论文摘要
采用直流反应磁控溅射法在透明导电ITO玻璃上先沉积三氧化钨（WO3）薄膜,然后在其表面沉积二氧化钛（TiO2）.利用场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）、X射线衍射仪（XRD）和X射线光电子能谱（XPS）考察薄膜表面断面形貌、晶体结构和化学组成.利用紫外-可见-近红外分光光度计和电化学工作站测试薄膜的透射率、循环伏安和计时电流特性,分析其电致变色光学调制幅度和着色效率.结果表明沉积TiO2后,薄膜仍为无定型结构,表面形貌无明显变化,也未出现分层现象.薄膜表面成分为TiO2和WO3.与纯WO3薄膜相比,表面沉积TiO2后降低了离子注入/脱出扩散速率,导致薄膜着色效率下降.但在驱动电压±1.2 V范围内,表现出较好的着/褪色循环稳定性,说明表面上的TiO2可有效地抑制WO3薄膜性能衰减,对薄膜表面起到保护作用.
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 王美涵,陈昀,雷浩,黄奕博,文哲,马佳玉
关键词: 三氧化钨,薄膜,二氧化钛,磁控溅射,电致变色性能
来源: 沈阳大学学报(自然科学版) 2019年05期
年度: 2019
分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 材料科学,工业通用技术及设备
单位: 沈阳大学机械工程学院,中国科学院金属研究所
基金: 国家自然科学基金资助项目(51302175),辽宁省自然科学基金资助项目(20180550727)
分类号: TB383.2
DOI: 10.16103/j.cnki.21-1583/n.2019.05.001
页码: 355-361
总页数: 7
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