论文摘要
介绍了四氟化硅气体中杂质的4种检测方法:气相色谱法、红外光谱法、气相色谱质谱法、原子发射光谱法。其中,气相色谱法一般用来测定四氟化硅气体中的烃类杂质,红外光谱法主要用来测定四氟化硅气体中的氟硅烷、氟氧硅烷、氟硅醇杂质。气相色谱质谱法用来测定四氟化硅气体中的六氟化硫杂质,原子发射光谱法主要用来测定四氟化硅气体中的金属杂质。然后对四氟化硅气体的不同净化方法进行列举,并对净化工艺的条件、优缺点进行了阐述。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 张丹辉,唐安江,韦德举,黄崇
关键词: 四氟化硅,杂质检测,杂质净化
来源: 应用化工 2019年02期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 化学,无机化工
单位: 贵州大学化学与化工学院,贵州理工学院化学工程学院
基金: 贵州省科技计划项目(黔科合SY字[2014]3058)
分类号: TQ127.2;O657
DOI: 10.16581/j.cnki.issn1671-3206.20181127.015
页码: 486-489+493
总页数: 5
文件大小: 138K
下载量: 122
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