掺杂石墨二炔电子结构的第一性原理研究

掺杂石墨二炔电子结构的第一性原理研究

论文摘要

石墨二炔是近年实验上成功合成的一种新型二维碳材料,具有独特的结构、丰富的化学键和电子性质,拥有巨大的应用潜力。使用基于密度泛函理论的第一性原理方法,系统研究硅、锗、硼、氮、磷单元素替位掺杂的石墨二炔以及硼-氮、硼-磷双元素共掺杂的石墨二炔的电子结构。发现硅、锗掺杂的石墨二炔和硼-氮、硼-磷共掺杂的石墨二炔依然是半导体,带隙大小在0.004~0.49 eV;而硼、氮、磷掺杂的石墨二炔都变成了金属。本研究可为实验上通过掺杂手段调节石墨二炔的带隙和费米面位置提供理论依据。

论文目录

  • 1 计算方法
  • 2 本征石墨二炔的能带结构和态密度
  • 3 硅、锗掺杂石墨二炔的能带结构
  • 4 硼、氮、磷掺杂石墨二炔的能带结构
  • 5 硼-氮、硼-磷共掺杂石墨二炔的能带结构
  • 6 掺杂石墨二炔的形成能
  • 7 总结
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 张紫涵,崔慧娟,闫清波,苏刚

    关键词: 石墨二炔,第一性原理计算,掺杂,电子结构

    来源: 中国科学院大学学报 2019年06期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工

    单位: 中国科学院大学物理科学学院,北京建筑大学理学院,中国科学院大学材料科学与光电技术学院

    基金: 国家自然科学基金(11474279)资助

    分类号: TQ127.11

    页码: 721-728

    总页数: 8

    文件大小: 650K

    下载量: 133

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