论文摘要
采用旋涂法在导电玻璃（FTO）上制备了CuBi2O4薄膜。通过调控旋涂的次数,得到具有较优光电化学性能的CuBi2O4薄膜。同时研究了多次旋涂过程中旋涂转速、烘干温度对制备的薄膜的均匀性的影响。实验结果表明:采用3 000 r/min转速,300℃的烘干温度可以得到均匀的薄膜。旋涂层数为4层时可以得到最优的光电催化性能,较旋涂3次的薄膜性能提升72%。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 杨杰,杜纯
关键词: 光电催化,旋涂,薄膜均匀性
来源: 辽宁化工 2019年05期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 化学,材料科学,工业通用技术及设备
单位: 华中科技大学材料科学与工程学院
分类号: TB383.2;O646
DOI: 10.14029/j.cnki.issn1004-0935.2019.05.002
页码: 398-400+403
总页数: 4
文件大小: 1174K
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