聚乙烯醇改性对原子层沉积氧化铝复合隔膜的影响

论文摘要

原子层沉积技术（ALD）是一种具有表面自限性反应的薄膜生长技术,可以精准控制薄膜的生长。本文研究了ALD技术包覆聚烯烃隔膜,制作纳米氧化铝聚烯烃复合隔膜。聚烯烃膜表面无ALD氧化铝反应基团,造成ALD氧化铝生长成核慢,前期反应效率低,最终生长的氧化铝多形成团簇而非完整覆盖的薄膜。为了增强ALD氧化铝包覆聚乙烯膜（PE）的全覆盖薄膜生长,将PE膜进行了聚乙烯醇（PVA）表面改性处理,然后进行ALD Al2O3生长。通过扫描电镜、红外光谱、电感耦合发射光谱仪等技术手段系统分析了PVA表面改性对ALD Al2O3包覆PE膜性能指标的影响。结果表明,PVA改性可以简单有效地在PE膜上增加羟基（-OH）作为ALD反应位点。处理后的PE膜进行ALD Al2O3生长,前驱体进入反应腔室后更易与表面羟基进行反应,提高表面生长效率,纤维上均匀包覆氧化铝,无岛状生长的Al2O3团簇。同时PVA改性可以增强复合膜的耐热收缩性能,减少厚度增加,减轻机械结构的损坏。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 于文汇,刘彦峰,王韫宇,李昌烽

关键词: 聚乙烯膜,原子层沉积,表面改性,聚乙烯醇

来源: 真空科学与技术学报 2019年08期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备,电力工业

单位: 江苏大学能源与动力工程学院

基金: 国家自然科学基金项目(51576092),江苏省镇江市“331工程”项目

分类号: TB383.2;TM912

DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2019.08.17

页码: 718-724

总页数: 7

文件大小: 3684K

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