论文摘要
结合真空电子束气相沉积（electron beam evaporation deposition, EBVD）和磁控溅射（magnetron sputtering deposition, MSD）技术,分别在Al2O3陶瓷衬底上制备以Cu膜为发射层的单一Cu膜和Mo/Cu复合膜及Mo/Ni/Cu复合膜3种结构阴极薄膜。基于二极管场发射器件结构,研究了各样品的场发射特性。利用场发射扫描电子显微镜（field emission scanning electron microscopy, FE-SEM）和能谱仪（energy dispersive spectrometry, EDS）对样品表面形貌和成分进行分析。结果表明:Mo/Ni/Cu复合膜的阈值电场为3.3 V·μm-1;最大电流密度为63.0μA·cm-2;比在相同条件下制备的单一Cu膜和Mo/Cu复合膜具有更好的场发射特性,表明金属复合膜结构有效的改善了单一Cu膜的场发射性能。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 王丽军,郭媚媚,王小平
关键词: 金属复合膜,场发射,电子束气相沉积
来源: 有色金属材料与工程 2019年06期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 材料科学,工业通用技术及设备
单位: 上海理工大学理学院
基金: 上海市教委重点创新项目（14ZZ137）
分类号: TB383.2
DOI: 10.13258/j.cnki.nmme.2019.06.001
页码: 1-5
总页数: 5
文件大小: 1320K
下载量: 43
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