该算法与基于空域、基于频域的清晰度评价算法针对各种情况进行了对比,从陡峭区宽度、清晰度比率和陡峭程度叁个方面进行展示对比。清晰度比率提升了45%,陡峭程度提升了26%,可以明确看出本文提出的算法效果更好,抗噪性能更强。2.针对传统的调焦评价窗口缺乏自适应性,容易引入干扰等缺点,提出了单尺度与多尺度结合的自适应取窗方法。通过在多幅不同场景的图像测试下,可以明显看出提出的算法调焦窗口具有自适应性,能够自动选择主体目标,减少其他因素的干扰,通过清晰度评价算法对构建的窗口进行清晰度评价,效果显着。3.针对传统的爬山搜索算法易于陷入局部极值点不能搜索到焦平面的问题,提出了改进版爬山搜索算法,提出的算法能够极大地避免局部极值点的影响,搜索速度更快。4.在使用DLP6500设备进行曝光机平台研制的过程中,为了解决设备本身内存不足的问题,使得操作更为简单,成本更加低廉,提出了基于视频流的曝光方案。针对视频流方案,本文进行了软硬件验证,结果表明可以用于实际的曝光行业。(本文来源于《西安电子科技大学》期刊2017-06-01）
黄胜洲[6]（2017）在《基于DMD无掩膜光刻技术及其微透镜快速成型方法的研究》一文中研究指出微透镜是一种重要的光学元件,它具有重量轻、体积小、集成度高等优点,在光学、光电系统、微机电系统及传感器等领域中有着广泛的应用。近年来各种微透镜制作方法也大量涌现,如何经济有效快速地制作出所需要的微透镜及阵列结构已受到越来越多的研究者和工业界的关注。本文是利用数字微镜器件(DMD)无掩膜光刻技术作为研究手段,提出了快速有效的微透镜制作方法。以DMD曝光投影理论研究为基础,设计搭建了 DMD无掩膜光刻平台。基于该曝光平台,进行了叁维光调控技术的研究。然后,在此基础上又进行了多参数调制微透镜成型方法的研究,以及最后还进行了柔性制作仿生复眼透镜结构的研究,拓展了无掩膜光刻技术的应用。主要研究工作如下:本文首先对基于DMD空间光调制器的结构、工作原理、工作特点及其应用做了详细介绍。紧接着进行了基于DMD曝光投影成像理论的研究。基于该理论基础,自主设计和搭建了一套无掩膜光刻系统。该系统主要包括均匀照明系统,DMD控制系统,CCD聚焦控制系统和投影成像系统。并对该系统进行了系统的基本性能测试,最小分辨尺寸能达到2.44μm左右,获得的光刻图形质量能够满足设计的要求。在此基础上,进行了叁维光调控技术的研究。该技术是基于DMD无掩膜光刻单次扫描技术进行的,先通过设计所需叁维图形的理论轮廓,再进行叁维图形空间曝光剂量分布的计算,然后通过研究和优化叁维切片算法,最后能快速有效的获得高质量的成型叁维微结构轮廓。另外,考虑到DMD分辨率的限制及相邻切片层间的台阶,又进行了提高微透镜图形质量方法的研究。该方法是结合了该叁维光调控技术和提出的非接触式倒置热回流技术,结果表明该方法能够有效地提高成型微透镜的质量,弥补了 DMD叁维光调控技术的不足。利用该光刻平台,进行了多参数调制的微透镜成型方法的研究。该方法主要是利用旋涂过程产生的离心力使得微孔中的胶液能形成弯月面形状,进而通过调制旋涂速度、孔径大小、胶液浓度以及软烘温度等参数来调控弯月面的曲率半径,最终通过PDMS图形快速转印工艺可以方便得到不同形状大小的微透镜图形。最后,还进行了较为复杂的曲面仿生复眼透镜结构的制作研究。以自然界中的昆虫复眼的实际尺寸为理论参考,分别进行了仿生复眼透镜制作工艺、加工方法以及光学特性测量的研究。该研究中主要是利用DMD单次扫描光刻技术能够一次性快速的加工完成预成型的仿生复眼透镜结构,然后再巧妙地利用了 AZ P4620和S 1813两种正性光刻胶玻璃软化点(Tg)的差距,分别进行两次热回流得到所需要的仿生复眼微透镜结构。另外,为了避免热回流过程中微透镜结构的缺陷,还进行了边缘凸起现象的研究。在光学特性测量方面,通过自行搭建的光学测量系统对焦距大小、点扩散函数及成像能力进行了测量,测量结果表明通过该方法制作的仿生复眼透镜结构基本能够满足设计要求,而且比自然界中昆虫复眼呈现出更大的数值孔径。(本文来源于《中国科学技术大学》期刊2017-05-01）
冯泽明[7]（2017）在《改进型离子掩膜技术制作的玻璃基光波导研究》一文中研究指出随着社会的发展,人们对信息传输和处理的速度提出了越来越高的要求。传统的电互连因为其固有的物理瓶颈,已经不能继续适应高速信息社会的发展。光互连以其抗电磁干扰、大带宽、高互连密度等优势,成为解决电互连问题的最佳途径。光波导自身可以实现小半径弯曲,且容易实现波分复用技术,所以波导互连已经成为板级光互连中的一个主要连接方式。玻璃基光波导具有损耗小、环境稳定性好、易于集成、成本低等优势,因此非常适合板级光互连中光传输层的制作。由于电场辅助离子交换过程存在热均匀性问题,不适用于大尺寸基片中光波导的制作,所以目前一般都是采用Ag+-Na+热离子交换的方法。但是这种方法制作的表面光波导因为其折射率分布、表面散射和“银线”等原因,损耗较大,失去了在板级光互连制作中的优势。针对以上问题,本文采用改进型K+离子掩膜技术在玻璃基片上制作了低损耗掩埋型光波导,实验过程共分为叁步:(一)通过K+-Na+离子交换在玻璃基片表面制作K+离子掩膜层;(二)通过Ag+-Na+离子交换制作光波导结构;(叁)通过Na+-Ag+离子反交换制作掩埋型光波导。经过实验优化,制得的光波导传输损耗为0.23dB/cm,耦合损耗为0.23dB。与传统Ag+-Na+离子交换相比,光波导损耗有大幅度地降低。与电场辅助离子交换相比,插入损耗相近,但制作过程和设备大大简化,也避免了离子交换过程中出现的掩埋深度不均匀的现象,因此本文提出的改进型K+离子掩膜技术适用于板级光互连中光互连层的制作。本文从离子交换的物理机制出发,结合实验相关参数,针对改进型K+离子掩膜技术建立了离子交换理论模型,最后通过实验验证了理论模型的正确性,为今后的光波导制作提供了一种工具。(本文来源于《浙江大学》期刊2017-01-01）
赵晨昊,明平美[8]（2016）在《泡沫阴极掩膜电解加工技术》一文中研究指出在曲面上高效低成本地制备出高品质的金属微结构阵列,仍是科技界和产业界期待实现的目标之一。本文提出了一种基于泡沫金属的掩膜电解加工方法,以期利用泡沫金属的"高过流、易弯曲、可导电"等特性为加工过程提供更理想的电场与流场条件。阐释了它的工作原理,实验研究分析了它所制备的微坑的廓形特征、廓形尺寸的影响因素与分布特性以及它在平面与圆柱面工件上的应用效果。研究结果表明,泡沫阴极掩膜电解加工法在平面和曲面上都较易获得侧壁趋陡、底部趋平的、几何尺寸分布比较均匀的微坑阵列。(本文来源于《2016年全国电化学加工技术研讨会会议论文集》期刊2016-11-25）
明平美,周维海,赵晨昊,周红梅,秦歌[9]（2016）在《极间柔性多孔物充填型活动掩膜电解加工微坑技术》一文中研究指出针对常规掩膜电解加工极难在非平面工件上高效制取表面织构的难题,在设计开发出进液、排液、导流等功能结构合为一体的特殊工具阴极的基础上,本文提出一种极间柔性多孔物充填型活动掩膜电解加工微坑技术,数值仿真并优化设计了极间流场,试验分析了掩膜厚度、极间电压、压紧力、脉冲参数等核心工艺参数对微坑几何特征及其分布特性的影响.基于优选工艺条件,分别在不锈钢平面与圆柱面上加工出几何特征尺寸分布较均匀的微坑阵列.极间柔性多孔物充填型活动掩膜电解加工对平面与曲面工件均能展现出较强的表面织构制备能力和适应性.(本文来源于《中国科学:技术科学》期刊2016年10期）
周静,阳泽健,高福华,杜惊雷[10]（2016）在《利用灰度掩膜光刻技术制备螺旋相位片》一文中研究指出螺旋相位片(Spiral phase plate简称SPP)是产生轨道角动量光束的一种重要光学器件,在光束调控、量子信息等领域有着重要应用.本文提出了一种基于计算机打印灰度掩膜的螺旋相位片的加工方法,详细讨论了SPP设计方法和光刻工艺,并实验制作了拓扑电荷为3的螺旋相位片,利用马赫-策德尔干涉仪实验对SPP产生涡旋光束进行了检测,获得良好的螺旋相位干涉图.本文的研究结果为低成本、高质量、高效率的螺旋相位片加工技术提供了一种有用途径.(本文来源于《四川大学学报(自然科学版)》期刊2016年05期）
掩膜技术论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
随着电子通信行业的飞速发展,集成电路产业的需求呈现出爆炸式增长的趋势,光刻技术已成为如今集成电路制造领域的核心技术。近年来,基于DMD(Digital Micromirror Device,DMD)的数字光处理(Digital Light Processing,DLP)投影仪因其拥有较高对比度、高亮度、高效率及可二次开发等优点而被广泛应用。目前,基于DMD的无掩膜光刻技术在实际生产应用中还存许多问题,本文主要针对DMD无掩膜光刻过程的镜头畸变校正、大面积图像光刻和图像拼接等问题展开研究。本文通过对整个无掩膜光刻系统投影原理的研究,明确了镜头畸变产生的原因,并探讨了如何实现投影图像畸变校正的问题。根据是否已获取到投影入射角和像素偏移量的测量数据,分别提出了两种不同的畸变校正方案。若未获得测量数据,可借助相机实现图像采集,并通过最大似然估计法对相机标定过程进行优化,减少中间误差,最后完成投影仪标定实现对投影图像畸变校正。若已获得测量数据,则可以通过插值法对畸变量与像素坐标关系的重建,在计算得到每个像素点对应投影后的畸变量值之后,进而对待曝光图片进行预畸变处理。为了提高大面积图像曝光的效率,通过与传统曝光方案的对比,在深入了解扫描式投影和步进式投影的不足之后,本文提出了一种大面积分布式步进投影方法。通过采用多DMD镜头,依据DMD的分布和DMD的尺寸大小,对图片进行预填充处理,并记录步进关键帧信息,借助辅助设备完成控制指令的读取和区域图像传输,从而提高曝光吞吐量。针对多DMD以及不同图像帧之间存在的图片拼接问题,本文提出了一种基于DMD灰度调制技术的图像拼接方法。通过在拼接过程中,对切割好的曝光子图的重迭拼接区域进行灰度渐变处理,保证曝光图形的重迭与非重迭区域刻蚀程度一致,从而实现平滑拼接。最后结合本文实验项目,以DLP6500作为实验平台,分别搭建了投影镜头畸变校正实验平台和大面积步进曝光实验平台。设计并编写了一款基于Qt和OpenCV的上位机控制软件,对本文所提的图像畸变校正和大面积曝光方案进行验证。通过实际测量畸变量和对实际待曝光图像进行投影验证进一步证实了方案的可行性。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
掩膜技术论文参考文献
[1].邱金峰.连续无掩膜光刻与一种新型的热回流技术用于微透镜阵列成型[D].中国科学技术大学.2019
[2].吴晨枫.基于DMD无掩膜光刻系统中的关键技术研究[D].西安电子科技大学.2018
[3].赵晨昊.泡沫阴极掩膜电解加工微结构阵列技术研究[D].河南理工大学.2018
[4].薛贝贝.激光掩膜微细电解加工技术研究[D].佳木斯大学.2017
[5].姜福义.基于DMD的无掩膜曝光系统关键技术研究[D].西安电子科技大学.2017
[6].黄胜洲.基于DMD无掩膜光刻技术及其微透镜快速成型方法的研究[D].中国科学技术大学.2017
[7].冯泽明.改进型离子掩膜技术制作的玻璃基光波导研究[D].浙江大学.2017
[8].赵晨昊,明平美.泡沫阴极掩膜电解加工技术[C].2016年全国电化学加工技术研讨会会议论文集.2016
[9].明平美,周维海,赵晨昊,周红梅,秦歌.极间柔性多孔物充填型活动掩膜电解加工微坑技术[J].中国科学:技术科学.2016
[10].周静,阳泽健,高福华,杜惊雷.利用灰度掩膜光刻技术制备螺旋相位片[J].四川大学学报(自然科学版).2016