六角氮化硼(h-BN)对单层硒化铟(InSe)的调制效应及这一新结构的电子性质

六角氮化硼(h-BN)对单层硒化铟(InSe)的调制效应及这一新结构的电子性质

论文摘要

采用基于密度泛函理论的第一性原理计算和分析了三种InSe/h-BN异质结的结构和电子性质.研究发现InSe/h-BN异质结具有间接带隙特点,并且价带顶和导带底的贡献均来自于InSe,差分电荷密度表明体系中没有明显的电荷交换.通过体系能带结构,我们发现h-BN层对单层InSe有着明显的调控效应.对比纯粹应变调控下单层的InSe的能带结构,发现h-BN对InSe能带结构的调控效应实际上是由InSe和h-BN之间的相互作用而诱导的晶格应变引起的.我们的研究结果表明,单层InSe沉积或生长在不同h-BN片上可以获得不同的晶格应变,实现对单层InSe能带结构的有效调控.

论文目录

  • 1 引 言
  • 2 理论方法和模型
  • 3 结果和讨论
  • 4 结 论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 谢子锋,张智慧,李赫,郑丹,段理

    关键词: 异质结,第一性原理,能带结构,晶格调控

    来源: 原子与分子物理学报 2019年03期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 材料科学

    单位: 长安大学材料科学与工程学院,长安大学环境科学与工程学院

    基金: 长安大学研究生科研创新实践项目(2018131)

    分类号: TB303

    页码: 505-510

    总页数: 6

    文件大小: 1547K

    下载量: 171

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