论文摘要
采用双阴极等离子溅射沉积技术在TC4 （Ti-6Al-4V）合金基体表面制备了Nb2N涂层,利用XRD,SEM和EDS研究涂层的微观组织结构;使用划痕法测试了涂层与基体的结合力;采用开路电位（OCP）测量、动电位极化、电化学阻抗谱（EIS）等电化学测试技术,研究所制备的Nb2N薄膜在3.5%（质量分数） NaCl溶液中的电化学腐蚀行为,并与TC4基体进行比较。结果表明:所制备涂层分为过渡层和沉积层,涂层厚度约为21μm。涂层连续致密且光滑,没有明显孔洞或间隙。Nb2N涂层相较于TC4基体开路电位到达稳态值时间较短且稳态值较高;Nb2N涂层点腐蚀电位更高,腐蚀电流更低;涂层阻抗谱数据呈现单一容抗弧特性,容抗弧值高于TC4基体的,且相位角曲线最大值更大并且最大值处具有更宽的区间。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 史昆玉,张进中,张毅,万毅
关键词: 双阴极等离子溅射技术,涂层,微观结构,耐腐蚀性能,合金
来源: 中国腐蚀与防护学报 2019年04期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺
单位: 武汉工程大学机电工程学院
基金: 武汉工程大学科学研究基金(k201519)~~
分类号: TG174.4
页码: 313-318
总页数: 6
文件大小: 3505K
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