导读:本文包含了电子束溅射论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:电子束,磁控溅射,离子束,薄膜,性能,等离子体,脉冲。
电子束溅射论文文献综述
时光,梅林,高劲松,张立超,张玲花[1]（2013）在《离子束溅射、热舟和电子束法制备深紫外LaF_3薄膜》一文中研究指出为了满足深紫外光刻物镜对薄膜的要求,得到低损耗、高稳定性、长寿命的深紫外薄膜,需要选用适当的镀膜工艺方法。分别选取了离子束溅射法、热舟蒸发法和电子束蒸发法优化后的最佳工艺参量,在融石英基底上使用3种方法镀制了单层LaF3薄膜。首先,利用光度法得出3种方法镀制LaF3薄膜在185nm～800nm范围内的折射率n和消光系数k。然后,采用原子力显微镜对薄膜表面粗糙度进行了测量。最后,薄膜的微结构使用X射线衍射仪进行了分析。结果表明,离子束溅射镀制的LaF3薄膜折射率最高、表面粗糙度最低,但吸收较大;电子束蒸发法虽然吸收最小,但是折射率偏低且表面粗糙度较高;热舟蒸发法镀制的LaF3薄膜无论折射率、消光系数还是表面粗糙度都处于3种方法中间位置。综合各项指标,热舟蒸发法最适合于沉积深紫外LaF3薄膜。(本文来源于《激光技术》期刊2013年05期）
邓文渊,李春,金春水[2]（2010）在《电子束蒸发和离子束溅射HfO_2紫外光学薄膜》一文中研究指出HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位,不同方法制备的HfO2薄膜特性不同,可以满足不同的实际应用需求。本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜,并对薄膜的材料和光学特性进行了表征与比较。通过对单层HfO2薄膜的实测透射和反射光谱进行数值反演,得到了HfO2薄膜在230～800 nm波段的折射率和消光系数色散曲线,结果表明两种方法制备的HfO2薄膜在250nm的消光系数均小于2×10-3。在此基础上,制备了两种典型的紫外光学薄膜元件(紫外低通滤波器和240nm高反射镜),其光谱性能测试结果表明,两种不同方法制备的器件均具有较好的光学特性。(本文来源于《中国光学与应用光学》期刊2010年06期）
刘彦[3]（2010）在《电子束蒸发与磁控溅射方法镀制铬膜研究》一文中研究指出通过对铬膜附着力及表面形貌的研究得出电子束蒸发制备铬膜适宜的工艺参数为本底真空3.0×10-3Pa,电压6KV,电子束流60mA,烘烤温度100℃;磁控溅射制备铬膜的最佳工艺参数为本底真空1×10-3Pa,溅射气压为1.2×10-1Pa,溅射功率为150W,基片温度100℃。(本文来源于《科技信息》期刊2010年20期）
高立,张建民[4]（2009）在《射频磁控溅射和电子束蒸发制备Al掺杂ZnO薄膜》一文中研究指出ZnO薄膜以它较宽的禁带宽度(3.3eV)和较高的激子束缚能(60meV)引起国内外广泛关注,它还具有经济、安全、无毒性和自然储量大的优势.ZnO薄膜的导电性是由它的本征缺陷氧空位和间隙锌原子控制的,实践中为了提高它的导电性,通常采用掺杂的方法.为了深入研究Al掺杂ZnO(AZO)薄膜在微观结构上和光学、电学性能,利用射频磁控溅射(RF-MS)和电子束蒸发沉积(E-BE)方法分别制备了2wt%Al掺杂AZO薄膜,500℃温度下退火2小时后,利用X射线衍射仪等仪器对它们的物理进行了比较.结果显示,采用两种方法制备的AZO薄膜经过退火以后,(002)峰值增强,RF-MS制备的AZO薄膜只有(002)这一个强度很大的峰,说明AZO薄膜沿c轴优先生长,结晶良好;而E-BE制备的AZO薄膜除了(002)峰以外,还有(100)、(101)两个属于六方纤锌矿的较弱的峰,表明这种AZO薄膜是多晶体,利用RF-MS比利用E-BE制备的ZnO薄膜的表面颗粒度小、晶粒的均匀性好,利用谢乐(Scherrer)公式计算出利用RF-MS制备的AZO薄膜经过500℃退火以后的晶粒尺寸为30nm,利用E-BE制备的晶粒尺寸明显大很多(约90nm),表面粗糙;在透光率、光致发光特性和禁带宽度上,平均透光率均大于85%,利用对α~2与光子能量hv作图,可得出RF-MS和E-BE制备的AZO薄膜在退火以后的禁带宽度分别为3.34eV、3.32eV,它们均大于未掺杂的ZnO薄膜的禁带宽度3.30eV;PL谱中在380nm左右均出现近带边发射而没有黄绿光发射带,利用四探针装置测量了两种方法制备的AZO薄膜的电学性能,其中利用RF-MS制备的电阻率为9.8×10~(-3)Ωcm,E-BE制备的AZO薄膜电阻率为1.3×10~(-2)Ωcm,均为n型半导体薄膜.Al掺杂≤2wt%的条件下,电阻率随着掺杂浓度的提高而下降,下降的原因一是由于Al~(3+)离子以替位形式取代了Zn~(+2)离子的位置以后,来源于Al掺杂的施主电子载流子密度不断增加;二是由于无法结合的Al~(3+)离子成为间隙离子.有趣的是,Al掺杂超过了2wt%以后,电阻率随着掺杂浓度的提高反而增加.(本文来源于《2009年西部光子学学术会议论文摘要集》期刊2009-07-01）
高立,张建民[5]（2009）在《射频磁控溅射和电子束蒸发制备ZnO薄膜特性的比较》一文中研究指出利用射频磁控溅射(Radio frequency-magnetro sputtering,RF-MS)和电子束蒸发(Electron beam evaporation,E-BE)方法制备ZnO薄膜,并对两种方法制备的薄膜在400、450和500℃退火后的微观结构、光学与电学性能进行比较.结果表明,RF-MS比E-BE制备的ZnO薄膜的晶粒细小且均匀,表面粗糙度小.两种方法制备的ZnO薄膜的平均透光率均大于80%,且随温度升高均表现出禁带宽度变小以及在380 nm附近出现近带边发射和绿光发射现象.此外,E-BE比RF-MS制备的ZnO薄膜的电阻率小.(本文来源于《陕西师范大学学报(自然科学版)》期刊2009年03期）
余凤斌,夏祥华,朱德明,夏伟,冯立明[6]（2008）在《电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究》一文中研究指出利用磁控溅射法和电子束蒸发法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积了铝功能膜。测试了两种方法薄膜的膜厚、附着力、反射率、折射率和电导率。结果表明,磁控溅射法制备的铝膜的综合性能较电子束蒸制备的铝膜的性能优越。(本文来源于《稀有金属快报》期刊2008年06期）
王英剑,李庆国,范正修[7]（2003）在《电子束、离子辅助和离子束溅射叁种工艺对光学薄膜性能的影响》一文中研究指出运用电子束、离子辅助和离子束溅射叁种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响,以判断合理的沉积工艺。(本文来源于《强激光与粒子束》期刊2003年09期）
陈荣发[8]（2003）在《电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究》一文中研究指出通过对半导体器件电极制备的两种方法即电子束蒸发与磁控溅射镀铝的比较,详细分析了两种方法的膜厚控制、附着力、致密性、电导率和折射率等重要性能指标,测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子束蒸发。(本文来源于《真空》期刊2003年02期）
黄宁康,汪德志,熊兆奎[9]（1995）在《电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO_2－Y_2O_3薄膜的结构特征》一文中研究指出对射频磁控溅射沉积的ＺｒＯ２－１２ｗｔ％Ｙ２Ｏ３薄膜进行了电子束处理和热退火处理．通过ＸＲＤ、ＸＰＳ、ＳＥＭ等的微观分析，研究了薄膜的相结构组成、薄膜主要组成元素的氧化态以及薄膜的形貌特征。并对以提高薄膜增韧性为目的而进行的后处理的方式选择作了讨论。(本文来源于《核技术》期刊1995年01期）
江兴流,王天民,高金城,韩丽君,李秉清[10]（1990）在《高功率脉冲电子束溅射法制备钴-钛多层膜》一文中研究指出本文介绍一种利用高功率脉冲电子束溅射法制备金属多层膜的新方法。强脉冲电子束轰击金属靶将产生瞬态高温等离子体,从这种等离子体中飞出的金属离子沉积在附近的衬底上,从而制得Co/Ti系和其他多种金属多层膜。本文报道了对多层膜进行的TEM和AES研究的结果。(本文来源于《核技术》期刊1990年08期）
电子束溅射论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位,不同方法制备的HfO2薄膜特性不同,可以满足不同的实际应用需求。本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜,并对薄膜的材料和光学特性进行了表征与比较。通过对单层HfO2薄膜的实测透射和反射光谱进行数值反演,得到了HfO2薄膜在230～800 nm波段的折射率和消光系数色散曲线,结果表明两种方法制备的HfO2薄膜在250nm的消光系数均小于2×10-3。在此基础上,制备了两种典型的紫外光学薄膜元件(紫外低通滤波器和240nm高反射镜),其光谱性能测试结果表明,两种不同方法制备的器件均具有较好的光学特性。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
电子束溅射论文参考文献
[1].时光,梅林,高劲松,张立超,张玲花.离子束溅射、热舟和电子束法制备深紫外LaF_3薄膜[J].激光技术.2013
[2].邓文渊,李春,金春水.电子束蒸发和离子束溅射HfO_2紫外光学薄膜[J].中国光学与应用光学.2010
[3].刘彦.电子束蒸发与磁控溅射方法镀制铬膜研究[J].科技信息.2010
[4].高立,张建民.射频磁控溅射和电子束蒸发制备Al掺杂ZnO薄膜[C].2009年西部光子学学术会议论文摘要集.2009
[5].高立,张建民.射频磁控溅射和电子束蒸发制备ZnO薄膜特性的比较[J].陕西师范大学学报(自然科学版).2009
[6].余凤斌,夏祥华,朱德明,夏伟,冯立明.电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究[J].稀有金属快报.2008
[7].王英剑,李庆国,范正修.电子束、离子辅助和离子束溅射叁种工艺对光学薄膜性能的影响[J].强激光与粒子束.2003
[8].陈荣发.电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究[J].真空.2003
[9].黄宁康,汪德志,熊兆奎.电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO_2－Y_2O_3薄膜的结构特征[J].核技术.1995
[10].江兴流,王天民,高金城,韩丽君,李秉清.高功率脉冲电子束溅射法制备钴-钛多层膜[J].核技术.1990
论文知识图
