三价铬电沉积过程强化规律研究

三价铬电沉积过程强化规律研究

论文摘要

铬镀层具有优异的机械和抗腐蚀性能,传统六价铬电镀存在高毒、高污染等问题,三价铬绿色电镀工艺受到普遍关注,但铬镀层不能持续增厚和镀液稳定性差是关键瓶颈.文中研究了脉冲电流和镀液流动对铬电沉积的影响规律,发现两者均可促进电镀过程中生成的副产物向镀液主体的传递.然而,脉冲电镀会降低铬电沉积效率,镀液流动可以提高铬电沉积效率,并能促进铬镀层的持续增厚.在50 mL/min的镀液流动条件下,直流电镀60 min,可获得41μm的厚铬镀层,沉积速率为0.68μm/min,镀层表面平整致密.

论文目录

  • 1 实验
  •   1.1 流动电镀实验装置
  •   1.2 镀液组成与电镀条件
  • 2 三价铬电镀过程中阴极副产物的作用
  • 3 三价铬脉冲电沉积研究
  •   3.1 脉冲电沉积机理分析
  •   3.2 脉冲电镀对铬电沉积的影响规律
  • 4 镀液流动对铬电沉积的影响规律
  • 5 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 赵世强,郭丰

    关键词: 三价铬电,电沉积速率,脉冲电镀,镀液流动

    来源: 有色金属科学与工程 2019年04期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 无机化工,电力工业

    单位: 北京科技大学钢铁冶金国家重点实验室

    分类号: TQ153.11

    DOI: 10.13264/j.cnki.ysjskx.2019.04.007

    页码: 39-44

    总页数: 6

    文件大小: 823K

    下载量: 92

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