论文摘要
计算光场自适应光学成像(CAPIS)技术能够同时记录信号的位置和方向,从光场信息中可得到畸变波前斜率,从而重构波前。研究了CAPIS技术探测光学波前畸变,给出了数值计算模型并进行了仿真分析。结果表明,CAPIS技术可准确地探测低阶像差波前,波前残差方均根值小于0.1λ。建立实验光路并实现了对低阶像差波前的探测,波前残差方均根值小于0.5λ。仿真和实验结果均表明,CAPIS技术可有效地探测低阶像差波前,该结果对探索大视场波前探测方法具有重要意义。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 柯熙政,杨珂,张颖
关键词: 自适应光学,波前畸变,计算光场自适应光学成像,像差,波前探测,光场信息
来源: 激光与光电子学进展 2019年12期
年度: 2019
分类: 信息科技,基础科学
专业: 物理学,计算机软件及计算机应用
单位: 西安理工大学自动化与信息工程学院
基金: 国家自然科学基金(61377080,60977054),陕西省重点产业创新项目(2017ZDCXL-GY-06-01)
分类号: O439;TP391.41
页码: 30-37
总页数: 8
文件大小: 5289K
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