论文摘要
结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速率、膜层形貌和表面粗糙度的影响及相关规律,为磁控溅射制备Mo薄膜、ZnO光学膜层时调控膜层厚度、透光率等性能提供参考。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 杨仲秋
关键词: 磁控溅射,工作气压,薄膜
来源: 黑龙江科学 2019年14期
年度: 2019
分类: 基础科学,工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑
专业: 材料科学,工业通用技术及设备
单位: 黑龙江省科学院技术物理研究所
分类号: TB383.2
页码: 38-39
总页数: 2
文件大小: 142K
下载量: 224
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