导读:本文包含了真空溅射论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:磁控溅射,等离子体,真空,辉光,射频,功率,离子束。
真空溅射论文文献综述
马艳红[1]（2019）在《磁控真空溅射镀膜机在陶瓷表面装饰中的应用价值》一文中研究指出氧化锆陶瓷作为一种新型的陶瓷材料,具有强度高、硬度高、韧性好、耐磨、耐腐蚀性好、生物相容性好等特点,特别适合智能穿戴等电子消费品的外观装饰件。但是由于氧化锆陶瓷的透明度有限,难以变化出丰富多彩的颜色,限制了它的广泛使用。本文通过真空镀膜在氧化锆陶瓷表面实现丰富多彩的颜色,其彩色膜层具有高耐磨、高硬度、不导电、无电磁屏蔽效应等优点,可以实现氧化锆陶瓷的颜色定制和任意调色,大大丰富了氧化锆陶瓷的表面颜色,同时保持了陶瓷本身的强度和(本文来源于《电子世界》期刊2019年10期）
高正华[2]（2019）在《液晶生产用G8.5/8.6连续式真空溅射设备本地化生产》一文中研究指出(本文来源于《2019·中国显示行业供应链技术和市场对接交流会“第二届（2018 年度）中国新型显示产业链发展贡献奖”表彰大会会议文集》期刊2019-03-25）
张以忱[3]（2018）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2018年第1期第72页)b.带有中空阴极的平面磁控溅射系统图104给出了一个在传统的平面磁控溅射系统中附加了中空阴极电子枪的溅射装置,这是一个叁极装置,其中阴极为磁性阴极,中空阴极电子源作为一个二极阴极。电子源靠近磁阴极,以使它位于阴极的边缘,但仍基本处于磁场中。中空阴极在磁场中的位置是至关重要的。从中空阴极中发射出来的电子产生额外的气体离化,由(本文来源于《真空》期刊2018年02期）
张以忱[4]（2018）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2017年第6期第80页)(4)中频磁控靶PEM控制中频反应溅射系统最好同时采用等离子体发射光谱监控系统,并快速响应反应气体供气,使溅射过程更加稳定和反应布气更加均匀。中频磁控溅射双平面靶的PEM控制系统和控制原理如图92和图93所示。6.7非对称脉冲溅射脉冲磁控溅射一般使用矩形波电压,这不仅是因为用现有的电子器件采用开关工作方式可(本文来源于《真空》期刊2018年01期）
张以忱[5]（2017）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2017年第5期第80页)(2)中频溅射的沉积速率高。对硅靶,中频反应溅射的沉积速率是直流反应溅射速率的10倍。比射频溅射高五倍左右。(3)中频溅射过程可稳定在设定的工作点。它既消除了"打火"现象,又能够克服直流放电状态下常出现的靶中毒和阳极消失现象。(4)中频电源的制作成本较低,设备安装、调试及维护比射频溅射容易,运行稳定,中频电源(本文来源于《真空》期刊2017年06期）
张以忱[6]（2016）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2016年第4期第80页)(2)膜层沉积不均匀薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。任何一种有实际应用价值的薄膜,都对膜厚分布有特定的要求,都要求所镀的膜层厚度尽可能均匀一致,有尽可能好的膜厚均匀性。提高膜厚均匀性有多种方法,比如将溅射靶源和基片放置在合适的位置,采用旋转基片,增加遮挡机构等等。对于磁控溅射镀膜,理想的(本文来源于《真空》期刊2016年05期）
张以忱[7]（2016）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2016年第3期第80页)由于工作时是匀速旋转的,因而不但溅射更加均匀,靶材利用率也大大提高,一般的平面磁控溅射靶的靶材利用率极低(不足20%),而这种结构靶材利用率超过70%。(本文来源于《真空》期刊2016年04期）
张以忱[8]（2016）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2016年第2期第80页)由此得出电子在磁控溅射中磁场作用域内叁维方向的自由运动情况(即不考虑与其它粒子相互碰撞等作用)如下:x方向(横向:跑道断面与靶水平的方向,指向内侧的为正):围绕磁力线的在两极间的变幅螺旋往复振荡(在两极附近回旋半径最小,在走廊中心线处回旋半径最大,其本身就是xyz的叁维运动);y方向(竖向:垂直靶面的方向,离开靶面朝外的方向为正):恒有一个离开靶面的速度分量;z方向(纵向:电漂移方向,即E×B方向为(本文来源于《真空》期刊2016年03期）
张以忱[9]（2016）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2016年第1期第80页)b.组合磁路改进磁场结构,用组合磁场代替传统的单一磁场,其目的是更有利于放电的稳定(离化率高)和增宽靶材的刻蚀区,提高靶材的利用率。图42是传统磁控源的磁场结构原理图。为单一磁路系统,磁力线的方向都是垂直靶面的,依靠磁力线在空间弯曲,在拱形磁力线的顶部形(本文来源于《真空》期刊2016年02期）
张以忱[10]（2016）在《第十九讲 真空溅射镀膜》一文中研究指出(接2015年第6期第80页)(1)磁控溅射的放电特性磁控溅射放电均为低压等离子体放电,各种阴极靶的放电电流—电压特性基本一致。随着放电电流的增加,放电电压均需要增高;随着工作气压的增高,放电电压下降;磁场对放电特性有影响。磁控溅射的电流I和放电电压V的关系服(本文来源于《真空》期刊2016年01期）
真空溅射论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
真空溅射论文参考文献
[1].马艳红.磁控真空溅射镀膜机在陶瓷表面装饰中的应用价值[J].电子世界.2019
[2].高正华.液晶生产用G8.5/8.6连续式真空溅射设备本地化生产[C].2019·中国显示行业供应链技术和市场对接交流会“第二届（2018年度）中国新型显示产业链发展贡献奖”表彰大会会议文集.2019
[3].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2018
[4].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2018
[5].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2017
[6].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2016
[7].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2016
[8].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2016
[9].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2016
[10].张以忱.第十九讲真空溅射镀膜[J].真空.2016
论文知识图
