TiO2纳米管阵列基底退火温度对CdSe/TiO2异质结薄膜光电化学性能的影响

TiO2纳米管阵列基底退火温度对CdSe/TiO2异质结薄膜光电化学性能的影响

论文摘要

通过电化学沉积法以TiO2纳米管阵列(TNTs)为基底制备CdSe/TiO2异质结薄膜。研究TiO2纳米管阵列基底不同退火温度(200,350,450,600℃)对CdSe/TiO2异质结薄膜光电化学性能的影响。采用SEM,XRD,UV-Vis,电化学测试等方法对样品的微观形貌、晶体结构、光电化学性能等进行表征。结果表明:立方晶型的CdSe纳米颗粒均匀沉积在TiO2纳米管阵列管口及管壁上。TiO2纳米管阵列未经退火及退火温度为200℃时,为无定型态,在TiO2纳米管阵列上沉积的CdSe纳米颗粒数量少,尺寸小,异质结薄膜光电性能较差,光电流几乎为零。随着退火温度升高到350℃,TiO2纳米管阵列基底开始向锐钛矿转变;且沉积在TiO2纳米管上的CdSe颗粒增多,尺寸增大,光电化学性能提高。退火温度为450℃时光电流值达到最大,为4.05mA/cm2。当退火温度达到600℃时,TiO2纳米管有金红石相出现,CdSe颗粒变小,数量减少,光电化学性能下降。

论文目录

  • 1 实验材料与方法
  •   1.1 基底与原料
  •   1.2 CdSe/TiO2异质结薄膜制备
  •     1.2.1 TiO2纳米管阵列基底的制备
  •     1.2.2 电沉积CdSe
  •   1.3 样品表征
  • 2 结果与分析
  •   2.1 CdSe/TiO2异质结薄膜的微观形貌
  •   2.2 CdSe/TiO2异质结薄膜的XRD分析
  •   2.3 CdSe/TiO2异质结薄膜的UV-Vis分析
  •   2.4 CdSe/TiO2异质结薄膜的光响应分析
  •   2.5 CdSe/TiO2异质结薄膜的J-V曲线分析
  •   2.6 TiO2/CdSe异质结薄膜的开路电位分析
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 赵斌,张芮境,申倩倩,王羿,薛晋波,张爱琴,贾虎生

    关键词: 异质结,退火温度,光电化学性能,相转变

    来源: 材料工程 2019年08期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 太原理工大学新型传感器与智能控制教育部重点实验室,太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原理工大学材料科学与工程学院,太原理工大学轻纺工程学院

    基金: 国家自然科学基金(21878257,51402209,21276220),山西省科技攻关计划项目(201603D121017),山西省重点研发国际科技合作项目(201803D421079),山西省基础研究项目(201701D221083),山西省高校科技创新研究项目(2016124)

    分类号: TB383.2;TB383.1

    页码: 90-96

    总页数: 7

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