论文摘要
使用射频磁控溅射法在石英衬底上制备ZnO掺Ga薄膜(GZO),通过调制不同的溅射功率制备GZO薄膜,研究了溅射功率对GZO薄膜光电学性能的影响。对不同溅射功率下的GZO薄膜进行X射线衍射、扫描电镜(SEM)、内应力、紫外可见光光谱、光致发光谱分析和电学性能分析。结果表明:随着溅射功率的提高,GZO薄膜保持良好的C轴择优取向;薄膜结晶度增加,晶界减少,晶粒尺寸增大;透光性减小;薄膜缺陷降低;薄膜表面方块电阻下降。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 张志秦,胡跃辉,张效华,胡克艳,陈义川,朱文均,帅伟强,劳子轩
关键词: 溅射功率,晶粒尺寸,方阻,透光性
来源: 陶瓷学报 2019年02期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备
单位: 景德镇陶瓷大学机械电子工程学院
基金: 国家自然科学基金(6146005),江西省科技厅重点研发计划项目(20171BBE50053),江西省主要学科科学带头人项目(20123BCB22002)
分类号: TQ132.41;TB383.2
DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2019.02.010
页码: 186-190
总页数: 5
文件大小: 1296K
下载量: 104
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