导读:本文包含了厚层抗蚀剂论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:光刻,宽厚,发展趋势,轮廓,模型,论文,技术。
厚层抗蚀剂论文文献综述
郭颖,潘峰,周平和,王少华,刘世杰[1]（2007）在《厚层抗蚀剂光刻技术研究进展》一文中研究指出厚层抗蚀剂光刻是一种制作深浮雕结构的微细加工技术。综述了近年来厚层抗蚀剂光刻技术的最新进展,从厚层抗蚀剂光刻工艺原理以及计算机模拟诸方面分析了该技术区别与传统光刻的一些特点,并对其应用的研究现状进行了总结,最后指出了进一步发展厚层抗蚀剂光刻技术的关键问题。(本文来源于《陕西理工学院学报(自然科学版)》期刊2007年03期）
刘世杰,杜惊雷,段茜,罗铂靓,唐雄贵[2]（2005）在《厚层抗蚀剂曝光模型及其参数测量》一文中研究指出针对厚层抗蚀剂曝光过程中存在诸非线性因素的影响,更新Dill曝光参数的定义,建立了适合描述厚层抗蚀剂曝光过程的增强Dill模型.光刻过程模拟的准确性与曝光参数的测量精度有很大关系,为此,建立了实时曝光监测实验装置,测量了不同工艺条件、不同厚度抗蚀剂的曝光透过率曲线,并演绎计算出曝光参数随抗蚀剂厚度和工艺条件的变化规律.最后给出了采用增强Dill模型进行曝光过程的模拟和实验结果的分析.(本文来源于《半导体学报》期刊2005年05期）
刘世杰,杜惊雷,肖啸,彭钦军,刘驰[3]（2003）在《厚层抗蚀剂显影轮廓分析》一文中研究指出DILL曝光模型和MACK显影模型,编制了接触式曝光系统的厚层抗蚀剂光刻模拟软件,用其分析在理想曝光剂量条件下,抗蚀剂显影后的线宽和侧壁陡度随显影时间的变化规律,分析得出了给定厚度的抗蚀剂的显影时间,为实验工艺上严格控制显影时间提供依据。(本文来源于《光学与光电技术》期刊2003年04期）
肖啸[4]（2003）在《厚层抗蚀剂成像特性研究》一文中研究指出从二十世纪九十年代以来，微电子机械系统(MEMS)发展迅速，促进了其加工方法的不断完善和进步。近年来，作为制作优质大高宽比微结构的厚层抗蚀剂光刻术以其工艺简单、制作成本低等优点受到国际上广泛重视。随着MEMS的迅速发展，其结构愈来愈复杂，高深宽比的新型MEMS结构需要被设计和加工，迫切需要对厚胶光刻过程的模拟。但目前关于厚层抗蚀剂光刻方面的研究，主要局限于实验工艺的改进上，对其图形传递机理的研究做得很少，现有的曝光、显影模型均未考虑厚层抗蚀剂光刻成像的一些特殊属性，一定程度上制约了厚胶光刻术的深入发展和应用。本论文以抗蚀剂的曝光显影理论为基础，深入开展了厚层抗蚀剂的成像特性的研究，可为厚胶光刻实验提供指导依据。 在论文中，基于抗蚀剂的光化学和反应动力学理论，重点研究了一些非线性因素对厚层抗蚀剂光刻带来的影响。针对厚层抗蚀剂在曝光过程中折射率发生了变化以及曝光参数随抗蚀剂厚度变化的特点，改进了原有的曝光模型；针对厚层抗蚀剂显影参数随抗蚀剂厚度变化的特点以及在显影过程中出现的表面抑制效应现象，改进了原有的显影模型。建立了适用于厚层抗蚀剂光刻的成像新模型。 同时，在论文中还深入讨论了抗蚀剂折射率变化对光场计算带来的误差；模拟了后烘过程对驻波效应的改善作用，论证了采用适当的后烘工艺改善抗蚀剂光刻质量的作用；分析了驻波效应对厚层抗蚀剂显影轮廓的影响，提出了一个可以忽略驻波效应影响的抗蚀剂厚度条件值；最后还模拟和分析了厚层抗蚀剂显影轮廓特点并给出了实验结果。(本文来源于《四川大学》期刊2003-05-10）
厚层抗蚀剂论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
针对厚层抗蚀剂曝光过程中存在诸非线性因素的影响,更新Dill曝光参数的定义,建立了适合描述厚层抗蚀剂曝光过程的增强Dill模型.光刻过程模拟的准确性与曝光参数的测量精度有很大关系,为此,建立了实时曝光监测实验装置,测量了不同工艺条件、不同厚度抗蚀剂的曝光透过率曲线,并演绎计算出曝光参数随抗蚀剂厚度和工艺条件的变化规律.最后给出了采用增强Dill模型进行曝光过程的模拟和实验结果的分析.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
厚层抗蚀剂论文参考文献
[1].郭颖,潘峰,周平和,王少华,刘世杰.厚层抗蚀剂光刻技术研究进展[J].陕西理工学院学报(自然科学版).2007
[2].刘世杰,杜惊雷,段茜,罗铂靓,唐雄贵.厚层抗蚀剂曝光模型及其参数测量[J].半导体学报.2005
[3].刘世杰,杜惊雷,肖啸,彭钦军,刘驰.厚层抗蚀剂显影轮廓分析[J].光学与光电技术.2003
[4].肖啸.厚层抗蚀剂成像特性研究[D].四川大学.2003
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