MgB2/Mo多层膜的制备与超导性质

论文摘要

采用磁控溅射技术（MS）和混合物理化学气相沉积法（HPCVD）在单晶Al2O3基底上制备MgB2/Mo多层膜。通过扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）和标准四线法对样品的表面形貌、晶体结构和超导特性进行了测量研究。结果表明,随着后续MgB2沉积温度的提高,各膜层结晶程度进一步提高,晶粒尺寸不断增大,各自保持着良好的物质稳定性。在730℃下生长的MgB2薄膜的超导转变温度Tconset和零电阻温度Tc0分别为39.73和39.53 K,剩余电阻率ρ40K为0.77μΩ·cm,表明样品处于干净极限。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 周章渝,肖寒,王松,张青竹,王代强,陈雨青,傅兴华

关键词: 混合物理化学气相沉积法,磁控溅射技术,多层膜

来源: 稀有金属材料与工程 2019年08期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备

单位: 贵阳学院,中国科学院微电子研究所,贵州省微纳电子与软件技术重点实验室,贵州民族大学

基金: 国家自然科学基金（11564005）,贵州省科技厅联合基金（黔科合LH字[2015]7300号）,贵州省教育厅创新团队重大研究项目（黔教合KY字[2017]035）,贵州省教育厅重点支持学科项目（黔学位合字ZDXK[2016]21号）,贵州省教育厅高校科技创新团队（黔教合人才团队字[2013]18号）

分类号: TB383.2

页码: 2711-2715

总页数: 5

文件大小: 991K

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