Zn(BDC)(4,4’-Bipy)0.5DMF(H2O)0.5在硅及其改性基底上取向生长研究

Zn(BDC)(4,4’-Bipy)0.5DMF(H2O)0.5在硅及其改性基底上取向生长研究

论文摘要

采用溶剂热和常压合成方法,分别制备MOF-508 (Zn(BDC)(4,4’-Bipy)0.5DMF(H2O)0.5)粉末样品及其在Si、Au/Si、COOH-Au/Si基底上的薄膜,通过X射线广角衍射法检测其在基底表面上的取向生长。发现仅在常压法下COOH-Au/Si基底上MOF-508配位聚合物沿着[001]方向生长,用电子扫描电镜技术发现其在COOH-Au/Si基底上的晶体形状统一,多为长方形,说明常压法和基底对其取向生长起到关键性的因素,这对于以后配合物薄膜取向生长提供了参考数据。

论文目录

  • 1 MOF-508结构
  • 2 试剂与仪器
  • 3 合成方法
  •   3.1 基底处理步骤
  •     (1) 硅片的清洗:
  •     (2) 喷金硅片:
  •     (3) 自组装Au/Si片:
  •   3.2 溶剂热法制备MOF-508薄膜
  •   3.3 常压法制备MOF-508薄膜
  • 4 结果与讨论
  • 5 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 齐悦,杨洁,王春霞

    关键词: 配位聚合物薄膜,溶剂热,常压法,取向生长,射线广角衍射

    来源: 实验技术与管理 2019年06期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 四川大学化学学院基础化学实验教学中心

    基金: 国家自然科学基金项目(51502181),四川大学新世纪高等教育改革工程(第八期)研究项目(SCU8156),四川大学研究生课程建设项目(2018KCJS011)

    分类号: TB383.2

    DOI: 10.16791/j.cnki.sjg.2019.06.015

    页码: 69-71+75

    总页数: 4

    文件大小: 1636K

    下载量: 71

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