金属掺杂氮化钨薄膜的制备及其特性研究

论文摘要

氮化钨（W2N）薄膜是具有优异机械性能的硬质过渡金属氮化物,在保护涂层、扩散势垒层等领域具有广泛的应用。本文采用磁控溅射法,分别在Si（100）、A304不锈钢衬底上成功制备了结晶良好的W2N薄膜。为了改善W2N薄膜的力学和摩擦学性能,采用射频和直流共溅射方法制备了软质金属Y和硬质金属Cr共掺杂的W2N（Y-Cr:W2N）薄膜。在掺杂功率为30 W时,具有硬度最大值为23.71GPa,此时样品的弹性模量为256.34 GPa。平均摩擦学系数也有所降低。在掺杂功率为20W时薄膜具有最小的磨损率为2.062×10-6 mm3/Nmm。表明随着金属Y-Cr的掺入,薄膜的力学和摩擦学性能有了很大的改善。

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类型: 期刊论文

作者: 苏航,顾广瑞

关键词: 薄膜,磁控溅射,掺杂,力学性能,摩擦学性能

来源: 智库时代 2019年22期

年度: 2019

分类: 社会科学Ⅰ辑,经济与管理科学,工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 延边大学

分类号: TG174.4

页码: 178-180

总页数: 3

文件大小: 2355K

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标签：薄膜论文;  磁控溅射论文;  掺杂论文;  力学性能论文;  摩擦学性能论文;