论文摘要
二维光栅是光刻机光栅尺系统的核心元件。搭建了超精密激光直写系统,基于二维超精密工件台,通过旋转基片90°进行两次曝光,制作出栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模。原子力显微镜和扫描电镜结果表明,所制作的掩模轮廓清晰,空间分布均匀。实验结果证明了超精密激光直写系统能够制作出二维光栅掩模,在制作大尺寸、高精度二维计量光栅方面有着广阔的应用前景。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 李民康,向显嵩,周常河,韦春龙,贾伟,项长铖,鲁云开,朱世曜
关键词: 光栅,超精密系统,激光直写,栅距测量
来源: 光学学报 2019年09期
年度: 2019
分类: 基础科学,信息科技
专业: 物理学,无线电电子学
单位: 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,中国科学院大学材料与光电研究中心,暨南大学光子技术研究院
基金: 中国科学院前沿科学重点研究项目(QYZDJ-SSW-JSC014)
分类号: TN241;TN405
页码: 38-46
总页数: 9
文件大小: 585K
下载量: 236
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