液浮法抛光优化技术

液浮法抛光优化技术

论文摘要

一种新的光学元件表面抛光工艺—液浮抛光技术,采用具有剪切增稠效应的非牛顿流体作为抛光液,流体在抛光区域形成液膜,实现对工件表面高效、低损伤的加工。以材料去除量以及工件表面粗糙度作为评价指标,利用正交实验法对K9玻璃抛光过程中的四个关键影响因素:磨粒质量分数、磨头入口压强、磨头重力、剪切增稠相中分散相的质量分数进行实验分析,得到一组最优参数组合以及各主要影响因素对抛光效果的影响程度。对于工件表面粗糙度,采用极差法得出各因素对整个工件的影响程度的主次顺序为(主→次):二氧化硅质量分数、磨头重力、入口压强、磨粒质量分数,最佳参数组合为:磨粒氧化铈质量分数为14%,入口压强为0.3MPa,剪切增稠相中分散相二氧化硅质量分数为9%,磨头重力为34.3kg;对于材料去除量分布,经过90min的抛光,其平均去除量为0.2μm。

论文目录

  • 0 引 言
  • 1 液浮抛光法的基本原理
  • 2 优化实验
  •   2.1 实验装置与条件
  •   2.2 检测方法
  •   2.3 正交实验
  •     2.3.1 正交实验表的建立与实验结果
  •     2.3.2 实验结果分析
  •       (1) 工件表面粗糙度的变化结果
  •       (2) 材料去除量的变化情况
  • 3 结 论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 弥谦,秦琳,李宏,郭忠达

    关键词: 光学元件加工,液浮抛光法,剪切增稠液体,正交实验,极值法

    来源: 光学技术 2019年02期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工

    单位: 西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心

    基金: 装备发展部共用技术项目(41423020111),陕西省自然科学基础研究计划项目(2018JM6031),陕西省教育厅重点实验室科研计划项目(18JS052),陕西省科技厅重点研发计划项目(2017ZDXM-GY-122)

    分类号: TQ171.684

    DOI: 10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2019.02.023

    页码: 251-256

    总页数: 6

    文件大小: 795K

    下载量: 101

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