砷(Ⅲ)离子印迹聚合物的制备及吸附性能研究

论文摘要

以磁性氧化石墨烯为载体,砷离子（As（Ⅲ））为模板离子,3-巯基丙基三甲氧基硅烷（MPTS）为功能单体,正硅酸乙酯（TEOS）为交联剂合成了As（Ⅲ）离子印迹磁性氧化石墨烯纳米材料（MGO-IIP）,并使用扫描电子显微镜、傅里叶变换红外光谱（FTIR）、X-射线衍射仪（XRD）和振动样品磁强计对合成材料进行了表征.同时,考察了MGO-IIP对As（Ⅲ）的吸附特性.结果表明:318 K下MGO-IIP对As（Ⅲ）的最大吸附量为148.1 mg·g-1,仅20 min即可达到吸附平衡,印迹因子为2.35;吸附过程服从Langmuir模型和准二级动力学模型,说明是自发的吸热过程;在其他干扰离子存在的情况下,MGO-IIP对As（Ⅲ）仍然具有良好的吸附效果,且能够重复使用4次,在含砷废水处理中具有应用价值.MGO-IIP材料对As（Ⅲ）的吸附机制为表面络合作用及物理吸附.

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 张梦圆,马晓国,黄仁峰,李桂英

关键词: 离子印迹,选择性吸附,磁性氧化石墨烯

来源: 环境科学学报 2019年09期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 化学,环境科学与资源利用

单位: 广东工业大学环境科学与工程学院,华南理工大学环境与能源学院

基金: 国家自然科学基金(No.41272262),广东省科技计划项目(No.2016A040403112),广东省教育厅重大项目(自然科学)(No.261555101)

分类号: X703;O647.3

DOI: 10.13671/j.hjkxxb.2019.0146

页码: 3010-3017

总页数: 8

文件大小: 504K

下载量: 251

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标签：离子印迹论文;  选择性吸附论文;  磁性氧化石墨烯论文;